extremamente pequenas conhecidas como; rugosidade ―roughness‖ e ondulosidade ―waviness‖, melhor compreendidas observando-se a figura 4.10.
A rugosidade são asperezas, com um comprimento menor das irregularidades da superfície. A ondulosidade é o agrupamento das rugosidades em um comprimento muito maior. Em escala, a ondulosidade, está situada entre a rugosidade e o erro de forma. Sendo ambas dependentes do processo de fabricação a qual a superfície foi submetida[141]. Sendo:
• Ra, Média aritmética de todos os valores absolutos do perfil de rugosidade a partir da linha média do comprimento de leitura.
• Rq, Raiz quadrada da media aritmética dos valores absolutos elevados ao quadrado do perfil de rugosidade a partir da linha média do comprimento de leitura.
• Rp, Valor máximo de um pico de rugosidade acima da linha média. • Rpm, Média aritmética de cinco valores consecutivos de Rp.
• Rv, Valor máximo de um vale de rugosidade abaixo da linha média.
• Rt, Distância máxima, verticalmente medida, entre o mais alto pico e o mais profundo vale dentro do comprimento de leitura.
• Rz, Média aritmética entre os cinco maiores picos e os cinco maiores vales a partir da linha média do comprimento de leitura.
• Rmax Distância máxima, horizontalmente medida, entre o mais alto pico e o mais profundo vale dentro do comprimento de leitura.
As definições para a ondulosidade seguem as mesmas utilizadas para a rugosidade, trocando se o símbolo R pelo W, sendo os picos e vales determinados uma escala acima dos da rugosidade, [141], como vemos na figura 4.8.
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4.7 – Ensaio de Riscamento.
A avaliação da adesão dos recobrimentos produzidos foi realizada pelo combinando-se o ensaio de riscamento com microscopia ótica e eletrônica, utilizando-se um aparelho REVETEST da CSM, figura 4.11a, localizado no laboratório de tribologia do Setor de Desenvolvimento Tecnológico do CETEC-MG, com um penetrador tipo Rockwell C, ou seja, um penetrador de ponta de diamante cônico de 120º com raio de curvatura da ponta de 200m. As condições dos ensaios estão descritas na tabela 4.5. A condição 1 somente foi aplicada em amostras recobertas com hidroxiapatita, submetidas ou não a pos tratamentos. A condição 2 foi abandonada por não apresentar as falhas adesivas procuradas. As condições 3 e 4 foram realizados 5 riscos de cada condição em cada amostra, figura 4.11b, inclusive novas amostras de FCB.
Tabela 4.5 – Parâmetros do Ensaio de Riscamento.
Condição Velocidade de Aplicação de Carga Vz (N/mim) Velocidade de Deslocamento da Amostra Vy (mm/mim) Taxa de Aplicação de Carga TAC (N/mm) Tipo de Carregamento 1 100 10 -*- Constante acrescendo – se de 2 em 2 N. 2 100 10 10 Progressivo 3 30 10 3 Progressivo 4 60 6 10 Progressivo
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4.8 – Ensaio de Tração.
O ensaio de tração é tradicionalmente usado para determinar o grau de adesão de um recobrimento a um substrato, ou a força coesiva do recobrimento aplicando-se tensão normal em sua superfície. O ensaio consiste em recobrir uma face de uma das superfícies a qual será aplicada o carregamento e aplicar força normal à outra superfície que será unida a primeira através de uma cola especial para ensaio de tração.
O ensaio foi realizado à temperatura ambiente seguindo-se a norma ASTM C-633-79 que normaliza o ensaio de tração para recobrimentos. Foi utilizada uma máquina de ensaio de tração universal existente no Setor de desenvolvimento tecnológico do CETEC-MG.
As amostras recobertas foram coladas, utilizando-se uma cola especial, NP3 TRABASIL serie laranja de fabricação Argentina, com capacidade de tração de 400Mpa. A colagem foi realizada em contra corpos de aço 1020, sendo colado um contra corpo sobre o recobrimento e outro na parte oposta da amostra conforme figura 4.10. Foi utilizado um produto ativador, fornecido pelo fabricante, para acelerar o processo de secagem da cola.
Após 24 horas de cura as amostras foram submetidas a ensaio de tração com uma velocidade de deslocamento de 1mm/min. No ensaio foram adquiridas as tensões de ruptura ou tensões máximas ou carga crítica para o colapso do conjunto ensaiado, figura 4.12.
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4.9 – Avaliação da Microestrutura.
Para avaliarmos parâmetros microestruturais como; porosidade, distribuição qualitativa de fases, presença de partículas não fundidas ou resolidificadas utilizou-se a Microscopia Óptica (MO), Microscopia Eletrônica de Varredura, (MEV), com a produção de imagens por elétrons Secundários e a difração de raios-X.
4.9.1 – Microscopia Óptica.
A microscopia óptica foi utilizada nestas investigações para caracterizar o recobrimento em sua aparência superficial, na sua seção transversal e também na observação tribológica dos ensaios de riscamento realizados. Para este fim, utilizou-se um microscópio Leitz,dotado de escalas de medição e com ampliações de 100X, 200X e 500X. O microscópio é dotado de câmera digital Sony, modelo, DXC-107ª color operando em conjunto com um soffware de tratamento de imagens, Image-Pro. Equipamento este disponível nos laboratórios de metalografia do CETEC-MG.
4.9.2 – Microscopia Eletrônica de Varredura.
A microscopia eletrônica de varredura por elétrons secundários também foi utilizada para caracterizar microestruturalmente o recobrimento em sua aparência superficial, na sua seção transversal, na observação tribológica dos riscos realizados e na analise química pontual por EDS. Para este fim, utilizou-se um microscópio eletrônico de varredura modelo JOEL® Super Proble JCXA 733 operando em conjunto com um soffware de tratamento de imagens, Image- Pro. Equipamento este disponível nos laboratórios de microscopia eletrônica do CETEC- MG.
4.9.3 – Difratometria de raios X.
Os ensaios de difração de raios X, foram realizados em difratômetro Shimadzu modelo XRD 6000, equipado com tubo de cobalto e filtro de ferro, do ICEB da UFOP e do SDQ do CETEC-MG. O software de tratamento dos dados utilizado foi o Jade. O ângulo de varredura de todas as amostras foi de 20 a 70, com velocidade de varredura de 0,05/min.
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5 – Resultados e Discussão. 5.1 – Ensaios de Riscamento. (Condição 1).
Os parâmetros de ensaio de riscamento na Condição 1 de acordo com a tabela 4.5 da página 103 são:
Tipo de carregamento => Constante acrescendo-se de 2 em 2N até a falha coesiva. Velocidade de aplicação de carga Vz = 100N/min.
Velocidade de deslocamento da amostra Vy = 10mm/min. Taxa de aplicação de carga => TAC = 10N/mm.
O controle de espessura nesta condição foi realizado mediante alterações no número de passadas da tocha HEP, 1, 2 e 3 respectivamente para 20, 40 e 80µm. Mantendo-se fixos, distância de aspersão Da = 100mm e velocidade de deslocamento da tocha Vt = 194mm/s.
Figura 5.1 – Variação da carga crítica coesiva em função dos pós-tratamentos, térmico e imersão em SBF para recobrimentos de FCB Vermelho=20µm, Verde=40µm e Azul=80µm.
Como pode ser visualizado na figura 5.1, observa-se que em todas as condições de ensaios em SBF nas amostras STT a carga critica de falha coesiva foi superior para as amostras com espessura de recobrimento da ordem de 20m. Esta foi a condição que mais sofreu influencia do tratamento térmico, visto que sofreu as maiores reduções dos valores de carga crítica, ver (Anexo I, pg 205 a 209). Isso se deve, provavelmente, aos efeitos da cristalização das fases
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