• Nenhum resultado encontrado

1.3 Organiza¸c˜ ao do Trabalho

3.1.1 OTA Revis˜ ao Bibliogr´ afica

3.1.1.1 Amplificadores Operacionais

A raz˜ao para se usar um amplificador Folded Cascode para o desenvolvimento de amplificadores ´e, principalmente, sanar as inabilidades de amplificadores de dois est´agios tais como: ganho insuficiente, largura de banda para ganho est´avel ser limitada e baixa raz˜ao de rejei¸c˜ao de fonte de alimenta¸c˜ao (PSRR) devido `a compensa¸c˜ao Miller.

Os amplificadores operacionais Folded Cascode sanam tais limita¸c˜oes j´a que a trans- condutˆancia ´e aumentada bem como a impedˆancia de sa´ıda. A arquitetura do amplificador utilizado neste trabalho utiliza a estrutura Cascode no est´agio de sa´ıda, representado na Figura 13 pelos transistores MCascN e MCascP.

Com o correto layout dos dispositivos, como ser´a mostrado nas sess˜oes e cap´ıtulos seguintes, esta topologia apresenta ainda caracter´ısticas interessantes com rela¸c˜ao a ru´ıdo,

3.1 OTA Folded Cascode 34

Figura 13: Folded Cascode OTA Utilizado para Desenvolvimento do Amplificador Neural Proposto.

tais como baixo ru´ıdo referenciado `a entrada e um fator de eficiˆencia a ru´ıdo (NEF) bastante aceit´avel.

3.1.1.2 Ru´ıdo

O ru´ıdo em circuitos MOS representa um grande problema para aplica¸c˜oes em neu- rologia, visto que os sinais a serem medidos no escalpo do paciente, como mostrados no Cap´ıtulo 2, s˜ao de baixa magnitude e, dependendo do tipo de sinal e paciente, pode ser da mesma ordem de grandeza do pr´oprio sinal.

Dispositivos bipolares geram menos ru´ıdo que os dispositivos MOS mas, no entanto, apresentam outras adversidades como consumo de energia e dificuldade de implementa¸c˜ao em processos atuais. Basicamente, para aplica¸c˜oes como amplificadores operacionais, s˜ao modelados dois tipos de ru´ıdo:

ˆ Ru´ıdo Flicker ou Ru´ıdo 1

O ru´ıdo rosa ocorre em qualquer dispositivo eletrˆonico devido `a combina¸c˜ao dos portadores (el´etrons ou lacunas) dentro do dispositivo. Para dispositivos MOS pode ser entendido como a varia¸c˜ao da corrente ao longo do canal devido `a recombina¸c˜ao dos portadores majorit´arios atravessando o canal. A recombina¸c˜ao n˜ao ´e uniforme e segue uma distribui¸c˜ao totalmente aleat´oria, o que na realidade gera o ru´ıdo rosa.

Este ru´ıdo apresenta efeitos muito grandes para circuitos que operam em baixa frequˆencia j´a que o mesmo possui grande magnitude em frequˆencias baixas. O ru´ıdo rosa em dispositivos pMOS ´e tipicamente de uma a duas ordens de grandeza menor do que em dispositivos nMOS [12], desde que a tens˜ao VGS n˜ao exceda muito a

tens˜ao VT H [13] [14].

O ru´ıdo rosa ´e modelado como uma fonte de tens˜ao em s´erie com o gate do transistor MOS, na forma:

Vg2(f ) =

K W.L.COX.f

(3.1)

onde K ´e um coeficiente dependente das caracter´ısticas do dispositivo e pode variar bastante para diferentes dispositivos difundidos num mesmo processo.

Pode-se observar que este ru´ıdo ´e inversamente proporcional a ´area do dispositivo. Essa caracter´ıstica ser´a utilizada neste trabalho para o dimensionamento do par diferencial e consequente diminui¸c˜ao do ruido.

ˆ Ru´ıdo T´ermico

O ru´ıdo t´ermico tamb´em ocorre em quaisquer dispositivos eletrˆonicos, pois como n˜ao s˜ao dispositivos ideais, sempre apresentam caracter´ısticas parasitas e neste caso em espec´ıfico, a resistˆencia do canal e dos contatos dos dispositivos MOS. Caso o transistor esteja na regi˜ao de triodo, a corrente oriunda do ru´ıdo t´ermico no dreno devido `a resistˆencia do canal ´e dada por (3.2) [12]:

Id2(f ) =

4.k.T rds

(3.2)

onde rds´e a resistˆencia do canal e k ´e a Constante de de Boltzmann. J´a para a regi˜ao

ativa, o canal n˜ao pode ser considerado uma regi˜ao de resistˆencia homogˆenea devido aos efeitos de estrangulamento do canal e desta forma o ru´ıdo t´ermico ´e encontrado fazendo-se a integral de pequenas por¸c˜oes do canal, resultando na equa¸c˜ao (3.3).

Id2(f ) = 4.k.T.

2

3.gm (3.3)

3.1 OTA Folded Cascode 36

Figura 14, em que o ru´ıdo t´ermico ´e modelado como uma fonte de corrente entre dreno e fonte do dispositivo e o ru´ıdo rosa ´e modelado como uma fonte de tens˜ao na entrada do gate.

Figura 14: Modelagens dos Ru´ıdos num Dispositivo MOS.

3.1.1.3 Fator de Eficiˆencia a Ru´ıdo - NEF

A figura de m´erito fator de eficiˆencia a ru´ıdo (NEF) ´e amplamente utilizada em cir- cuitos voltados `a ´area m´edica (devido `a baixa amplitude dos sinais e necessidade de baixo consumo de energia) pois relaciona o ru´ıdo que o pr´oprio circuito produz e a potˆencia dissipada pelo mesmo. O NEF [15], ´e equacionado por:

N EF = Vni,rms. r 2.IT otal π.UT.4kT.BW (3.4) onde:

ˆ Vni,rms ´e o ru´ıdo gerado pelo circuito, em tens˜ao rms;

ˆ IT otal ´e toda a corrente drenada pelo circuito;

ˆ BW ´e a largura de banda em Hertz.

Para se entender melhor o NEF, ´e feita uma compara¸c˜ao com o transistor bipolar, o qual ´e considerado n˜ao ter ru´ıdo rosa. Para estes dispositivos, o NEF ´e dito ser igual a 1. Todos os circuitos reais, na verdade, possuem NEF maior que 1.

Uma an´alise mais profunda do NEF do circuito proposto, pode ser feita tomando-se o ru´ıdo t´ermico gerado pelo circuito, dado pela Equa¸c˜ao 3.5 que ser´a explicada com mais detalhes na sess˜ao 3.1.2. v2 ni,termico =  16.k.T 3.gm1 .  1 + 2.gm3 gm1 + gm7 gm1  .∆f (3.5)

Substituindo Vni,rmsda Equa¸c˜ao (3.4) pela Equa¸c˜ao (3.5), integrada para toda largura

de banda BW e assumindo gm3 e gm7  gm1 (o que ´e totalmente plauz´ıvel pela Tabela

N EF = s 4.IT otal 3.UT.gm1 = s 16 3.UT .ID1 gm1 (3.6) onde:

ˆ ID1 ´e a corrente de dreno atrav´es de M1 ou M2 que, como pode ser observado pela

Figura 13 ´e 1

4 de IT otal;

Desta forma, conclui-se que, para se minimizar o NEF, a transcondutˆancia relativa gm

ID

dos transisotres pMOS do par diferencial deve ser aumentada. Por essa raz˜ao, estes dispositvos s˜ao dimensionados de forma a se garantir sua opera¸c˜ao em satura¸c˜ao - invers˜ao fraca j´a que nesta regi˜ao esta transcondutˆancia relativa atinge o m´aximo valor de κ

UT

.

Utilizando um modelo mais apurado de ru´ıdo t´ermico v´alido para regi˜oes de satura¸c˜ao - invers˜ao fraca apresentado por [13], o NEF se torna:

N EF = s 4 κ.UT .ID1 gm1 (3.7)

E finalmente, assumindo um valor de κ de ≈ 0, 7 (calculado no Apˆendice B, Tabela 3), para satura¸c˜ao - invers˜ao fraca, o NEF pode ser reduzido `a Equa¸c˜ao (3.8).

N EF = r

4

κ2 ≈ 2, 9 (3.8)

Este valor de 2,9 pode ser considerado o limite te´orico de NEF, para a arquitetura de OTA empregada neste trabalho, com a utiliza¸c˜ao de transistores MOS [6].

Documentos relacionados