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Síntese e caracterização dos óxidos TiO2 , SnO2 e In2O3 dopados com Fe sintetizados por moagem mecânica: influência das ferramentas de moagem

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(1)

CENTRO DE TECNOLOGIA

DEPARTAMENTO DE ENGENHARIA METAL ´URGICA E DE MATERIAIS PROGRAMA DE P ´OS-GRADUAC¸ ˜AO EM ENGENHARIA E CIˆENCIA DE

MATERIAIS

Gislˆ

ania Maria de Souza Lima Mendes

S´ıntese e Caracterizac

¸˜

ao dos ´

oxidos TiO

2

, SnO

2

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encia das ferramentas de moagem

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S´ıntese e Caracterizac

¸˜

ao dos ´

oxidos TiO

2

, SnO

2

e

In

2

O

3

dopados com Fe sintetizados por moagem

mecˆ

anica: influˆ

encia das ferramentas de moagem

Disserta¸c˜ao apresentada ao Programa de P´os-Gradua¸c˜ao em Engenharia e Ciˆencia de Materiais como parte dos requisitos para obten¸c˜ao do t´ıtulo de Mestre em Engenharia e Ciˆencia de Materiais.

´

Area de concentra¸c˜ao: Propriedades F´ısicas e Mecˆanicas dos Materiais.

Orientador: Prof. Dr. Igor Frota de Vasconcelos

(3)

Universidade Federal do Ceará

Biblioteca de Pós-Graduação em Engenharia - BPGE

M491s Mendes, Gislânia Maria de Souza Lima.

Síntese e caracterização dos óxidos TiO2, SnO2 e In2O3 dopados com Fe sintetizados por moagem mecânica: influência das ferramentas de moagem / Gislânia Maria de Souza Lima Mendes. – 2013.

78 f. : il. color. , enc. ; 30 cm.

Dissertação (mestrado) – Universidade Federal do Ceará, Centro de Tecnologia, Departamento de Engenharia Metalúrgica e de Materiais, Programa de Pós-Graduação em Engenharia e Ciência de Materiais, Fortaleza, 2013.

Área de Concentração: Propriedades Físicas e Mecânicas dos Materiais. Orientação: Prof. Dr. Igor Frota de Vasconcelos.

1. Ciência dos materiais. 2. Semicondutores - Dopagem. I. Título.

(4)
(5)
(6)

A Deus pela gra¸ca e miseric´ordia que tem me alcan¸cado todos os dias.

Ao meu esposo Wendel Mendes pelo amor, amizade e cuidado que sempre tem comigo me fazendo feliz todos os dias.

Aos meus pais Francisco Sousa Lima (in memoriam) e Regina Luiza de Lima. Obri-gada pelo amor, carinho e pelos s´abios ensinamentos.

Aos meus irm˜aos que sempre apoiaram as minhas decis˜oes e , mesmo estando longe, estavam pr´oximos.

Ao Prof. Igor Frota de Vasconcelos pela orienta¸c˜ao e pelo voto de confian¸ca depositado a mim.

Ao Profs. Alexandre Magno Rodrigues Teixeira da Universidade Regional do Cariri e Pierre Bas´ılio Almeida Fechine da Universidade Federal do Cear´a pela disponibilidade de participarem da banca examinadora desta disserta¸c˜ao.

Aos Profs. Lindberg Gon¸calves, Marcelo Gomes da Silva e Jos´e Marcos Sasaki pelos conhecimentos repassados durante as aulas ministradas.

Ao Prof. Sasaki e aos colegas ´Edipo e Tereza Raquel do Laborat´orio de Raios-X pela disponibilidade e realiza¸c˜ao das medidas de difra¸c˜ao de raios-x.

Aos meus colegas de laborat´orio Thiago Ribeiro pela parceria, Iran Silva, Oliveira Junior, Kleyton Jˆanio, Maur´ıcio Pereira e Anderson Lima pela amizade e companheirismo que foram de muita importˆancia.

Aos colegas de mestrado especialmente a Suely, Joelane, Caroliny, Ricardo e Edilan. `

A coordena¸c˜ao do Programa de P´os-Gradua¸c˜ao em Engenharia e Ciˆencia de Materiais, especialmente ao Lucivaldo por ser sempre atencioso e eficiente em seu trabalho.

`

(7)

RESUMO

(8)

das medidas de espectroscopia M¨ossbauer e difra¸c˜ao de raios-x mostraram que, com o aumento do tempo de moagem, o Fe3+ entra na matriz dos compostos semicondutores substituindo o Ti4+, Sn4+ou In3+em s´ıtios octa´edricos. Foi observado tamb´em a forma¸c˜ao de um s´ıtio com deficiˆencia de oxigˆenio nos compostos finais que pode ser atribu´ıdo ao pro-cesso e longos tempos de moagem ou ainda ao desbalan¸co estequiom´etrico dos compostos precursores usados na moagem.

(9)

ABSTRACT

(10)

sites. It was also observed the formation of oxygen deficient sites in the final compounds that may be attributed to long milling times or to stoichiometric imbalance between the precursor compounds used in the milling processes.

(11)

LISTA DE FIGURAS

2.1 Diagrama de bandas de um semicondutor puro em T = 0. . . 4

2.2 Esquematiza¸c˜ao de bandas de energia para um metal, um isolante e um semicondutor. . . 5

2.3 Processos direto e indireto de absor¸c˜ao de energia por semicondutores. . . . 8

2.4 Modelo esquem´atico de um cristal de Si dopado com impurezas substituci-onais aceitadoras e doadoras de el´etrons. . . 10

2.5 Trˆes tipos de semicondutores: semicondutor magn´etico, semicondutor magn´etico dilu´ıdo, e semicondutor n˜ao magn´etico. . . 10

2.6 C´elula unit´aria do TiO2. . . 12

2.7 C´elula unit´aria do SnO2. . . 13

2.8 C´elula unit´aria do In2O3. . . 14

2.9 S´ıtios ocupados por ´ıons In3+ na estrutura do In 2O3. . . 15

3.1 Representa¸c˜ao esquem´atica dos moinhos planet´ario e vibrat´orio. . . 18

3.2 Representa¸c˜ao esquem´atica dos moinhos atritador e horizontal. . . 19

3.3 Emiss˜ao e absor¸c˜ao ressonante. . . 21

3.4 Distribui¸c˜ao de Breit-Wigner. . . 22

3.5 Intera¸c˜ao monopolar el´etrica e deslocamento isom´erico. . . 25

3.6 Intera¸c˜ao quadrupolar el´etrica e desdobramento quadrupolar. . . 26

3.7 Intera¸c˜ao dipolar magn´etica e desdobramento magn´etico. . . 28

3.8 Esquema de decaimento radioativo do is´otopo 57Co. . . 29

3.9 Arranjo experimental da espectroscopia M¨ossbauer no modo de transmiss˜ao. 30 3.10 Diagrama esquem´atico da lei de Bragg. . . 31

5.1 Espectros M¨ossbauer das amostras Ti0,90Fe0,10O2−y processadas em jarra de poliacetal com esferas de zircˆonia durante v´arios tempos de moagem. . . 39

5.2 Difratograma de raios-x da amostra Ti0,90Fe0,10O2−y processada em jarra de poliacetal com esferas de zircˆonia por 40 h. . . 40

5.3 Espectros M¨ossbauer das amostras Ti0,90Fe0,10O2−y processadas em jarra de a¸co inox com esferas de a¸co inox durante v´arios tempos de moagem. . . 42

5.4 Espectros M¨ossbauer das amostras Ti1−xFexO2−y com x= 0,02; 0,05; 0,10 processadas em jarra de a¸co inox e esferas de a¸co inox. . . 44

5.5 Espectros M¨ossbauer das amostras Ti1−xFexO2−y com x= 0,02; 0,05; 0,10 processadas em jarra de a¸co inox e esferas de a¸co inox e lavadas com HCl. . 46

5.6 Difratogramas de raios-x das amostras Ti1−xFexO2−y com x = 0,02; 0,05; 0,10 processadas em jarra de a¸co inox e esferas de a¸co inox e lavadas com HCl. . . 48

(12)

de alumina e esferas zircˆonia durante v´arios tempos de moagem. . . 52 5.9 Espectros M¨ossbauer das amostras Sn1−xFexO2−y com x = 0,05 e 0,10

processadas em jarra de alumina e esferas zircˆonia. . . 54 5.10 Difratogramas de raios-x das amostras Sn1−xFexO2−y com x= 0,05 e 0,10

processadas em jarra de alumina e esferas de zircˆonia. . . 56 5.11 Gr´aficos de Williamson-Hall das amostras Sn1−xFexO2−y com x = 0,05 e

0,10 processadas em jarra de alumina e esferas de zircˆonia. . . 57 5.12 Espectros M¨ossbauer das amostras Ti1−xFexO2−y com x= 0,02; 0,05; 0,10

processadas em jarra de alumina e esferas de zircˆonia. . . 58 5.13 Difratogramas de raios-x das amostras Ti1−xFexO2−y com x = 0,05 e 0,10

processadas em jarra de alumina e esferas de zircˆonia. . . 60 5.14 Gr´aficos de Williamson-Hall das amostras Ti1−xFexO2−y com x = 0,05 e

0,10 processadas em jarra de alumina e esferas de zircˆonia. . . 62 5.15 Espectros M¨ossbauer das amostras (In1−xFex)2O3 com x = 0,05 e 0,10

processadas em jarra de alumina e esferas de zircˆonia. . . 64 5.16 Difratogramas das amostras de (In1−xFex)2O3 com x= 0,05 e 0,10

proces-sadas em jarra de alumina e esferas de zircˆonia. . . 66 5.17 Gr´aficos de Williamson-Hal das amostras de (In1−xFex)2O3 com x = 0,05

(13)

LISTA DE TABELAS

3.1 Valores do deslocamento isom´erico para alguns estados de oxida¸c˜ao do ferro (alto spin) medidos em rela¸c˜ao ao α-Fe. . . 26 5.1 Parˆametros hiperfinos das amostras Ti0,90Fe0,10O2−y processadas em jarra

de poliacetal com esferas de zircˆonia durante v´arios tempos de moagem. . . 40 5.2 Parˆametros hiperfinos das amostras Ti0,90Fe0,10O2−y processadas em jarra

de a¸co inox com esferas de a¸co inox durante v´arios tempos de moagem. . . 41 5.3 Parˆametros hiperfinos das amostras Ti1−xFexO2−y comx= 0,02; 0,05; 0,10

processadas em jarra de a¸co inox e esferas de a¸co inox. . . 45 5.4 Parˆametros hiperfinos das amostras Ti1−xFexO2−y comx= 0,02; 0,05; 0,10

processadas em jarra de a¸co inox e esferas de a¸co inox e lavadas com HCl. . 47 5.5 Parˆametros estruturais das amostras Ti1−xFexO2−y com x = 0,02; 0,05;

0,10 processadas em jarra de a¸co inox e esferas de a¸co inox e lavadas com HCl. . . 49 5.6 Parˆametros hiperfinos das amostras Sn0,90Fe0,10O2−y processadas em jarra

de alumina e esferas zircˆonia durante v´arios tempos de moagem. . . 53 5.7 Parˆametros hiperfinos das amostras Sn1−xFexO2−y com x = 0,05 e 0,10

processadas em jarra de alumina e esferas de zircˆonia. . . 54 5.8 Parˆametros estruturais das amostras Sn1−xFexO2−y com x = 0,05 e 0,10

processadas em jarra de alumina e esferas de zircˆonia. . . 56 5.9 Parˆametros hiperfinos das amostras Ti1−xFexO2−y comx= 0,02; 0,05; 0,10

processadas em jarra de alumina e esferas zircˆonia. . . 59 5.10 Parˆametros estruturais das amostras Ti1−xFexO2−y com x = 0,02; 0,05;

0,10 processadas na jarra de alumina e esferas de zircˆonia . . . 61 5.11 Parˆametros hiperfinos das amostras de (In1−xFex)2O3 com x= 0,05 e 0,10

processadas em jarra de alumina e esferas de zircˆonia. . . 64 5.12 Parˆametros estruturais das amostras (In1−xFex)2O3 com x = 0,05 e 0,10

(14)

1. INTRODUC¸ ˜AO E OBJETIVOS . . . 1

2. SEMICONDUTORES . . . 4

2.1 Banda Proibida . . . 6

2.2 Semicondutores Intr´ınsecos . . . 8

2.3 Semicondutores Extr´ınsecos . . . 8

2.4 Semicondutores Magn´eticos Dilu´ıdos (SMD) . . . 10

2.5 Oxidos Semicondutores . . . 11´

2.5.1 Di´oxido de Titˆanio (TiO2) . . . 11

2.5.2 Di´oxido de Estanho (SnO2) . . . 12

2.5.3 Oxido de ´Indio (In´ 2O3) . . . 13

2.6 Oxidos Semicondutores Magn´eticos Dilu´ıdos (O-SMD) . . . 14´

3. T´ECNICAS EXPERIMENTAIS . . . 17

3.1 T´ecnica de S´ıntese: Moagem Mecˆanica de Altas Energias . . . 17

3.2 T´ecnicas de Caracteriza¸c˜ao . . . 19

3.2.1 Espectroscopia M¨ossbauer . . . 19

3.2.1.1 O Efeito M¨ossbauer . . . 20

3.2.1.2 Descoberta do Efeito . . . 21

3.2.1.3 Intera¸c˜oes Hiperfinas . . . 23

3.2.1.4 Espectroscopia M¨ossbauer . . . 28

3.2.2 Difra¸c˜ao de Raios-X . . . 30

3.2.2.1 Lei de Bragg . . . 30

3.2.2.2 M´etodo de Refinamento Rietveld . . . 32

3.2.2.3 Tamanho do Cristalito e Gr´afico de Williamson-Hall . . . 33

4. PROCEDIMENTO EXPERIMENTAL . . . 35

4.1 Prepara¸c˜ao das amostras . . . 35

4.2 Caracteriza¸c˜ao das Amostras . . . 37

4.2.1 Espectroscopia M¨ossbauer . . . 37

4.2.2 Difra¸c˜ao de Raios-X . . . 37

5. RESULTADOS E DISCUSS ˜AO . . . 38

5.1 S´ıntese realizada em jarra de poliacetal e esferas de zircˆonia . . . 38

5.1.1 TiO2 + Fe2O3 - s´erie temporal . . . 38

5.2 S´ıntese realizada em jarra e esferas de a¸co inoxid´avel . . . 41

5.2.1 TiO2 + Fe2O3 - s´erie temporal . . . 41

(15)

5.3.1 SnO2 + Fe2O3 - s´erie temporal . . . 50

5.3.2 SnO2 + Fe2O3 - s´erie de concentra¸c˜oes . . . 53

5.3.3 TiO2 + Fe2O3 - s´erie de concentra¸c˜oes . . . 57

5.3.4 In2O3 + Fe2O3 - s´erie de concentra¸c˜oes . . . 62

5.4 Compara¸c˜ao entre as Ferramentas de Moagem . . . 68

6. CONCLUS ˜AO . . . 70

(16)

1. INTRODUC

¸ ˜

AO E OBJETIVOS

Os semicondutores formam uma classe importante de materiais devido a suas aplica¸c˜oes tecnol´ogicas. Uma de suas aplica¸c˜oes mais importantes ´e o desenvolvimento da tecnologia da informa¸c˜ao. Esse desenvolvimento tem sido poss´ıvel em raz˜ao da miniaturiza¸c˜ao dos elementos l´ogicos que permitem a constru¸c˜ao de sistemas compactos com grande poder de computa¸c˜ao ou de mem´oria.

Outra raz˜ao pela qual os semicondutores s˜ao tecnologicamente importantes ´e a pos-sibilidade de alterar as suas propriedades eletrˆonicas pela incorpora¸c˜ao de quantidades muito pequenas de certos ´atomos que diferem no n´umero de el´etrons de valˆencia dos en-contrados no cristal puro. Este processo, chamado de dopagem, pode levar a um grande aumento na condutividade [Ihn 2010].

Quando ´atomos magn´eticos s˜ao inseridos de forma proposital (processo de dopagem) em uma matriz semicondutora, ser´a formado um semicondutor magn´etico dilu´ıdo (SMD). Os SMDs s˜ao compostos formados, usualmente, por trˆes elementos qu´ımicos, onde um desses elementos ´e substitu´ıdo aleatoriamente por um elemento magn´etico, como por exemplo Fe ou Mn.

Os SMDs constituem uma importante classe de materiais para aplica¸c˜ao na spintrˆonica. Diferentemente da eletrˆonica usual na qual a informa¸c˜ao ´e baseada no transporte de carga, na spintrˆonica tal informa¸c˜ao ´e transportada atrav´es do grau de liberdade intr´ınseco do el´etron, o spin [Wolfet al. 2001].

(17)

trans-parˆencia e durabilidade al´em de n˜ao causarem danos ao meio ambiente. Quando ´oxidos semicondutores dopados com metais de transi¸c˜ao apresentam ferromagnetismo `a tempe-ratura ambiente eles constituem um material importante para aplica¸c˜ao na spintrˆonica [Fukumura et al. 2005].

A s´ıntese para obten¸c˜ao destes compostos pode ser feita por v´arias t´ecnicas, entre elas destaca-se a moagem mecˆanica de altas energias que ser´a utilizada neste trabalho. A moagem mecˆanica tem sido ´util para produzir materiais homogˆeneos a partir de mis-turas combinadas de p´os elementares. Este processo ´e utilizado para produzir ligas e compostos `a temperatura ambiente [Suryanarayana 2001]. Esta t´ecnica ´e uma ferramenta poderosa para a fabrica¸c˜ao de materiais avan¸cados no ramo da engenharia e apresenta algumas vantagens relacionada ao custo dos equipamentos (moinhos, recipientes, esferas etc.), consumo de energia e simplicidade na execu¸c˜ao.

...

O objetivo deste trabalho ´e sintetizar e caracterizar ´oxidos semicondutores magn´eticos dilu´ıdos do tipo TiO2, SnO2 e In2O3 dopados com Fe+3 atrav´es da t´ecnica de moagem mecˆanica de altas energias. Como objetivos espec´ıficos, deseja-se: verificar a dopagem do composto atrav´es da t´ecnica de espectroscopia M¨ossbauer, fazer a caracteriza¸c˜ao estru-tural dos compostos atrav´es da t´ecnica de difra¸c˜ao de raios-x e verificar a influˆencia das ferramentas de moagem.

(18)
(19)

2. SEMICONDUTORES

Este cap´ıtulo apresenta um breve levantamento de princ´ıpios fundamentais de semicon-dutores. Ao leitor interessado em aprofundar seus conhecimentos no assunto ´e sugerida a leitura de um ou mais de v´arios textos dispon´ıveis, como Ashcroft e Mermin [2011], Kittel [2006], McKelvey [1966], Rezende [2004], Yu e Cardona [2010].

Os semicondutores s˜ao caracterizados por uma banda de valˆencia cheia e uma banda de condu¸c˜ao vazia a T = 0, separadas por um gap de energia relativamente pequeno. O gap de energia, tamb´em chamado banda proibida, ´e uma regi˜ao que possui estados de energia inacess´ıveis para os el´etrons. A largura da banda proibida Eg ´e a diferen¸ca de energia entre o ponto mais baixo da banda de condu¸c˜ao e o ponto mais alto da banda de valˆencia como mostra a Figura 2.1.

Figura 2.1: Diagrama de bandas de um semicondutor puro em T = 0.

(20)

Materiais comgapzero s˜ao denominados condutores (metais ou semimetais), enquanto aqueles com umgapde energia maior que aproximadamente 3 el´etron-volts (eV) s˜ao mais frequentemente conhecidos como isolantes. Um semicondutor pode ser definido como um material cujogapde energia para excita¸c˜oes eletrˆonicas situa-se entre zero e cerca de 4 eV. A Figura 2.2 mostra a esquematiza¸c˜ao para bandas de energia de um metal, um semicondutor e um isolante. No zero absoluto o semicondutor ´e um isolante perfeito, j´a que n˜ao existem bandas parcialmente cheias. Em altas temperaturas, alguns el´etrons da banda de valˆencia podem adquirir energia t´ermica suficiente para serem excitados e atravessarem a banda proibida, tornando-se el´etrons de condu¸c˜ao na banda que at´e ent˜ao estava vazia.

Figura 2.2: Esquematiza¸c˜ao de bandas de energia para um metal, um iso-lante e um semicondutor.

0000000 0000000 0000000 0000000 0000000 1111111 1111111 1111111 1111111 1111111 0000000 0000000 0000000 0000000 1111111 1111111 1111111 1111111 000000 000000 000000 000000 000000 111111 111111 111111 111111 111111 E E Energia E g c Semicondutor Isolante Metal Banda Cond. Banda Val. Ev

Fonte: Ribeiro [2010]

A excita¸c˜ao t´ermica de um el´etron da banda de valˆencia para a banda de condu¸c˜ao corresponde fisicamente `a remo¸c˜ao de um el´etron de um par de liga¸c˜oes covalentes devido `a agita¸c˜ao t´ermica da rede. O el´etron torna-se ent˜ao livre, fora da liga¸c˜ao covalente e estar´a dispon´ıvel para funcionar como um portador de carga para conduzir corrente atrav´es do cristal.

(21)

con-dutividade alta e os isolantes tem concon-dutividade baixa, enquanto que os semicondutores est˜ao entre esses extremos justificando assim o seu nome. A condutividade pode ser al-terada mediante adi¸c˜ao de impurezas e pelo n´umero de el´etrons que passam da banda de valˆencia para a banda de condu¸c˜ao.

Os principais elementos semicondutores s˜ao os da coluna IV da tabela peri´odica. O sil´ıcio e o germˆanio s˜ao os dois semicondutores elementares mais importantes. Al´em dos elementos semicondutores, existe uma variedade de compostos semicondutores como aqueles do tipo III-V formados por elementos dos grupos III e V da tabela peri´odica, por exemplo o GaAs, o InP entre outros. H´a tamb´em os compostos II-VI como o CdS e o PbS.

O processo de inserir impurezas de elementos conhecidos em um semicondutor ´e cha-mado de dopagem. ´E esta propriedade que possibilita a fabrica¸c˜ao de uma variedade de dispositivos eletrˆonicos a partir do mesmo material semicondutor. Os semicondutores de alta pureza apresentam uma condutividade intr´ınseca, ou seja, suas propriedades el´etricas n˜ao dependem das impurezas presentes na faixa intr´ınseca de temperatura, enquanto os semicondutores menos puros apresentam uma condutividade extr´ınseca associada a im-purezas.

2.1 Banda Proibida

A banda proibida ougap de energia pode ser medida de diversas formas. Uma forma ´e por absor¸c˜ao ´optica. Quando um f´oton de energia~ω´e absorvido num semicondutor, um el´etron passa da banda de valˆencia para a banda de condu¸c˜ao, isto ´e, el´etrons e buracos s˜ao criados aos pares.

Se o m´ınimo da banda de condu¸c˜ao e o m´aximo da banda de valˆencia estiverem associados ao mesmo ponto no espa¸co rec´ıproco k, ent˜ao a energia do gap Eg pode ser determinada diretamente como a diferen¸ca entre o ponto m´ınimo da banda de condu¸c˜ao e o ponto m´aximo da banda de valˆencia, ou seja,

(22)

ondeEc eEv s˜ao as energias no ponto mais baixo da banda de condu¸c˜ao e no ponto mais alto da banda de valˆencia respectivamente. Este processo ´e denominado processo direto de absor¸c˜ao e o semicondutor ´e dito ser degap direto. Neste semicondutor a transi¸c˜ao ´e feita com energia m´ınima, e a energia dogap´e a pr´opria energia do f´oton absorvido:

Eg =~ωg (2.2)

onde ωg ´e o limiar de absor¸c˜ao ´optica. F´otons com energia menor que Eg atravessam o semicondutor sem absor¸c˜ao por transi¸c˜ao entre as bandas.

No caso de semicondutores de gap indireto a situa¸c˜ao ´e mais complicada. Neste caso o m´ınimo da banda de condu¸c˜ao e o m´aximo da banda de valˆencia n˜ao coincidem com o mesmo ponto no espa¸co k, sendo assim, a transi¸c˜ao de um el´etron da banda de valˆencia para a banda de condu¸c˜ao ir´a requerer uma grande mudan¸ca no vetor de onda. Isto n˜ao pode ser feito somente com a absor¸c˜ao de um f´oton, pois este tem k ≃ 0. Dessa forma esta transi¸c˜ao pode ocorrer com a absor¸c˜ao de um f´oton de energia ~ω e vetor de onda desprez´ıvel (k ≃ 0), acompanhada da absor¸c˜ao de um fˆonon de energia~Ω e momentum ~~k para satisfazer a lei da conserva¸c˜ao do momento.

Note que no caso do processo com absor¸c˜ao de fˆonon, a energia m´ınima do f´oton necess´aria para produzir a transi¸c˜ao ´e

~ω =Eg+~, (2.3)

(23)

Figura 2.3: (a) Processo direto de absor¸c˜ao e (b) Processo indireto de absor¸c˜ao de energia por semicondutores.

(a) (b)

Fonte: Kittel [2006]

2.2 Semicondutores Intr´ınsecos

Quando um semicondutor n˜ao cont´em impurezas em quantidades suficientes para al-terar as suas propriedades, ele ´e dito um semicondutor intr´ınseco. Os semicondutores intr´ınsecos s˜ao pouco utilizados em dispositivos pois sua condutividade ´e pequena e de-pende muito da temperatura.

No caso intr´ınseco, os el´etrons da banda de condu¸c˜ao s˜ao provenientes de n´ıveis da banda de valˆencia anteriormente ocupados, deixando buracos para tr´as. Portanto, o n´umero de el´etrons na banda de condu¸c˜ao ´e igual ao n´umero de buracos deixados na banda de valˆencia, ou seja,

ne =nb. (2.4)

2.3 Semicondutores Extr´ınsecos

(24)

variedade de dispositivos eletrˆonicos.

As impurezas usadas na dopagem de um semicondutor extr´ınseco podem ser de dois tipos: doadoras ou aceitadoras de el´etrons. Impurezas doadoras s˜ao ´atomos que tem valˆencia mais alta do que os ´atomos que formam o material hospedeiro, enquanto que as impurezas aceitadoras (receptoras) tem valˆencia mais baixa.

Para exemplificar a dopagem com esses dois tipos de impurezas, considere um elemento semicondutor do grupo IV da tabela peri´odica, por exemplo, o sil´ıcio, como material hos-pedeiro. Ao adicionar ao Si uma pequena quantidade de uma impureza pentavalente, por exemplo o arsˆenio, esta impureza pode facilmente entrar no cristal no lugar do ´atomo de Si, sem fazer grandes modifica¸c˜oes na rede cristalina, resultando na forma¸c˜ao de im-purezas substitucionais, como ilustrado na Figura 2.4. Apenas quatro dos cinco el´etrons de valˆencia do As s˜ao utilizados nas liga¸c˜oes covalentes com os ´atomos de Si. O quinto el´etron fica livre para se movimentar pelo cristal. Neste caso, o As funciona como uma impureza doadora de el´etrons para o Si.

Por outro lado, a adi¸c˜ao de ´atomos de impurezas trivalentes como o g´alio, h´a um el´etron a menos dos quatro necess´ario para completar as liga¸c˜oes covalentes com os ´atomos de Si, com mostra a Figura 2.4. Essa liga¸c˜ao qu´ımica n˜ao satisfeita tende a capturar um el´etron da banda de valˆencia deixando um buraco. Estas s˜ao chamadas impurezas aceitadoras de el´etrons.

(25)

Figura 2.4: Modelo esquem´atico de um cristal de Si dopado com impurezas substitucionais Ga (aceitador) e As (doador). As esferas brancas representam os ´atomos de Sil´ıcio.

Fonte: Rezende [2004]

2.4 Semicondutores Magn´eticos Dilu´ıdos (SMD)

A hist´oria dos SMD come¸cou por volta de 1960 visando a realiza¸c˜ao de novas funcio-nalidades pela combina¸c˜ao de transporte el´etrico e magnetismo em um mesmo material. SMDs s˜ao semicondutores compostos onde alguns ´atomos s˜ao substitu´ıdos aleatoriamente por ´atomos magn´eticos. Eles tˆem sido estudados extensivamente devido a seu potencial de aplica¸c˜ao na spintrˆonica [Wolf et al. 2001]. Para uma melhor compreens˜ao a Figura 2.5 mostra uma esquematiza¸c˜ao desses compostos.

Figura 2.5: Trˆes tipos de semicondutores: (a) um semicondutor n˜ao magn´etico, (b) um semicondutor magn´etico, e (c) um semicondutor magn´etico dilu´ıdo.

(26)

Os SMDs s˜ao compostos formados por trˆes elementos qu´ımicos, onde um desses ele-mentos ´e substitu´ıdo aleatoriamente por um elemento magn´etico, como por exemplo Fe3+ ou Mn2+. A maioria dos SMDs estudados s˜ao compostos dos tipos AII

1−xMxBVI, AIII1−xMxBV e AIV

1−xMxBIV, onde os elementos AII, AIII, AIV, BV e BVI s˜ao elementos das fam´ılias 2A, 3A, 4A, 5A e 6A da tabela peri´odica, respectivamente, M algum metal e x representa a concentra¸c˜ao do elemento dopante [Fukumuraet al. 2005].

Um dos SMDs mais comuns ´e o GaAs dopado com Mn. Os ´atomos de Mn s˜ao introdu-zidos na rede do GaAs ocupando os s´ıtios do Ga tornando o composto um semicondutor magn´etico dilu´ıdo da forma (Ga,Mn)As. Uma desvantagem marcante desse composto ´e a temperatura de Curie abaixo da temperatura ambiente [Ohno 1998].

2.5 Oxidos Semicondutores´

V´arios ´oxidos semicondutores podem ser utilizados como hospedeiros para obten¸c˜ao de um material O-SMD, entre eles est˜ao ZnO, TiO2, SnO2 e In2O3. Estes ´oxidos apresentam muitas propriedades interessantes e aplic´aveis na ind´ustria, por isso eles tˆem sido estuda-dos com muita frequˆencia. Algumas de suas vantagens s˜ao gaplargo e durabilidade al´em de n˜ao causarem danos ao meio ambiente. Quando ´oxidos semicondutores s˜ao dopados com ´ıons magn´eticos eles formam um SMD e por apresentarem ferromagnetismo `a tem-peratura ambiente eles constituem um material importante para aplica¸c˜ao na spintrˆonica [Fukumura et al. 2005].

´

Oxidos condutores transparentes s˜ao usados amplamente em dispositivos opto-eletrˆoni-cos tais como diodos emissores de luz, fotodetectores, pain´eis sens´ıveis ao toque, displays de telas planas e c´elulas solares. Sua condutividade el´etrica, alta mobilidade e boa trans-parˆencia s˜ao requisitos essenciais para estes dispositivos [Kaholet al. 2008].

2.5.1 Di´oxido de Titˆanio (TiO2)

(27)

trabalho de Zhang et al. [2000] foi encontrado que as estruturas anatase e brookite s˜ao transformadas para rutilo depois de atingirem um certo tamanho de cristalito e os trabalhos de Calle et al. [2008], Fan et al. [2009] e S´anchez et al. [2008] mostram que ao sintetizar a mistura de TiO2 (anatase) com Fe por moagem mecˆanica ocorre a transforma¸c˜ao de fase de anatase para rutilo durante o processo de moagem. No entanto, um estudo feito por Cabreraet al. [2006] mostra que a estrutura do tipo rutilo permanece est´avel ap´os a sintetiza¸c˜ao por moagem mecˆanica.

A forma utilizada neste trabalho ser´a a de estrutura tetragonal do tipo rutilo. O TiO2 (rutilo) possui um gap de energia Eg ∼ 3,02 eV, sua c´elula unit´aria ´e formada por 6 ´atomos, sendo 2 ´atomos de titˆanio e 4 de oxigˆenio como mostra a Figura 2.6.

Figura 2.6: C´elula unit´aria do TiO2.

Fonte: ICSD-64987/Portal da Pesquisa.

2.5.2 Di´oxido de Estanho (SnO2)

(28)

na regi˜ao vis´ıvel e alta estabilidade t´ermica.

O SnO2 possui umgap de energia Eg ∼ 3,6 eV e sua estrutura cristalina ´e tetragonal tipo rutilo como mostra a Figura 2.7. Sua c´elula unit´aria ´e composta por 2 ´atomos de estanho e 4 de oxigˆenio. O estanho ocupa um s´ıtio octa´edrico, enquanto o oxigˆenio ocupa um s´ıtio trigonal plano.

Figura 2.7: C´elula unit´aria do SnO2.

Fonte: ICSD-39173/Portal da Pesquisa.

2.5.3 Oxido de ´Indio (In´ 2O3)

(29)

Figura 2.8: C´elula unit´aria do In2O3.

Fonte: ICSD-14387/Portal da Pesquisa.

Os ´ıons In3+ na estrutura c´ubica do In

2O3 est˜ao distribu´ıdos em duas sub-redes, uma c´ubica de corpo centrado (ccc) e uma c´ubica de face centrada (cfc) ocupando dois s´ıtios diferentes. Os ´ıons O2− est˜ao dispostos nos v´ertices de um cubo, sendo que dois v´ertices possuem deficiˆencia de oxigˆenio. Para um quarto de ´atomos de In, os dois v´ertices com deficiˆencia de oxigˆenio est˜ao nas extremidades de uma diagonal do corpo como mostra a Figura 2.9(a), e para o restante, nas extremidades de uma diagonal da face como mostra a Figura 2.9(b). A ausˆencia de ´atomos de oxigˆenio faz com que o ´ıon de In se desloque do centro do cubo formando dois s´ıtios n˜ao-equivalentes. Ambos os grupos de coordena¸c˜ao podem ser descritos como octaedros distorcidos [Gurloet al. 2003].

2.6 Oxidos Semicondutores Magn´eticos Dilu´ıdos (O-SMD)´

Um ´oxido semicondutor dopado com metal de transi¸c˜ao forma um O-SMD com f´ormula qu´ımica A1−xMxO2, onde A representa o ´oxido semicondutor, M o metal de transi¸c˜ao e

(30)

Figura 2.9: S´ıtios ocupados por ´ıons In3+na estrutura do In2O3: (a) ´atomo de ´ındio localizado no centro de um octaedro levemente distorcido e (b) altamente distorcido.

(a) (b)

Fonte: Paineet al. [2005]

atrav´es das mudan¸cas que dever˜ao ocorrer nos parˆametros de rede do material hospedeiro devido a diferen¸ca nos raios iˆonicos dos elementos. Por exemplo, como o raio iˆonico do ´ıon Ti4+ ´e ligeiramente menor do que o do Fe3+ (0,60 ˚A contra 0,64 ˚A[Shannon 1976]), a dopagem substitucional de TiO2 com Fe3+ induz uma expans˜ao no volume da c´elula unit´aria. J´a o In2O3 dopado com Fe3+ sofre redu¸c˜ao no volume de sua c´elula unit´aria, visto que o raio do In3+ ´e maior do que o do Fe3+ (0,92 ˚A contra 0,64 ˚A[Shannon 1976]). A dopagem destes ´oxidos pode ser feita por diversos m´etodos como s´ıntese qu´ımica, sol-gel e moagem mecˆanica, mas a solubilidade dos dopantes nos materiais hospedeiros pode variar de acordo com o m´etodo de s´ıntese utilizado.

(31)

V´arios estudos vˆem sendo desenvolvidos sobre o SnO2 dopado com metal de transi¸c˜ao. O trabalho de Vaishampayanet al. [2008] apresenta o SnO2 dopado com Fe para utiliza¸c˜ao de sensor de g´as. Outra vantagem encontrada nesse composto ´e o ferromagnetismo em temperatura ambiente, observado por Xiao et al. [2008] quando o SnO2 ´e dopado com Mn, e com Co [Ogale et al. 2003].

(32)

3. T´

ECNICAS EXPERIMENTAIS

3.1 T´ecnica de S´ıntese: Moagem Mecˆanica de Altas Energias

A moagem mecˆanica de altas energias tem sido utilizada para produzir uma variedade de materiais comercialmente ´uteis e cientificamente interessantes. Esta t´ecnica permite a produ¸c˜ao de materiais homogˆeneos a partir de misturas combinadas de p´os elementares. O processo foi desenvolvido por volta de 1966 pelos pesquisadores John Benjamin e Paul D. Merica nos laborat´orios de pesquisa de The International Nickel Company (INCO) como resultado de uma longa pesquisa para a produ¸c˜ao de um material a base de n´ıquel para aplica¸c˜oes em turbinas de g´as [Suryanarayana 2001].

A moagem mecˆanica ´e um processo utilizado para produzir ligas e compostos a tem-peratura ambiente. O processo de moagem e o composto final podem ser afetados por v´arios fatores que desempenham pap´eis muito importantes na fabrica¸c˜ao de materiais homogˆeneos. Dentre eles podem ser destacados a geometria de moagem, o tempo do pro-cesso, temperatura, atmosfera, as ferramentas de moagem (materiais das jarras e esferas), bem como a rela¸c˜ao entre a massa das esferas e do composto.

O processo de moagem envolve repetidas soldagens a frio, fraturas, e ressoldagens para deformar plasticamente e misturar os componentes constituintes. As extremas de-forma¸c˜oes experimentadas pelos p´os mo´ıdos s˜ao partes intr´ınsecas do processo de moagem mecˆanica, conduzindo a um refinamento microestrutural e consequentemente a melhores propriedades f´ısicas e mecˆanicas [Naidooet al. 2012].

(33)

O moinho planet´ario ´e constitu´ıdo de um recipiente (jarra) que est´a disposto sobre um disco de suporte rotativo no qual um mecanismo de acionamento especial faz com que o recipiente gire em torno de seu pr´oprio eixo. A carga no interior do recipiente executa dois movimentos relativos: um movimento de transla¸c˜ao em torno do eixo do moinho e um movimento de rota¸c˜ao em torno do eixo da jarra [Suryanarayana 2001], de forma similar ao movimento de um planeta em torno do sol. Uma esquematiza¸c˜ao deste moinho ´e apresentada na Figura 3.1(a). As for¸cas centr´ıfugas produzidas pelos dois movimentos

Figura 3.1: Representa¸c˜ao esquem´atica dos moinhos (a) planet´ario e (b) vibrat´orio.

(a) (b)

Fonte: Liet al. [2012], Soni [2001]

de rota¸c˜ao produzem choques com energias de at´e 40 vezes maiores que as provocadas pela for¸ca da gravidade. A mecˆanica deste moinho se caracteriza pela velocidade de rota¸c˜ao do disco ωd, a velocidade da jarra em rela¸c˜ao ao disco ωj, a massa da carga, o tamanho das esferas, os raios da jarra e do disco e a raz˜ao entre a massa das esferas e do p´o [Soni 2001].

O moinho de bolas vibrat´orio ´e um longo tubo fechado contendo bolas de moagem e p´o. O moinho agita a carga em trˆes dire¸c˜oes perpendiculares entre si. ´E estimado que esse moinho possa gerar uma acelera¸c˜ao nas esferas de at´e 24 vezes a acelera¸c˜ao da gravidade [Soni 2001]. Um esquema do moinho vibrat´orio ´e mostrado na Figura 3.1(b).

(34)

dentro dele. O p´o a ser mo´ıdo ´e colocado num reservat´orio fixo (jarra) juntamente com as esferas de moagem. A mistura ´e ent˜ao agitada por um eixo com bra¸cos que giram provocando atrito entre as esferas e o p´o a uma velocidade de aproximadamente 250 rpm [Suryanarayana 2001]. Uma esquematiza¸c˜ao desse moinho ´e apresentada na Figura 3.2(a). O moinho horizontal ´e composto por uma jarra que gira em torno de seu eixo central horizontal com velocidades m´aximas logo abaixo da velocidade cr´ıtica que mant´em a bola colada na parede interna da jarra. As bolas sobem at´e uma altura m´axima de onde caem, produzindo choques de baixas energias comparadas com choques do moinho planet´ario [Soni 2001]. Uma esquematiza¸c˜ao desse moinho ´e apresentada na Figura 3.2(b).

Figura 3.2: Representa¸c˜ao esquem´atica dos moinhos (a) atritador e (b) horizontal.

(a) (b)

Fonte: Adaptado de El-Eskandarany [2001]

3.2 T´ecnicas de Caracteriza¸c˜ao 3.2.1 Espectroscopia M¨ossbauer

(35)

leitura de [Bancroft 1973, Chen e Yang 2007, Dickson e Berry 1986, Goldanskii e Herber 1968, Greenwood e Gibb 1971].

3.2.1.1 O Efeito M¨ossbauer

O efeito M¨ossbauer baseia-se no fenˆomeno de emiss˜ao e absor¸c˜ao ressonante de raios-γ

sem perda de energia por recuo.

Um processo de absor¸c˜ao ´e dito ressonante quando a energia necess´aria para excitar o sistema absorvente ´e igual a energia fornecida pelo sistema fonte. Para explicar esse fenˆomeno ´e instrutivo fundamentar-se em um exemplo que acontece na mecˆanica cl´assica: um oscilador harmˆonico que oscila por meio de um agente externo sujeito a uma for¸ca de atrito proporcional `a sua velocidade. A condi¸c˜ao de ressonˆancia obtida ´e que a frequˆencia do oscilador se torne igual `a frequˆencia do agente externo. Dessa forma, para que haja absor¸c˜ao ressonante a radia¸c˜ao incidente dever´a coincidir exatamente com a separa¸c˜ao de n´ıveis energ´eticos de pelo menos dois n´ıveis do sistema absorvente.

Para entender o processo de absor¸c˜ao ressonante considere dois sistemas quˆanticos: um que emite um f´oton durante a transi¸c˜ao de um estado excitado com energia Ee para um estado fundamental com energia Ef; e outro que absorve este f´oton ressonantemente passando do estadoE′

f para um estado com energiaEe′, conforme mostra a Figura 3.3. A condi¸c˜ao de ressonˆancia ser´a satisfeita exatamente quandoEe−Ef =Ee′−Ef′. A transi¸c˜ao do estado excitado com energia Ee para o estado fundamental Ef ´e acompanhada pela emiss˜ao de um quantum de energia:

Eγ =Ee−Ef =hν (3.1)

onde Eγ ´e a energia do f´oton, h´e a constante de Plank e ν ´e a frequˆencia da radia¸c˜ao. Os estados nucleares excitados que emitem raios-γ, normalmente, tem meias vidas muito curtas, usualmente na faixa de 10−6 s a 10−10 s. Por exemplo, o primeiro estado excitado do 57Fe tem uma meia vida t

(36)

Figura 3.3: Emiss˜ao e absor¸c˜ao ressonante.

Fonte: Autoria pr´opria.

linha Γ, relacionada com o tempo de vida do estado, τ (a vida m´edia), pelo princ´ıpio da incerteza de Heisenberg

Γτ =~ (3.2)

onde~=h/2π eτ est´a relacionado com o tempo de meia vida por meio deτ t1/2/0,693 [Bancroft 1973].

Devido a essa incerteza no valor da energia, um f´oton pode ser emitido com diferentes energias, ou seja, existe uma distribui¸c˜ao de energias com diferentes frequˆencias associadas ao principio da incerteza. Essa distribui¸c˜ao possui a forma de uma Lorentziana (ver Figura 3.4) e obedece a rela¸c˜ao de Breit-Wigner:

W(E) = (Γ/2) 2

(E−E0)2+ (Γ/2)2

(3.3)

ondeW(E) ´e a probabilidade de emiss˜ao (ou absor¸c˜ao) da radia¸c˜ao. J´a no estado funda-mental, o tempo de vida ´util ´e infinito e isto implica em uma incerteza zero na energia.

3.2.1.2 Descoberta do Efeito

(37)

Figura 3.4: Distribui¸c˜ao de Breit-Wigner.

Fonte: Adaptado de Greenwood e Gibb [1971]

O fenˆomeno de absor¸c˜ao ressonante j´a era conhecido desde as primeiras d´ecadas do s´eculo XX, verificado experimentalmente em gases utilizando-se radia¸c˜ao de luz vis´ıvel. Alguns pesquisadores acreditavam na possibilidade de se observar a absor¸c˜ao ressonante em n´ucleos atˆomicos utilizando radia¸c˜aoγ. Mas a raz˜ao dela n˜ao ser verificada em n´ucleos atˆomicos, era devido `as energias de transi¸c˜oes nucleares que s˜ao bastante elevadas (da ordem de 100 keV) quando comparadas com as energias de transi¸c˜oes eletrˆonicas (que s˜ao da ordem de alguns eVs). Dessa forma, ap´os a emiss˜ao de um raioγ, um n´ucleo recua com uma velocidade superior `a velocidade de um ´atomo ao emitir luz vis´ıvel. Com essa perda de energia por recuo, a energia de transi¸c˜ao nuclear n˜ao ser´a suficiente para a observa¸c˜ao do fenˆomeno de absor¸c˜ao ressonante.

V´arios grupos de pesquisas tentaram compensar a perda de energia por recuo, fazendo uso do efeito Doppler. O primeiro experimento fez uso do movimento mecˆanico da fonte utilizando alta velocidade. Outro experimento foi realizado por excita¸c˜ao t´ermica da fonte. Em ambos foram observados efeito de ressonˆancia s´o que muito pequeno.

(38)

com a energia de liga¸c˜ao qu´ımica do cristal.

Este fato foi verificado por M¨ossbauer ao estudar a emiss˜ao de energia de transi¸c˜ao no decaimento do 191Os em 191Ir em baixas temperaturas. Ele esperava que com um efeito Doppler menos intenso devido a diminui¸c˜ao da agita¸c˜ao t´ermica, a largura das linhas diminu´ısse e isto levaria a uma menor superposi¸c˜ao entre as linhas de emiss˜ao e absor¸c˜ao e, consequentemente, menos absor¸c˜ao de f´otons. Mas o que ele observou foi que, em baixas temperaturas, a probabilidade de ocorrer absor¸c˜ao ressonante aumentava.

Teoricamente a explica¸c˜ao desse fenˆomeno baseia-se na mecˆanica quˆantica. Quando um n´ucleo preso em uma rede cristalina emite um f´oton, devido `a lei de conserva¸c˜ao do momento linear, existe um recuo desprez´ıvel em virtude da grande massa do cristal. Quando a energia do f´oton incide sobre o n´ucleo absorvedor, a energia pode ser absorvida de forma ressonante pelo n´ucleo, sem a gera¸c˜ao de fˆonons. Nesse caso, o efeito M¨ossbauer ´e observado.

Devido a energia de recuo e as energias de excita¸c˜oes da rede serem de magnitudes compar´aveis, apenas uma certa fra¸c˜ao de emiss˜ao e absor¸c˜ao acontecem sem recuo. Esta fra¸c˜ao f ´e conhecida como a fra¸c˜ao M¨ossbauer, e pode ser expressa como:

f = exp

−4π2hx2i

λ2

, (3.4)

onde λ ´e o comprimento de onda do f´oton γ, e hx2i ´e a m´edia quadrada da amplitude vibracional do n´ucleo emissor (ou absorvedor) no s´olido. A express˜ao acima significa que quanto maior for λ (menor sua energia E = hc/λ) maior ser´a o valor de f, e enquanto

hx2i aumenta (aumento da temperatura), f diminui. Para mais detalhes sobre a fra¸c˜ao M¨ossbauer ver [Bancroft 1973, Chen e Yang 2007].

3.2.1.3 Intera¸c˜oes Hiperfinas

(39)

desdobra-mento magn´etico.

• Deslocamento Isom´erico

O deslocamento isom´erico resulta da intera¸c˜ao eletrost´atica entre a distribui¸c˜ao de carga do n´ucleo e os el´etrons que tem uma probabilidade finita de serem encontrados na regi˜ao do n´ucleo. O n´ucleo n˜ao pode ser considerado uma carga pontual pois ele tem um certo volume finito e uma distribui¸c˜ao de carga dentro dele. Sendo assim, o n´ucleo ´e suposto ser uma esfera de raio R, carregada uniformemente com densidade constante de el´etronss no n´ucleo.

A diferen¸ca na energia de intera¸c˜ao eletrost´atica de um n´ucleo de raio R e um n´ucleo pontual ´e dada por

δE = 2π 3 Ze

2|Ψ(0)s|2R2 (3.5)

onde |Ψ(0)s|2 ´e a densidade de el´etrons s no n´ucleo, R ´e o raio nuclear, Z ´e o n´umero atˆomico do n´ucleo e e a carga elementar. O raio nuclear R ´e diferente para os estados fundamental (f) e excitado (e) e portanto, haver´a uma diferen¸ca em δE e a energia de transi¸c˜ao nuclear ser´a

∆E =δEe−δEf = 2π

3 Ze

2|Ψ(0)s|2(R2

e−R2f). (3.6)

Al´em disso, na fonte de radia¸c˜ao e no absorvedor, o mesmo is´otopo M¨ossbauer pode estar em ambientes qu´ımicos diferentes, resultando em [Ψ(0)]2

F 6= [Ψ(0)]2A, onde os subscri-tosF eAreferem-se `a fonte e ao absorvedor respectivamente. Dessa forma as energias de transi¸c˜oes da fonte (∆EF) e do absorvedor (∆EA) tamb´em ser˜ao diferentes como mostra a Figura 3.5(a).

A diferen¸ca entre as energias de transi¸c˜oes (∆EA−∆EF) ´e o deslocamento isom´erico medido no experimento M¨ossbauer, dado por:

δ= ∆EA−∆EF = 2π

3 Ze 2(R2

(40)

A Figura 3.5(b) mostra um espectro M¨ossbauer com apenas um linha de ressonˆancia (singleto), onde a posi¸c˜ao desta linha tem um deslocamento deδcom rela¸c˜ao `a velocidade zero.

Figura 3.5: (a) Deslocamento do n´ıvel de energia nuclear devido `a intera¸c˜ao de monopolo el´etrico e (b) Um espectro M¨ossbauer com deslocamento isom´erico.

(a) (b)

Fonte: Adaptado de Chen e Yang [2007]

O deslocamento isom´erico fornece informa¸c˜oes importantes sobre a natureza de uma liga¸c˜ao qu´ımica, estado de oxida¸c˜ao do ´atomo, n´umero de coordena¸c˜ao etc. O desloca-mento isom´erico n˜ao ´e uma quantidade absoluta, sendo necess´ario um absorvedor padr˜ao usado como referˆencia. No caso da espectroscopia M¨ossbauer do57Fe, os valores deδ po-dem ser tomados com rela¸c˜ao ao α-Fe. Faixas de valores para o deslocamento isom´erico para alguns estados de oxida¸c˜ao de ferro (alto spin) s˜ao mostrados na Tabela 3.1.

• Desdobramento Quadrupolar

(41)

Tabela 3.1: Valores do desloca-mento isom´erico para alguns estados de oxida¸c˜ao do ferro (alto spin) medi-dos em rela¸c˜ao ao α-Fe.

estado de oxida¸c˜ao δ (mm/s) Fe2+ 0,70 – 1,50 Fe3+ 0,10 – 0,60

Fe4+ 0,04

Fe6+ -0,80

Fonte: Goldanskii e Herber [1968]

n´ucleo e o gradiente do campo el´etrico (GCE) no n´ucleo, produzido pela distribui¸c˜ao de carga em sua vizinhan¸ca.

O primeiro estado excitado do 57Fe tem I

e = 32 e o estado fundamental tem If = 12. Devido a intera¸c˜ao quadrupolar el´etrica h´a uma quebra de degenerescˆencia no n´ıvelIe= 32 que se divide em dois subn´ıveis caracterizados pormI =±12 emI =±32, enquanto o n´ıvel

If = 12 permanece degenerado. Esta situa¸c˜ao leva a um espectro caracter´ıstico de duas linhas de ressonˆancia, chamado dubleto, e a separa¸c˜ao entre as duas linhas ´e chamada de desdobramento quadrupolar (∆), como mostra a Figura 3.6.

Figura 3.6: Desdobramento quadrupolar dos n´ıveis de energia do57Fe.

(42)

A express˜ao para o desdobramento quadrupolar pode ser escrita como:

∆ = eQVzz 2

1 + η

2

3 1/2

(3.8)

ondeQ´e o momento de quadrupolo do n´ucleo,Vzz ´e a componenteZ do GCE,e´e a carga do pr´oton eη ´e o parˆametro de assimetria dado por

η= Vxx−Vyy

Vzz

(3.9)

O sinal deQdepende da forma do n´ucleo. Quando o n´ucleo tem spinI = 0 ou 1/2, ele tem simetria esf´erica,Q= 0. Se o n´ucleo tem uma forma alongada em torno do seu eixo de simetria ent˜ao, Q > 0, se ele tem uma forma achatada em torno do eixo de simetria,

Q <0. Nessas condi¸c˜oes s´o ir´a existir intera¸c˜ao de quadrupolo el´etrico quando I > 1/2, como foi dito acima.

• Desdobramento Magn´etico

Quando um n´ucleo com n´umero quˆantico de spin I >0 ´e colocado na presen¸ca de um campo magn´etico, existe uma intera¸c˜ao de dipolo magn´etico entre o momento magn´etico do n´ucleo ~µ e o campo magn´etico B~. Esta intera¸c˜ao tamb´em conhecida como efeito Zeeman nuclear quebra a degenerescˆencia dos n´ıveis de energia de um n´ucleo com spin I

em 2I+ 1 subn´ıveis igualmente espa¸cados.

O Hamiltoniano que descreve essa intera¸c˜ao ´e dado por

H=−~µ·B~ =−gµNIˆ·B~ (3.10)

onde g ´e a raz˜ao giromagn´etica, µN ´e o magn´eton de Bohr (e~/2M c) e ˆI ´e o operador de spin nuclear. Os autovalores de energia correspondente aos 2I+ 1 subn´ıveis s˜ao dados por

E =−gmIBµN (3.11)

(43)

Como consequˆencia desta intera¸c˜ao, o estado excitado do57Fe com spinI = 3/2 divide-se em quatro subn´ıveis igualmente divide-separados porgeBµN, enquanto o estado fundamental com spin I = 1/2 divide-se em dois subn´ıveis separados por gfBµN. Os fatores gf e ge tˆem valores diferentes, portanto a separa¸c˜ao entre os subn´ıveis do estado fundamental ´e diferente da separa¸c˜ao entre os subn´ıveis do estado excitado, como mostra a Figura 3.7(a). Devido as regras de sele¸c˜ao da mecˆanica quˆantica, apenas transi¸c˜oes com ∆m = 0,±1 ser˜ao permitidas e um espectro com seis linhas de ressonˆancia ´e observado. O espectro resultante dessa intera¸c˜ao ´e denominado sexteto, como mostra a Figura 3.7(b), e a diferen¸ca de velocidade entre as linhas 1 e 6 ´e proporcional ao campo magn´etico hiperfino (Bhf) que atua no n´ucleo.

Figura 3.7: (a) Desdobramento magn´etico dos n´ıveis de energia permitidos para o57Fe e (b) Um espectro M¨ossbauer com desdobramento magn´etico.

(a) (b)

Fonte: Chen e Yang [2007]

3.2.1.4 Espectroscopia M¨ossbauer

(44)

causadas por intera¸c˜oes hiperfinas entre o n´ucleo e sua vizinhan¸ca. A espectroscopia M¨ossbauer do57Fe normalmente ´e a mais utilizada.

H´a dois tipos de arranjos experimentais para a espectroscopia M¨ossbauer: o de reflex˜ao e o de transmiss˜ao. O mais utilizado ´e o modo de transmiss˜ao, cujo arranjo fundamental envolve uma fonte radioativa contendo o is´otopo M¨ossbauer em um estado excitado, um absorvedor (material a ser investigado) que cont´em este mesmo is´otopo no seu estado fundamental e um detector. A fonte de espectroscopia M¨ossbauer para o 57Fe ´e o 57Co radioativo que captura um el´etron de sua eletrosfera e decai espontaneamente para um estado excitado do 57Fe e ficar´a neste estado por um tempo de vida m´edio (ver Figura 3.8), em seguida decai para o estado fundamental emitindo radia¸c˜ao gama. A energia utilizada na espectroscopia M¨ossbauer que ´e 14,4 keV.

Figura 3.8: Esquema de decaimento radioativo do is´otopo 57Co.

Fonte: Dickson e Berry [1986]

(45)

´e colocado juntamente com a amostra, para que os f´otons emitidos sigam apenas na dire¸c˜ao de movimento da amostra at´e que sejam detectados. A Figura 3.9 mostra a esquematiza¸c˜ao de um arranjo experimental simplificado.

Figura 3.9: Arranjo experimental da espectroscopia M¨ossbauer no modo de transmiss˜ao.

Fonte: Ribeiro [2010]

3.2.2 Difra¸c˜ao de Raios-X

Nesta se¸c˜ao ser˜ao apresentados alguns aspectos fundamentais da difra¸c˜ao de raios-x. Ao leitor interessado em aprofundar seus conhecimentos no assunto ´e sugerida a leitura de [Ashcroft e Mermin 2011, Azaroff e Buerger 1958, Cullity 1978].

Os raios-x s˜ao radia¸c˜oes eletromagn´eticas da mesma natureza da luz, mas de com-primento de onda muito mais curto. A unidade de medida mais conveniente para o comprimento de onda na regi˜ao de raios-x ´e o angstrom (˚A), igual a 10−10 m. Os raios-x usados em difra¸c˜ao possuem comprimento de onda numa faixa de 0,5–2,5 ˚A, enquanto que o comprimento de onda da luz vis´ıvel ´e da ordem de 6000 ˚A.

3.2.2.1 Lei de Bragg

(46)

intensos de radia¸c˜ao espalhada.

W. L. Bragg explicou o fenˆomeno considerando um cristal formado por planos paralelos de ´ıons, separados por uma distˆancia d, como mostra a Figura 3.10. As condi¸c˜oes para que haja um pico na intensidade de radia¸c˜ao espalhada eram: 1) que os raios-x devem ser refletidos de forma especular pelos ´ıons em qualquer um dos planos e 2) e que os raios refletidos a partir de sucessivos planos devem interferir construtivamente.

Figura 3.10: Diagrama esquem´atico da lei de Bragg.

Fonte: Adaptado de Ashcroft e Mermin [2011]

A diferen¸ca de caminho (segmento ABC) entre os dois raios refletidos ´e exatamente 2dsinθ, onde θ ´e o ˆangulo de incidˆencia. Para que haja interferˆencia construtiva, essa diferen¸ca deve ser igual a um m´ultiplo inteiro de comprimento de onda. Ou seja,

2dsinθ =nλ (3.12)

(47)

3.2.2.2 M´etodo de Refinamento Rietveld

O m´etodo de refinamento Rietveld [Rietveld 1967], desenvolvido pelo cristal´ografo holandˆes Hugo Rietveld, ´e aplicado `a difra¸c˜ao de raios-x na caracteriza¸c˜ao estrutural de materiais cristalinos. Esse m´etodo permite a obten¸c˜ao quantitativa de parˆametros estruturais das fases cristalina contidas no material.

A forma de um pico de difra¸c˜ao n˜ao pode ser descrita apenas por uma fun¸c˜ao, mas pela convolu¸c˜ao de uma fun¸c˜ao de Gauss (G) com uma fun¸c˜ao de Lorentz (L). Existem v´arias fun¸c˜oes de perfil, entretanto, a que ser´a utilizada neste trabalho ´e a fun¸c˜ao pseudo-Voigt que n˜ao leva em conta o tamanho do cristalito, apenas permite identificar a presen¸ca de uma larga distribui¸c˜ao (ou distribui¸c˜ao bimodal) do tamanho do cristalito [Young 1993]. A fun¸c˜ao pseudo-Voigt ´e definida como:

pV =ηL + (1−η)G (3.13)

onde η, L e G s˜ao respectivamente a fra¸c˜ao lorentziana, a fun¸c˜ao de Lorentz e a fun¸c˜ao de Gauss. O parˆametroη ´e dado por

η = NA + NB∗(2θ) (3.14)

onde NA e NB s˜ao parˆametros refin´aveis e devem ser positivos.

Internamente o programa de refinamento da estrutura tem uma rotina que usa o m´etodo matem´atico de m´ınimos quadrados, onde a quantidade minimizada ´e chamada res´ıduo que ´e dada por

Sy = X

i

wi[y(iobs)−y (calc)

i ]2 (3.15)

ondey(iobs)´e a intensidade observada no i-´esimo passo, yi(calc) ´e a intensidade calculada no i-´esimo passo e wi = 1/yi(obs) ´e o peso estat´ıstico ou desvio.

(48)

of fit) dados por:

Rwp = "

P

iwi(yi(obs)−y (calc) i )2 P

iwi(y (obs) i )2

#1/2

×100 (3.16)

Rexp =

N −P

P

iwiy(iobs) !1/2

×100 (3.17)

e

S = Rwp

Rexp

. (3.18)

Na eq. 3.17,N ´e o n´umero de pontos observados eP ´e o n´umero de parˆametros ajustados. Um refinamento chega ao fim quando os parˆametros refin´aveis j´a n˜ao variam mais de forma substancial e a fun¸c˜ao minimiza¸c˜ao da eq. 3.15 atinge o valor m´ınimo. Matema-ticamente, Rwp ´e considerado um parˆametro de confian¸ca para o refinamento pois seu numerador ´e exatamente a fun¸c˜ao que deve ser minimizada. Pela mesma raz˜ao este ´e o parˆametro que melhor reflete o progresso do refinamento. Sendo assim, seu valor deve diminuir ao longo do refinamento se aproximando do Rexp que ´e o valor esperado para

Rwp.

O parˆametro S informa a qualidade do refinamento e este deve estar pr´oximo de 1.0 ao final do refinamento, justificando assim a express˜ao 3.18. Este valor indica que Rwp chegou ao limite do valor esperadoRexp, significando que nada mais pode ser ajustado.

3.2.2.3 Tamanho do Cristalito e Gr´afico de Williamson-Hall

A s´ıntese utilizada no processo de rea¸c˜ao de um composto pode provocar microde-forma¸c˜oes no material. Por exemplo, a moagem mecˆanica de altas energias que fornece energia ao sistema atrav´es de choques mecˆanicos pode induzir defeitos no material e ao mesmo tempo fazer com que a amostra se torne n˜ao homogˆenea.

Em geral os picos de difra¸c˜ao de raios-x possuem uma certa largura associada a de-forma¸c˜oes na rede e tamanho de cristalito [Williamson e Hall 1953]. O tamanho do cristalito pode ser calculado atrav´es da equa¸c˜ao de Scherrer

D= kλ

βDcosθ

(49)

ondek = 1 (considerando que o cristalito tenha uma geometria quase esf´erica),βD´e a con-tribui¸c˜ao do tamanho do cristalito para a largura do pico `a meia altura,λ´e o comprimento de onda dos raios-x e θ ´e o ˆangulo de difra¸c˜ao. J´a a contribui¸c˜ao da microdeforma¸c˜ao,

ǫ=∆dd para a largura do pico de difra¸c˜ao ´e dada por:

βǫ= 4ǫtanθ. (3.20)

A largura do pico de difra¸c˜ao pode ser aproximada por:

β=βD +βǫ. (3.21)

Utilizando as eqs. 3.19 e 3.20 obt´em-se a equa¸c˜ao de Williamson-Hall:

βcosθ

λ =

k

D +

λ sinθ. (3.22)

A eq. 3.22 ´e uma equa¸c˜ao linear, cujos coeficientes linear e angular s˜ao Dk e 4λǫ respecti-vamente. Dessa forma a equa¸c˜ao de Williamson-Hall ´e capaz de separar as contribui¸c˜oes da microdeforma¸c˜ao e do tamanho de cristalito bem como determinar seus valores.

(50)

4. PROCEDIMENTO EXPERIMENTAL

4.1 Prepara¸c˜ao das amostras

Foram utilizados p´os comerciais do tipo TiO2, SnO2 e In2O3 como matriz dos com-postos e p´o de Fe2O3 como dopante magn´etico, todos da marca Sigma-Aldrich, com teor de pureza igual ou superior a 99,9%.

Os reagentes foram pesados individualmente em uma balan¸ca de precis˜ao, misturados e sintetizados por moagem mecˆanica. O moinho utilizado foi um moinho de altas energias do tipo planet´ario, da marca Fritsch, modelo Pulverissette 6, que opera com velocidade m´axima de 650 rpm.

Diferentes tipos de ferramentas foram utilizadas para sintetizar o material, tais como jarras de a¸co inox, poliacetal e alumina com capacidade volum´etrica de aproximadamente 80 ml, 80 ml e 200 ml respectivamente, esferas de a¸co com diˆametro de 10 mm e esferas de zircˆonia com diˆametro de 2,5 mm. As condi¸c˜oes de moagem variaram de acordo com cada ferramenta utilizada.

As amostras sintetizadas na jarra de poliacetal e esferas de zircˆonia foram submetidas a moagem com velocidade de 600 rpm com propor¸c˜ao de massa das esferas para massa da amostra de 30:1. O material sintetizado foi TiO2 + Fe2O3 com concentra¸c˜ao de 10% de Fe em mol e varia¸c˜ao no tempo de moagem. O processo da s´ıntese se deu de forma que a cada 20 minutos de moagem foi dado um intervalo de 10 minutos para evitar superaquecimento do material. Os tempos utilizados foram 10, 20, 30 e 40h. Em seguida as amostras foram submetidas a medidas de espectroscopia M¨ossbauer e difra¸c˜ao de raios-x.

(51)

de dopante utilizadas foram 2, 5 e 10% em mol variando o tempo de moagem. Ao fazer a caracteriza¸c˜ao por espectroscopia M¨ossbauer, observou-se a presen¸ca de impurezas de ferro met´alico no composto formado. Essas impurezas surgiram durante o processo de moagem proveniente dos choques entre as esferas e a jarra. Com o objetivo de retirar os res´ıduos de ferro met´alico, as amostras foram submetidas a uma lavagem com solu¸c˜ao de HCl [Ribeiro et al. 2012]. Atrav´es do processo de filtra¸c˜ao lenta as amostras foram lavadas trˆes vezes com uma solu¸c˜ao concentrada de HCl e posteriormente lavadas mais trˆes vezes com ´agua destilada para retirar o HCl residual do processo, em seguida foram submetidas a secagem em estufa onde permaneceram por 24 h a uma temperatura de 100◦C. Ap´os o processo de lavagem as amostras foram novamente submetidas a medidas de espectroscopia M¨ossbauer e difra¸c˜ao de raios-x.

Utilizando uma jarra de alumina e esferas de zircˆonia, foram sintetizadas amostras de SnO2 + Fe2O3 e TiO2 + Fe2O3 com concentra¸c˜oes de 2, 5 e 10% (em mol) variando o tempo de moagem. A velocidade utilizada para esta s´ıntese foi de 400 rpm e a raz˜ao entre a massa das esferas e a massa da amostra foi de 20:1. A cada trinta minutos de moagem, foi dado um intervalo de dez minutos para evitar superaquecimento no composto. Ainda utilizando as mesmas ferramentas de moagem foram sintetizadas amostras de In2O3 + Fe2O3, com concentra¸c˜oes de 5% e 10% variando o tempo de moagem. A s´ıntese foi submetida a velocidade de 500 rpm e a raz˜ao entre a raz˜ao entre a massa das esferas e a massa da amostra foi de 20:1. Posteriormente todas as amostras produzidas com estas ferramentas foram submetidas a caracteriza¸c˜ao por espectroscopia M¨ossbauer e difra¸c˜ao de raios-x.

(52)

4.2 Caracteriza¸c˜ao das Amostras 4.2.1 Espectroscopia M¨ossbauer

As medidas de espectroscopia M¨ossbauer foram feitas no Laborat´orio de Magnetismo e Materiais Magn´eticos (UFC). As amostras foram colocadas em um suporte de acr´ılico com um orif´ıcio circular de 1,5 cm de diˆametro, fixada a uma m´ascara de chumbo para colimar o feixe de radia¸c˜ao. A fonte radioativa utilizada foi uma fonte de 57Co em uma matriz de r´odio, montada em um controlador de velocidades operando no modo sinusoidal com velocidades variando entre -V mm/s e +V mm/s com o intuito de excitar todas as poss´ıveis transi¸c˜oes hiperfinas do n´ucleo do 57Fe. Os ajustes foram feitos atrav´es de um algoritmo que se baseia em um fun¸c˜ao de m´ınimos quadrados, utilizando o programa Normos-90. Os deslocamentos isom´ericosδ reportados s˜ao medidos com rela¸c˜ao ao α-Fe.

4.2.2 Difra¸c˜ao de Raios-X

(53)

5. RESULTADOS E DISCUSS ˜

AO

5.1 S´ıntese realizada em jarra de poliacetal e esferas de zircˆonia 5.1.1 TiO2 + Fe2O3 - s´erie temporal

A Figura 5.1 apresenta os espectros M¨ossbauer do composto Ti1−xFexO2−y com x = 0,10 em diferentes tempos de moagem, enquanto a Tabela 5.1 apresenta os parˆametros hiperfinos obtidos atrav´es dos ajustes. Os espectros M¨ossbauer foram ajustados com duas componentes, uma ferromagn´etica (sexteto) e uma paramagn´etica (dubleto). Pode-se obPode-servar a prePode-sen¸ca do Pode-sexteto em todas as amostras. Os parˆametros obtidos desPode-se subespectro s˜ao consistentes com os do Fe3+ na estrutura do Fe

2O3 [Goldanskii e Herber 1968]. Este sexteto ser´a identicado como SHEM e refere-se `a hematita utilizada no pro-cesso. O dubleto observado tem seus parˆametros associados aos do Fe3+ possivelmente em substitui¸c˜ao ao Ti4+ em s´ıtios octa´edricos na estrutura do TiO

2 [S´anchezet al. 2008]. Observa-se que com o aumento do tempo de moagem n˜ao h´a mudan¸ca significativa nas ´areas espectrais relativas dos dois subespectros o que indica que a dopagem do composto foi desenvolvida at´e um certo ponto, mas n˜ao foi conclu´ıda.

Durante a moagem observou-se que parte do material da jarra estava se desgastando e se misturando com o material da amostra, o que pode ter sido um dos fatores que contribu´ıram para que a rea¸c˜ao de dopagem n˜ao fosse completada. A Figura 5.2 mostra o difratograma de raios-x obtido para a amostra de TiO2+Fe2O3 mo´ıda por 40h. N˜ao foi poss´ıvel identificar claramente as fases cristalinas de TiO2 ou Fe2O3.

(54)

Figura 5.1: Espectros M¨ossbauer das amostras Ti0,90Fe0,10O2−y processa-das em jarra de poliacetal com esferas de zircˆonia durante v´arios tempos de moagem.

-12 -8 -4 0 4 8 12

velocidade (mm/s)

intensidade (u.a.)

10 h

20 h

30 h

40 h

3%

2%

1%

1%

(55)

Tabela 5.1: Parˆametros hiperfinos das amostras Ti0,90Fe0,10O2−y processadas em jarra de po-liacetal com esferas de zircˆonia durante v´arios tempos de moagem.

Amostras S´ıtios δ (mm/s) ∆ (mm/s) Bhf (T) Area (%)´

10 h SHEM 0,39(1) -0,17(1) 51,4(1) 37

DUB 0,38(1) 0,54(1) 63

20 h SHEM 0,36(1) -0,19(2) 51,3(1) 27

DUB 0,37(1) 0,57(1) 73

30 h SHEM 0,39(1) -0,18(2) 51,3(1) 31

DUB 0,38(1) 0,56(1) 69

40 h SHEM 0,37(1) -0,16(1) 51,6(1) 31

DUB 0,38(1) 0,56(1) 69

Fonte: Autoria pr´opria.

Figura 5.2: Difratograma de raios-x da amostra Ti0,90Fe0,10O2−y processada em jarra de poliacetal com esferas de zircˆonia por 40 h, juntamente com um padr˜ao cristalino de TiO2 + Fe2O3 para compara¸c˜ao.

TiO2 Fe2O3

20 30 40 50 60 70 80

(graus)

intensidade (u.a.)

TiO2 + Fe2O3

40 h

(56)

5.2 S´ıntese realizada em jarra e esferas de a¸co inoxid´avel 5.2.1 TiO2 + Fe2O3 - s´erie temporal

O composto Ti1−xFexO2−y (x = 0,02; 0,05; 0,10) foi sintetizado em jarra e esferas de a¸co inox. Foi observada uma cin´etica de rea¸c˜ao similar para as v´arias concentra¸c˜oes de dopante de forma que s´o ser˜ao mostrados os dados para x = 0,10. A Figura 5.3 mostra os espectros M¨ossbauer das amostras de Ti0,90Fe0,10O2−y processadas em jarra e esferas de a¸co inox durante v´arios tempos de moagem. Os parˆametros hiperfinos obtidos a partir dos ajustes s˜ao apresentados na Tabela 5.2.

Tabela 5.2: Parˆametros hiperfinos das amostras Ti0,90Fe0,10O2−y processadas em jarra de a¸co inox com esferas de a¸co inox durante v´arios tempos de moagem.

Amostras S´ıtios δ (mm/s) ∆ (mm/s) Bhf (T) Area (%)´

0 h SHEM 0,37(1) -0,20(1) 51,7(1) 100

4 h SHEM 0,39(1) -0,25(2) 51,2(1) 17

SFM 0,02(1) -0,06(3) 33,0(1) 11

D1 0,36(1) 0,69(1) 52

D2 0,89(2) 2,02(4) 20

8 h SHEM 0,38(2) -0,20(4) 51,1(1) 12

SFM 0,04(1) -0,06(3) 32,9(1) 16

D1 0,34(2) 0,74(4) 48

D2 0,95(5) 2,02(9) 24

12 h SHEM 0,37(1) -0,22(3) 51,2(1) 9

SFM 0,06(1) -0,06(3) 33,6(1) 9

D1 0,35(1) 0,68(2) 40

D2 0,95(1) 2,03(3) 43

14 h SFM 0,04(1) -0,05(3) 32,7(1) 9

D1 0,34(1) 0,75(2) 45

D2 0,97(1) 2,03(3) 46

(57)

Figura 5.3: Espectros M¨ossbauer das amostras Ti0,90Fe0,10O2−y processa-das em jarra de a¸co inox com esferas de a¸co inox durante v´arios tempos de moagem.

-12 -8 -4 0 4 8 12

velocidade (mm/s)

intensidade (u.a.)

3%

3%

4%

5%

4%

0 h

4 h

8 h

12 h

14 h

Fonte: Autoria pr´opria.

Os espectros foram ajustados com quatro componentes, sendo duas ferromagn´eticas (sextetos) e duas paramagn´eticas (dubletos). Pode-se observar um sexteto (linha verde) em todos os espectros, exceto o da amostra que foi mo´ıda por 14h. Os parˆametros obtidos desse subespectro s˜ao consistentes com os do Fe3+ na estrutura do Fe

(58)

reagiu com o composto. Para as amostras mo´ıdas por 4, 8 e 12 h, os espectros mostram que com o aumento do tempo de moagem, a ´area espectral referente a hematita est´a diminuindo at´e que, para o tempo de 14 h, toda a hematita foi incorporada `a matriz, significando que a dopagem foi conclu´ıda. O segundo sexteto (linha laranja) que aparece em todos os espectros das amostras mo´ıdas tem os seus parˆametros consistentes com os do ferro met´alico de acordo com Goldanskii e Herber [1968], provavelmente associado `a contamina¸c˜ao proveniente das ferramentas de moagem (jarras e esferas). Este sexteto ´e aqui denominado SFM.

O primeiro dubleto (D1 - linha azul) presente em todas as amostras pode ser atribu´ıdo `a incorpora¸c˜ao do Fe3+ na matriz semicondutora. Os parˆametros hiperfinos obtidos atrav´es dos ajustes est˜ao de acordo com o estado de oxida¸c˜ao do Fe3+ inserido na rede do TiO

2, possivelmente substituindo o Ti4+ em s´ıtios octa´edricos [Fan et al. 2008, S´anchez et al. 2008, Xiaoyanet al. 2006]. O segundo dubleto (D2 - linha violeta), tem seus parˆametros consistentes com os Fe2+. Este dubleto pode ser atribu´ıdo ao Fe2+ na superf´ıcie ou em s´ıtios intersticiais do TiO2 [S´anchezet al. 2008]. Outra possibilidade ´e que o Fe2+ esteja presente na fase ilmenita (FeTiO3) [Cabrera et al. 2006, Torres et al. 2004]. Embora os valores obtidos para o desdobramento quadrupolar n˜ao sejam consistentes com os reportados para a ilmenita natural, eles s˜ao similares aos valores obtidos quando ela ´e submetida a moagem de altas energias [Chen et al. 1999, Guerreiro 2006]. Observa-se que quando mo´ıda, a ilmenita apresenta desdobramento quadrupolar ∆ aproximadamente trˆes vezes maior do que o valor reportado para a fase n˜ao mo´ıda [Torreset al. 2004].

5.2.2 TiO2 + Fe2O3 - s´erie de concentra¸c˜oes

(59)

(dubletos). Como foi relatado anteriormente, o sexteto (linha laranja) refere-se ao ferro met´alico proveniente das ferramentas de moagem. Os dubletos (D1 e D2) presentes em todas as amostras indicam a incorpora¸c˜ao do Fe3+ na matriz semicondutora substituindo o Ti4+ em s´ıtios octa´edricos (D1), e o Fe2+ na superf´ıcie, ou em s´ıtios intersticiais do TiO

2

ou ainda na fase ilmenita (D2).

Figura 5.4: Espectros M¨ossbauer das amostras Ti1−xFexO2−y comx= 0,02; 0,05; 0,10 processadas em jarra de a¸co inox e esferas de a¸co inox.

-12 -8 -4 0 4 8 12

velocidade (mm/s) intensidade (u.a) 4%

5%

1% x=0,02; 2 h

x=0,05; 8 h

x=0,10; 14 h

(60)

Tabela 5.3: Parˆametros hiperfinos das amostras Ti1−xFexO2−y com x = 0,02; 0,05; 0,10 pro-cessadas em jarra de a¸co inox e esferas de a¸co inox.

Amostras S´ıtios δ (mm/s) ∆ (mm/s) Bhf (T) Area (%)´

x= 0,02; 2 h SFM 0,01(1) 0,05(3) 33,6(1) 21

D1 0,35(1) 0,70(1) 61

D2 0,91(1) 2,20(2) 18

x= 0,05; 8 h SFM 0,05(1) 0,05(2) 32,7(1) 18

D1 0,32(1) 0,71(1) 47

D2 0,93(1) 2,11(2) 35

x= 0,10; 14 h SFM 0,04(1) -0,05(3) 32,7(1) 9

D1 0,34(1) 0,75(2) 45

D2 0,97(1) 2,03(3) 46

Fonte: Autoria pr´opria.

(61)

Figura 5.5: Espectros M¨ossbauer das amostras Ti1−xFexO2−y comx= 0,02; 0,05; 0,10 processadas em jarra de a¸co inox e esferas de a¸co inox e lavadas com HCl.

-4 -2 0 2 4

velocidade (mm/s)

intensidade (u.a) 3%

5%

1% x=0,02; 2 h

x=0,05; 8 h

x=0,10; 14 h

(62)

Tabela 5.4: Parˆametros hiperfinos das amostras Ti1−xFexO2−y com x = 0,02; 0,05; 0,10 pro-cessadas em jarra de a¸co inox e esferas de a¸co inox e lavadas com HCl.

Amostras S´ıtios δ (mm/s) ∆ (mm/s) Area (%)´

x= 0,02; 2 h D1 0,40(1) 0,68(1) 83

D2 0,91(1) 2,28(3) 17

x= 0,05; 8 h D1 0,34(1) 0,73(1) 76

D2 1,00(1) 2,13(3) 24

x= 0,10; 14 h D1 0,37(1) 0,71(1) 62

D2 0,97(1) 1,98(3) 38

Fonte: Autoria pr´opria.

A Figura 5.6 apresenta os difratogramas de raios-x das amostras que foram submetidas a lavagem com HCl, juntamente com uma amostra de TiO2 comercial utilizada como padr˜ao para as amostras sintetizadas. O TiO2 comercial ´e composto majoritariamente pelo estrutura rutilo (picos indicados com a letra R) com um pouco da anatase (picos indicados com a letraA), visto que o TiO2 ´e encontrado em v´arias formas na natureza.

A amostra com concentra¸c˜ao x = 0,02 mo´ıda por 2 h foi ajustada com uma ´unica fase, o TiO2. Por´em, as amostras com concentra¸c˜oes de x = 0,05 e 0,10, que foram submetidas a um maior tempo de moagem, apresentaram uma fase majorit´aria referente ao TiO2 e uma fase minorit´aria identificada como a ilmenita (FeTiO3), resolvendo a d´uvida quanto `a origem do dubleto D2 observado por espectroscopia M¨ossbauer. O aumento da concentra¸c˜ao de dopante, e consequente aumento do tempo de moagem, induz a um aumento do volume de ilmenita formada como pode ser visto acompanhando os valores das ´areas espectrais dos dubletos nos espectros M¨ossbauer (Tabela 5.4). A amostra com concentra¸c˜ao dex= 0,05 apresentou, al´em da fase ilmenita, outros picos que n˜ao puderam ser identificados. N˜ao foram observados picos referentes ao Fe2O3, o que indica que o TiO2 foi dopado com todo o ferro utilizado no processo confirmando o que foi observado por espectroscopia M¨ossbauer. Al´em disso, tamb´em verificou-se que a lavagem n˜ao alterou a estrutura do composto.

(63)

a ilmenita, presentes no gr´afico (barras azul), foram apenas identificados. Todos os ajustes foram feitos com a microficha ICSD-64987 (portaldapesquisa.com.br/databases) referente ao TiO2.

Figura 5.6: Difratogramas de raios-x das amostras Ti1−xFexO2−y com

x= 0,02; 0,05; 0,10 processadas em jarra de a¸co inox e esferas de a¸co inox e

lavadas com HCl.

Iobs

I calc

30 40 50 60 70 80

(graus)

intensidade (u.a.)

A = Anatase

A

A A

x=0,02; 2 h

x=0,05; 8 h

x=0,10; 14 h R = Rutilo

(110) (011) (020) (111) (120) (121) (220) (002) (130) (031) (112) (131) R R R R R R R R R R R R

(230) (022) (122) R R R

* desconhecido * * I I I I

I = Ilmenita

Fonte: Autoria pr´opria.

Os parˆametros estruturais obtidos atrav´es dos ajustes encontram-se na Tabela 5.5. ´

Imagem

Figura 2.3: (a) Processo direto de absor¸c˜ao e (b) Processo indireto de absor¸c˜ao de energia por semicondutores.
Figura 2.8: C´elula unit´aria do In 2 O 3 .
Figura 2.9: S´ıtios ocupados por ´ıons In 3+ na estrutura do In 2 O 3 : (a) ´ atomo de ´ındio localizado no centro de um octaedro levemente distorcido e (b) altamente distorcido.
Figura 3.10: Diagrama esquem´atico da lei de Bragg.
+7

Referências

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