Espectrometria de absorção atômica com
atomização eletrotérmica (ETAAS)
Aula 4
Julio C. J. Silva
Universidade Federal de Juiz de Fora (UFJF)
Instituto de Ciências Exatas
Depto. de Química
Juiz de Fora, 2011
ETAAS (GFAAS) - História
• L´vov (1959) Forno de grafite com folha de Ta e primeira publicação.
• L´vov (1961) Primeira publicação em inglês.
• Massmann (1968) Forno de grafite em ambiente aberto: > LD´s.
• Woodriff (1968) Introdução da amostra via jato pneumático ou ultrassom.
• Woodriff (1973) Melhores resultados com amostras evaporadas direto no tubo de grafite.
• West (1969) utilização de um bastão de carbono como atomizador (
carbon rod
).• Montaser (1974) Atomizador de carbono trançado (
braid
carbon
).• Welz e Witte A sensibilidade absoluta é inversamente proporcional ao diâmetro do tubo, porém...
FAAS
• Faixa típica de trabalho: µg/L • Problemas FAAS
– Baixa eficiência do processo de introdução de amostra – Diluição da nuvem atômica nos gases da chama
– Gradientes de temperatura e de composição química na chama
A técnica de Forno de Grafite
• Faixa típica de trabalho: µg/L • Atomizador: tubo de grafite
- Controle de ambiente químico – Controle de ambiente térmico
– Tempo de residência da nuvem atômica na zona de observação
A técnica de Forno de Grafite
• Idéia básica gerar uma nuvem de átomos densa e em condições controladas (L´vov, 1958).
– Nuvem de átomos densa sensibilidade
– Condições controladas remoção de interferentes (programa de aquecimento) e temperatura controlada (ambiente isotérmico)
A técnica de Forno de Grafite
• Introdução da amostra não requer sistema de nebulização 100% da amostra é introduzida no atomizador
• FAAS ± 5 % de eficiência
• Processo de atomização ocorre num tubo de grafite aquecido eletricamente sistema fechado - aumenta o tempo de residência dos átomos no caminho óptico
Materiais do Forno de Revestimento
• Tubo de grafite – Dimensão do tubo
– Material do tubo – grafite pirolítico
– Aquecimento resistivo do tubo longitudinal X transversal – Como gerar um ambiente isotérmico?
Materiais do Forno de Revestimento
• Dimensão do tubo
Materiais do Forno de Revestimento
• Ponto crítico separação térmica entre analito e matriz • Programa de aquecimento
– Em que consiste ? – Como estabelecer ?
Programa de Aquecimento
• A amostra não pode ser simplesmente aquecida a
temperatura de atomização ou a amostra pode espirrar. • Para isso ser evitado deve-se usar um programa de
temperatura para tornar a atomização reprodutível .
• Argônio é freqüentemente usado como gás de purga para:
– Remover excesso de material durante a secagem e fase de queima e após atomização.
– Reduzir a oxidação no tubo
– Prover uma atmosfera inerte durante a atomização uma vez que a alta temperatura o carbono reage com o nitrogênio produzindo cianogênio necessário exaustão
Programa de Aquecimento
• Programa de temperatura do forno• Secagem (50-200 oC)
• Eliminação do solvente
• Pirólise (200-1500 oC)
• Separação entre componentes da matriz e analito
• Atomização (2000-3000 oC)
• Produção de vapor atômico
• Limpeza:
• Evita memória do analito
• Utilização de gases de purga (argônio)
• Remoção de gases produzidos na secagem e calcinação • Reduzir a oxidação do tubo
Programa de Aquecimento
Tamanho da amostra
• GFAAS
dependente da massa da amostra
• Massa
depende da configuração do tubo
– 100 µL
sem plataforma
– 50 µL
com plataforma
– 20 µL
volume usual
Programa de Aquecimento
Secagem
Pirólise
Atomização
T(
°C)
t(s)
2s aquecimento/LEtapa de Secagem
Secagem abaixo do ponto de ebulição do solvente (80-200 oC)
Evaporação do solvente resulta em um filme sólido do material depositado na superfície do tubo
Etapa de Pirólise
Compostos refratários são formados na forma de óxidos
Programa de Aquecimento
Aquecimento rápido do forno (1000o-2000oC/sec) Vaporização do resíduo sólido em uma nuvem atômica no caminho ótico (1800-3000 oC)
Programa de Aquecimento
- Gás de Purga: interrompido durante a atomização
- Na etapa de pirólise, pode ser introduzido O2 ou ar para auxiliar na queima de amostras orgânicas
Etapa Temperatura / ºC Rampa / s Permanência / s Ar / mL min-1
Secagem I 90 10 15 250 Secagem II 130 15 15 250 Pirólise 600 5 25 250 Resfriamento 20 1 5 250 Atomização* 2300 0 5 0 Limpeza 2400 1 5 250
Etapa Temperatura / ºC Rampa / s Permanência / s Ar / mL min-1
Secagem I 90 10 15 250 Secagem II 130 15 15 250 Pirólise 600 5 25 250 Resfriamento 20 1 5 250 Atomização* 2300 0 5 0 Limpeza 2400 1 5 250
Temperatura Estabilizada do Forno
• Tubos de grafite sem plataforma e com plataforma• Tubos recobertos com grafite pirolítico reduz porosidade do tubo de grafite, minimizando os processos de difusão da matriz e do analito nas paredes do tubo.
• Uso de plataforma: obtenção de picos mais reprodutíveis e maior sensibilidade
Temperatura Estabilizada do Forno
• Uma plataforma com contato mínimo com o tubo é inserida dentro do tubo: aquecimento retardado por radiação. A atomização se dá quando a temperatura do tubo está mais estabilizada
Temperatura Estabilizada do Forno
• Isotermicidade
-Tubo com plataforma: não isotérmico espacialmente: condensação da matriz e do analito nas extremidades do tubo, resultando cauda do pico e efeito de memória, precisa de altas temperaturas de atomização (tempo de vida curto), plataforma não pode ser usada para elementos refratários, aumenta a não linearidade das curvas de calibração
-Tubos aquecidos transversalmente: isotermicidade espacial
-Tubos aquecidos transversalmente c/ plataforma: atomizador isotérmico
Medida em Área de Pico
Atomização em Forno de Grafite
• - As temperaturas de pirólise e atomização devem ser otimizadas (curvas de pirólise (A) e atomização (B) )
• T1 = Temperatura máxima ou ótima de pirólise • T3 = Temperatura de aparecimento do sinal • T4 = Temperatura ótima de atomização
Interferências
• FAAS principais interferências são causadas por produtos de combustão na chama
• GFAAS principais interferências são causadas por componentes da matriz
• Interferências em ETAAS podem ser divididas em: • Não espectrais Fase condensada e fase vapor • Espectrais
Interferências em Fase Consensada
• Perda do analito durante a etapa de pirólise as perdas durante a pirólise se tornam uma fonte de erro quando o analito tem sua volatilidade alterada em relação à solução analítica, pela presença de concomitantes
• Halogenetos de alcalinos e alcalinos-terrosos • Ácido Perclórico
• Formação de carbetos e compostos de intercalação
• Utilização de tubos metálicos ou revestimento do tubo com folha de Ta elementos formadores de cabetos
Interferências em Fase Vapor
• São interferências ocasionadas por deslocamentos no equilíbrio de dissociação e de ionização provocados pelos interferentes e pela recombinação dos átomos com os concomitantes.
• Ionização • Nitrogênio • Haletos
Interferências Espectrais
• Sobreposição de linhas • Espectro molecular – Contínuos de fotodissociação SO3 + h → SO2 + O (330 nm) SO2 + h → SO + O (190 nm) SO + h → S + O (245 nm)– Espectro de bandas eletrônicos diversas linhas finas • Espalhamento da radiação
Correção de Background (BG)
• Correção por efeito Zeeman
- Interação de campo magnético com momento magnético dos átomos emitentes (Zeeman direto) ou absorventes (Zeeman inverso)
- Interação causa desdobramento dos níveis energéticos e, por conseqüência, das linhas atômicas em componente(s) (paralelo ao campo magnético) e + - (perpendiculares ao
campo magnético)
- Componente s : deslocadas para fora da faixa espectral
- Componente : eliminada, caso necessário, por um polarizador: somente o fundo absorve!
Modificadores de Matriz
• Modificação química da matriz técnica proposta para evitar perdas do analito durente as etapas de secagem e pirólise
• Técnica proposta por Ediger ( 1975)
• Um reagente, geralmente um sal inorgânico, é adicionado à amostra e as soluções analíticas em excesso.
• O modificador torna o interferente mais volátil ou o analito é convertido em uma forma menos volátil
• Cu, Ni, Pd/Mg(NO3)2, ácido cítrico, entre outros.
• Como modificadores químicos permanentes grupo da platina (Pt, Ir, Ru, Rh) e os elementos formadores de carbetos (Zr, W, Nb, Ta), e também misturas destes
Correção de Background (BG)
• Correção por efeito Zeeman
• Direto: campo magnético é aplicado na fonte de radiação (lâmpada),onde os níveis de E dos átomos emitentes são desdobrados. Linha mede o BG + analito; linha mede BG. • Problema fonte pode não suportar a ação do campo
I
0
-
+
0Correção de Background (BG)
• Correção por efeito Zeeman
• Inverso: campo magnético é aplicado no atomizador. A fonte de radiação emite linhas espectrais não desdobradas como é usual em AAS.
• São desdobrados no atomizador, os níveis de E dos átomos que absorvem. Como a fonte de radiação emite a linha de ressonância original, esta radiação é somente absorvida pela componente do analito.
Correção de Background (BG)
• Correção por efeito Zeeman
• Desdobramento dos níveis de E nos átomos: Inverso
E
0E
t sem campoE
1-
-E
1+
+
E
1 com campo
Correção de Background (BG)
Correção de Background (BG)
• Correção por efeito Zeeman
• Vantagens:– corrige altos níveis de BG, requer somente uma fonte, não requer alinhamento coincidente de radiação
– interferências espectrais são corrigidas se 2 linhas são separadas por 0,02 nm ou mais eficiente para amplo intervalo de comprimento de onda
• Limitações: – alto custo
– uso de polarizadores representam perda significante de luz
– lâmpadas adequadas para suportar o campo magnético (quando este é aplicado na fonte)
Análise de Amostra Sólida
• Vantagens
– Tempo de análise total
– Contaminação
– Perda de analitos
– Custos
• 1971
primeiro trabalho com amostras sólidas
– Representatividade (1 – 2 mg)
– Introdução de amostras
– Reprodutibilidade
– Calibração aquosa e adição de padrão
– Matrix-matching
Análise de Amostra Sólida
• Suspensão (slurry) • Suspensão (slurry)
– Pó finamente dividido (1 ,0 – 600,0 µm)
– Pesar diretamente no copos do auto-sampler – Homogeinização (ultra-som)
– Agentes estabilizantes Triton X-100,Viscalex, glicerol, glicerol-água e glicerolmetanol, etanol, isopropanol, HMP-hexametafosfato, emulsão Antifoam B, trietanolamina, nonilfenilpolioxieter, pirofosfato de sódio e aerosol OT.
Análise de Amostra Sólida
Figuras de Mérito
• Faixa linear • Linearidade • LD • LQ • Estudo de interferências• Materias de referências certificados • Massa Característica (mo)
FAAS x ETAAS
• Sensibilidade
– FAAS – 0,1– 20 mg L-1
– ETAAS – 0,5 -100 g L-1
• Rapidez (freqüência analítica aproximada) – FAAS – até 200 amostras/hora
– ETAAS – até 40 amostras/hora • Custo (instalação e operacional)
– FAAS - $ $