A técnica de deposição de filmes finos por descarga a plasma utilizando gaiola catódica em uma atmosfera contendo nitrogênio e hidrogênio se mostrou eficiente, dando origem a filmes de qualidade. Sua viabilidade é assegurada devido ao baixo custo de aplicação da técnica tanto em termos de equipamentos quanto de materiais quando comparada a outras técnicas utilizadas.
Em todos os ensaios houve deposição de filme fino, 3 desses ensaios mostraram uma relação entre fluxo de gás nitrogênio/hidrogênio, temperatura de deposição e distância da tampa de titânio capazes de produzir filmes finos de nitreto de titânio de alta qualidade aplicados em substratos de brocas odontológicas de aço.
O teste de eficiência de corte mostrou uma melhoria na retirada de massa óssea de todos os grupos de brocas testados que possuíam o filme de nitreto de titânio aplicados em sua superfície, quando comparados com o rendimento das brocas sem tratamento. As brocas do grupo E5 obtiveram o melhor resultado, com um rendimento na retirada de massa óssea 34% maior do que as brocas sem tratamento (E0).
Os testes de impedância eletroquímica indicaram uma superioridade dos filmes depositados nos ensaios E5 e E7 com altos valores de resistência à polarização.
Através das imagens no MEV é possível constatar que os filmes depositados nas hastes das brocas dos grupos E5 e E7 possuem espessura semelhante e diferem apenas na rugosidade da superfície aparentemente menor no ensaio E7, em acordo com o valor do elemento de circuito CPE-n da Tabela 1.
Analisando os resultados de impedância do grupo E4 verifica-se um resultado inferior aos dos grupos E5 e E7 mas ainda sim melhores que os do grupo E0 (controle).
A difratometria de raios- X confirmou a presença do nitreto de titânio estequiométrico (Osbornita) na superfície das brocas tratadas.
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