Universidade de São Paulo
PSI3322 - ELETRÔNICA II
Prof. João Antonio Martino AULA 3
Dedução da equação de corrente do MOSFET canal n, resistência de saída na saturação, Exemplo 4.1.
Sedra, Cap. 4
p. 146-155
Universidade de São Paulo
N N
P
G
S D
B
M O
S - - - - - -
- - - - - -
+ + + + + + + +
Região de Depleção
Transistor NMOS V GS > 0 e V DS = 0
S D
B
V GS = 0,5V
Campo elétrico baixo, suficiente apenas para repelir os portadores majoritários do canal (lacunas)
0,5V 0,5V
Universidade de São Paulo
N N
P
G
S D
B
M O
S -
- -
- -
- -
- - -
- - - - - -
+ + + + + + + +
Transistor NMOS V GS > 0 e V DS = 0
S D
B
V GS = 1V Campo elétrico baixo, suficiente
apenas para repelir os portadores majoritários do canal (lacunas)
1V 1V
(Vt 1V)
Universidade de São Paulo
Transistor NMOS
V GS > Vt (tensão de limiar) e V DS = 0
N N
P
G
S D
B
M O
S -
- -
- -
- -
- - -
- - - - - -
+ + + + + + + +
- - - -
Elétrons livres Camada de inversão Região de Depleção
S D
B
V GS = 2V
Campo elétrico alto o suficiente para atrair os portadores
minoritários do canal (elétrons)
2V 2V
(Vt 1V)
Universidade de São Paulo
Elétrons livres
Transistor NMOS
V GS >> Vt (tensão de limiar) e V DS = 0
S
B
V GS = 5V
Campo elétrico alto o suficiente para atrair os portadores
minoritários do canal (elétrons)
5V 5V (Vt 1V)
N N
P
G
D
M O
S -
- -
- -
- -
- - -
- - - - - -
+ + + + + + + +
- - - - - - - -
- - - -
Universidade de São Paulo
Transistor NMOS
V DS < V GS – Vt (Região de tríodo)
N N
P
G
S D
B
M O
S -
- -
- -
- -
- - -
- - - - - -
+ + + + + + + +
- - -
-
- - - - - - - - - - - -
- -
Elétrons livres Camada de inversão Região de Depleção
S D
B
V GS = 5V
V DS = 2V 5V 3V
(Vt 1V)
Universidade de São Paulo
N N
P
G
S
B
M O
S -
- -
- -
- -
- - -
- - - - - -
+ + + + + + + +
- - -
- - -
- - -
- - - - - -- - - -
-
- - -
- -
Elétrons livres
Transistor NMOS
V DS = V GS – Vt (Triodo/Saturação)
S D
B
V GS = 5V
V DS = 4V
V
DSelevado responsável pela
passagem de corrente mesmo através da região sem canal de inversão
5V 1V
(Vt 1V)
Universidade de São Paulo
N N
P
G
S D
B
M O
S -
- -
- -
- -
- - -
- - - - - -
+ + + + + + + +
- - -
- - - -
- - -
- -
Elétrons livres Camada de inversão Região de Depleção
- -- - - - - - -
- - - -
Transistor NMOS
V DS > V GS – Vt (Região de Saturação)
S D
B
V GS = 5V (Vt 1V)
V DS = 5V
V
DSelevado responsável pela
passagem de corrente mesmo através da região sem canal de inversão
5V 0V
Universidade de São Paulo
N N
P
G
S D
B
M O
S
Elétrons livres
- -- - - - - - -
- - - -
Transistor NMOS
V DS > V GS – Vt (Região de Saturação)
S D
B
V GS = 5V Vt 1V
V DS = 5V
V
DSelevado responsável pela
passagem de corrente mesmo através da região sem canal de inversão
5V 0V
Universidade de São Paulo
Alunos de PSI3322:
Vamos hoje deduzir a relação i D – v DS (v GS )
(modelo de primeira ordem do MOSFET)
Universidade de São Paulo
Transistor NMOS
V DS < V GS – Vt (Região de tríodo)
N N
P
G
S D
B
M O
S - - - - - - - - - - - -
Elétrons livres
S D
B
V GS = 5V
V DS = 2V
(Vt 1V)
Universidade de São Paulo
Determinação da relação i D – v DS (v GS )
Região de Triodo
Universidade de São Paulo
Determinação da relação i D – v DS (v GS ) Região de Triodo
Q = C.V
dq = dC.[Vc]
dq = − Cox . W. dx. [v GS − V t − v(𝑥)]
dq
Cox = εox tox
Vc +Q
-Q
C
Universidade de São Paulo
Determinação da relação i D – v DS (v GS ) Região de Triodo
Campo elétrico do dreno para a fonte: E(x) = - dv(x)/dx
Velocidade de deslocamento da carga dq da fonte para o dreno:
𝑑𝑥
𝑑𝑡 = − μ n . E(x) = − μ n . (-dv(x)/dx) = μ n . (dv(x)/dx) (eq.2) onde μ é a mobilidade de elétrons no canal
Cox = εox
tox
Universidade de São Paulo
Determinação da relação i D – v DS (v GS ) Região de Triodo
𝑖 = 𝑑𝑞
𝑑𝑡 = 𝑑𝑞
𝑑𝑥 𝑑𝑥
𝑑𝑡 = (eq.1).(eq.2)
i = − Cox . W. [v GS − V t − v(𝑥)]. μ n . (dv(x)/dx) Cox = εox
tox
Universidade de São Paulo
Determinação da relação i D – v DS (v GS ) Região de Triodo
Cox = εox tox
i
D= − 𝑖 = Cox . 𝑊. [v GS − V t − v(𝑥)]. 𝜇 𝑛 . ( dv(x)/dx)
i
D. dx = 𝜇 𝑛 . Cox . 𝑊. [v GS − V t − v(𝑥)].dv(x)
Universidade de São Paulo
Determinação da relação i D – v DS (v GS ) Região de Triodo
Cox = εox tox
i D . 0 𝐿 𝑑𝑥 = 𝜇 𝑛 . Cox . 𝑊. 0 𝑣
𝐷𝑆. [v GS − V t − v(𝑥)] .dv(x)
Universidade de São Paulo
Determinação da relação i D – v DS (v GS ) Região de Triodo
Cox = εox tox
i D . 0 𝐿 𝑑𝑥 = 𝜇 𝑛 . Cox . 𝑊. 0 𝑣
𝐷𝑆. [v GS − V t − v(𝑥)] .dv(x)
i D = 𝜇 𝑛 . Cox . 𝑊 𝐿 𝑣 𝐺𝑆 − 𝑉 𝑡 . 𝑣 𝐷𝑆 − 𝑣
𝐷𝑆2 2
Universidade de São Paulo
Determinação da relação i D – v DS (v GS ) Região de Triodo
para 0 < v DS v GS – V t = v OV
v OV = tensão de overdrive (sobre-tensão de condução)
i D = 𝜇 𝑛 . Cox . 𝑊 𝐿 𝑣 𝐺𝑆 − 𝑉 𝑡 . 𝑣 𝐷𝑆 − 𝑣 𝐷𝑆 2 2
Universidade de São Paulo
Determinação da relação i D – v DS (v GS ) Região de Saturação
N N
P
G S
B
- - - - -- - - -
S D
B
di D /dv DS = 𝜇 𝑛 . Cox . 𝑊 𝐿 𝑣 𝐺𝑆 − 𝑉 𝑡 − 𝑣 𝐷𝑆 = 0 𝑣 𝐺𝑆 − 𝑉 𝑡 − 𝑣 𝐷𝑆 = 0
v DS = v GS – V t = v DSsat
Universidade de São Paulo
Determinação da relação i D – v DS (v GS ) Região de Saturação
N N
P
G S
B
- - - - -- - - -
S D
B
Para v DS = v GS – V t
i D = 𝜇 𝑛 . Cox . 𝑊 𝐿 𝑣 𝐺𝑆 − 𝑉 𝑡 . (v GS – Vt ) − (v GS – Vt ) 2
2
Universidade de São Paulo
Determinação da relação i D – v DS (v GS ) Região de Saturação
N N
P
G S
B
- - - - -- - - -
S D
B
i D = 𝜇 𝑛 . Cox . 𝑊 𝐿 𝑣 𝐺𝑆 −𝑉 2 𝑡 2 Para v DS ≥ v GS – Vt
Universidade de São Paulo
Modelo de i D =f(v GS , v DS ) de 1 a Ordem
• Região de Corte: v GS V t ou v GS -V t 0
i D =0
• Região Triodo: 0< v DS v GS -V t
i D = k 𝑛 ′ W
L v GS − V t v DS − v DS 2 2
• Região de Saturação: 0< v GS -V t v DS
i D = k 𝑛 ′ W L
𝑣 𝐺𝑆 − V t 2
2 onde 𝑘 𝑛 ′ =
μ n εox
tox = μ n .Cox Parametro de Transcondutância
NMOSFET
– V
Universidade de São Paulo
Características de Corrente-Tensão de um
NMOSFET
Universidade de São Paulo
Características de Corrente-Tensão de um NMOSFET
i D = k 𝑛 ′ W L
𝑣
𝐺𝑆− V t 2 2
i
D= k
𝑛′W
L v GS − V
tv DS − v DS
22
• Região Triodo: 0< v
DS v
GS-V
t• Região de Saturação: 0< v
GS-V
t v
DSUniversidade de São Paulo
Exemplo 4.1 (pag. 148 do Livro texto)
Exemplo 4.1 - Considere um processo tecnológico onde L
min=0,4 μm, t
ox= 8 nm, μ
n=450 cm
2/Vs, V
t=0,7V.
Dados:
ox= 3,45.10
-13F/cm (a) Determine C
oxe k
n`
(b) Para um MOSFET com W/L = 8 μm/0,8 μm, calcule os valores de V
GSe V
DSminnecessários para operar o transistor na saturação com uma corrente I
D=100 μA
(c) Para o dispositivo em (b) determine o valor de V
GSonde o transistor opera como um resistor de 1000Ω para
pequenos V
DSUniversidade de São Paulo
Exemplo 4.1 (pag. 148 do Livro texto)
Exemplo 4.1 - Considere um processo tecnológico onde L
min=0,4 μm, t
ox= 8 nm, μ
n=450 cm
2/Vs, V
t=0,7V.
Dados:
ox= 3,45.10
-13F/cm
(a) Determine C
oxe k
n`
Universidade de São Paulo
Exemplo 4.1 (pag. 148 do Livro texto)
Exemplo 4.1 - Considere um processo tecnológico onde L
min=0,4 μm, t
ox= 8 nm, μ
n=450 cm
2/Vs, V
t=0,7V.
Dados:
ox= 3,45.10
-13F/cm
(b) Para um MOSFET com W/L = 8 μm/0,8 μm, calcule os valores de V
GSe V
DSminnecessários para operar o transistor na saturação com uma corrente I
D=100 μA
i D = k 𝑛 ′ W L
𝑣
𝐺𝑆− V t 2
2
Universidade de São Paulo
Exemplo 4.1 (pag. 148 do Livro texto)
Exemplo 4.1 - Considere um processo tecnológico onde L
min=0,4 μm, t
ox= 8 nm, μ
n=450 cm
2/Vs, V
t=0,7V.
Dados:
ox= 3,45.10
-13F/cm
(c) Para o dispositivo em (b) determine o valor de V
GSonde o transistor opera como um resistor de 1000Ω para pequenos V
DSi
D= k
𝑛′W
L v GS − V
tv DS − v DS
22
Universidade de São Paulo
Exercício: Desenhe as curvas características do NMOS abaixo e o perfil de carga
N+
Metal
(condutor) Óxido de porta
(isolante)
L
W
Fonte Dreno
t
oxPorta
v
DSv
GSP
Substrato (ou Corpo)
i D
S
N+
ox n
ox ox
n