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Síntese, caracterização estrutural e dielétrica do Niobato de Ferro - FeNbO4

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Academic year: 2021

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(1)universidade federal do rio grande do norte ˆncias exatas e da terra centro de cie ´ rica e experimental departamento de f´ısica teo ´ s-graduac ˜ o em f´ısica programa de po ¸a. S´ıntese, Caracteriza¸ c˜ ao Estrutural e Diel´ etrica do Niobato de Ferro -FeNbO4. ˜ o Porciano do Nascimento Ju ´ nior Cristova. Natal-rn 14 de Setembro de 2017.

(2) ˜ o Porciano do Nascimento Ju ´ nior Cristova. ˜ o Estrutural e S´ıntese, Caracterizac ¸a ´trica do Niobato de Ferro - FeNbO4 Diele. Tese de doutorado apresentada ao Programa de P´ osGradua¸c˜ao em F´ısica do Departamento de F´ısica Te´ orica e Experimental da Universidade Federal do Rio Grande do Norte como requisito parcial para a obten¸c˜ao do grau de Doutor em F´ısica.. Orientadora: Profa . Dra. Suzana Nobrega de Medeiros Co-orientador: Prof. Dr. U´ılame Umbelino Gomes. Natal-RN 2017.

(3) Universidade Federal do Rio Grande do Norte – UFRN Sistema de Bibliotecas – SISBI Catalogação da Publicação na Fonte - Biblioteca Central Zila Mamede Nascimento Júnior, Cristovão Porciano do. Síntese, Caracterização Estrutural e Dielétrica do Niobato de Ferro FeNbO4 / Cristovao Porciano do Nascimento Junior. - 2017. 95 f. : il. Tese (doutorado) - Universidade Federal do Rio Grande do Norte, Centro de Ciências Exatas e da Terra, Programa de Pós-Graduação em Física. Natal, RN, 2017. Orientadora: Prof.ª Dr.ª Suzana Nóbrega de Medeiros. Coorientador: Prof. Dr. Uílame Umbelino Gomes. 1. Niobato de ferro - Tese. 2. Caracterização dielétrica - Tese. 3. Tiristor - Tese. I. Medeiros, Suzana Nóbrega de. II. Gomes, Uílame Umbelino. III. Título. RN/UF/BCZM. CDU 546.72.

(4)

(5) Aos meus pais, Cristov˜ao e Maria de Lourdes. A minha esposa, Dil´ u e aos meus filhos, Mateus, Sofia e Mar´ılia.. i.

(6) Agradecimentos • Agrade¸co aos meus pais, a minha esposa Maria de lourdes (Dil´ u) por me aturar que n˜ao ´e tarefa f´acil, aos meus irm˜aos Misteilor e Moabe, aos meus primos e aos meus av´os que contribu´ıram diretamente ou indiretamente e apoiaram desde o in´ıcio dessa nova jornada (doutorado). • Aos meus filhos Mateus, Sofia e a pequena Mar´ılia, a Mateus pelos sorrisos carism´aticos e as conversas descontra´ıdas, a minha nega Sofia pelos carinhos imensos e a minha pequena Mar´ılia pelas suas travessuras. • A minha orientadora Dra. Suzana Nobrega de Medeiros que me deu a oportunidade de ser orientando de doutorado, pela confian¸ca depositada em minha pessoa e pela infinita paciˆencia que teve comigo. • Ao meu co-orientador Dr. U´ılame Umbelino Gomes que me deu a sugest˜ao de trabalho e pela ajuda com algumas interpreta¸co˜es. • Aos professores: Dr. Francisco George Brady, Dr. Marcio Assolin, Dr. Felipe Bohn, pelos conhecimentos transmitidos. • Ao professor Marcos Morales pela ajuda na realiza¸ca˜o de algumas medidas. • Aos meus amigos Nyladih Theodory e Tharc´ısyo S´a pelas ajudas e discuss˜oes sobre diversos temas. • Aos colegas de sala, Bruno Amorim, Bruno Lustosa, Pierre, Neto Crisanto, Tib´erio, William, Francys, Jefferson, Paulo Henrique, Carlene, Francisco Biagione, Gladstone, Edi, Dr. Reben, Guilherme e Suzane. • Aos amigos do LNMS, Ubiratam (Bira), Neymar, S´ergio, e a todos os outros que fazem parte do laborat´orio, pelas li¸co˜es no dia-a-dia.. i.

(7) • A todos os amigos que fazem parte da p´os-gradua¸c˜ao do curso de f´ısica da UFRN e que contribuem para a melhoria da p´os-gradua¸ca˜o. • Aos meus amigos de trabalho, D´ebora, Emmili, Samaya, Sˆonia, Tatiane, Talita, Bal, Gilberto, Gibson, Jonathan, Jonatas, Viviane, Ra´ı, Jo˜ao Dantas, pelas conversas hil´arias e motivadoras. • A Silvestre, Celina e Paulo, funcion´arios da secretaria da coordena¸c˜ao da p´osgradua¸ca˜o de f´ısica pelo apoio em situa¸c˜oes administrativas. • A CAPES pelo apoio financeiro durante este trabalho.. ii.

(8) Resumo. O niobato de ferro (FeNbO4 ) tem sido aplicado como fotoˆanodo em conversores de energia solar, sensores a g´as, tecnologias catal´ıticas, fotodectoras e dispositivos eletrˆonicos. No entanto, a descri¸c˜ao de suas propriedades diel´etricas ainda s˜ao muito escassas. Foram preparados trˆes tipos de amostras a partir da moagem de alta energia(24h, 48h e 72h) dos precursores de: Nb2 O5 , α-Fe e H2 O. Depois do processo de moagem, os p´os resultantes passaram pelo processo de calcina¸ca˜o por 4 horas a` 1300◦ C. O tempo de calcina¸ca˜o foi o mesmo para todas amostras. Todas essas amostras passaram pela caracteriza¸c˜ao diel´etrica, mas antes elas foram prensadas a 1570 Kgf e sinterizadas a` 1000◦ C por 24 horas. A caracteriza¸c˜ao composicional e estrutural das amostras foram realizadas atrav´es da difra¸c˜ao de raios X, microscopia eletrˆonica de varredura e fluorescˆencia de raios X. Os resultados revelaram que a amostra mo´ıda por 24h tem 94,48 % de FeNbO4 e 5,52 % de Fe2 O3 , para 48h tem 97,82 % de FeNbO4 e 2,18 % de Fe2 O3 , para 72h tem 93,68 % de FeNbO4 e 6,32 % de Fe2 O3 . As propriedades diel´etricas foram analisadas atrav´es das curvas caracter´ısticas I-V e da permissividade diel´etrica complexa com rela¸ca˜o a frequˆencia. As curvas caracter´ısticas obtidas mostraram um comportamento semelhante a dispositivos eletrˆonicos semicondutores, pertencente a fam´ılia dos tiristores. O nosso estudo trata de uma nova rota de s´ıntese para obten¸ca˜o do niobato de ferro. Os resultados indicam que as amostras tˆem grande potencial para aplica¸c˜ao em dispositivos eletrˆonicos.. Palavras-chave: Niobato de ferro. Caracteriza¸ca˜o diel´etrica. Tiristor. Permissividade.. iii.

(9) Abstract. Iron niobate (FeNbO4 ) has been applied to the photodiode in solar energy converters, gas sensors, photo detectors, and electronic devices. However, a full description of your dielectric properties is still scarceness so. By using a high energy mill, they were prepared three kinds of samples (24, 48 and 72 hours) of the precursors of: Nb2 O5 , α-Fe e H2 O. After milling process, the resultant powders were to calcinated for precisely 4 hours and in a temperature of 1 300 celsius. We used a hydraulic press about 1570 Kgf to produce the samples. Next, the samples were calcinated during a time considered the same for all of them and underwent to dielectric characterization. In the way to characterize the samples, the samples were submitted to X rays, scanning electronic microscopy and X rays fluorescence. Results have been shown that samples milling by 24 hours, has 94.48% of FeNbO4 and 5.52% of Fe2 O3 , by 48h has 97.82% of FeNbO4 and 2,18% de Fe2 O3 , and by 72h has 93,68% of FeNbO4 and 6.32% of Fe2 O3 . Dielectric properties were analyzed through I-V characteristic curves and complex dielectric permitivity against frequency. The characteristic curves exhibited semiconductors electronic devices behave like thyristor class. Furthermore, the present work constitutes a fully new route to sintering iron niobate. The results indicate that the samples have great potential for application in electronic devices.. Keywords: Iron niobate. Dielectric characterization. Thyristor. Permittivity.. iv.

(10) Lista de Figuras. 2.1 2.2 2.3 2.4 2.5 2.6 2.7 2.8 2.9 2.10 2.11 2.12 2.13 2.14 2.15 2.16 2.17 2.18 2.19 2.20. Estrutura Monocl´ınica do FeNbO4 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . Estrutura ortorrˆombica do FeNbO4 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . Estrutura tetragonal do FeNbO4 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . Tabela com as ordens de grandeza da condutividade de v´arios materiais . . Representa¸c˜ao esquem´atica para medir a resistˆencia el´etrica de um condutor Comportamento linear da resistividade com a temperatura do cobre e de algumas ligas met´alicas de cobre-n´ıquel . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . Comportamento da resistividade de um material puro e de outras ligas com concentra¸c˜ao de elementos distintos na sua constitui¸ca˜o . . . . . . . . . . . Comportamento da resistividade de um material puro e de outras ligas com concentra¸c˜ao de elementos distintos na sua constitui¸ca˜o . . . . . . . . . . . Representa¸c˜ao de um capacitor de placas paralelas . . . . . . . . . . . . . . Representa¸ca˜o de um dipolo el´etrico com duas cargas de intensidade q . . . Representa¸ca˜o de um capacitor de placas paralelas com um diel´etrico . . . (a) Representa¸c˜ao de uma polariza¸c˜ao iˆonica. (b) Representa¸c˜ao de dipolos el´etricos permanentes . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . Comportamento da constante diel´etrica em fun¸c˜ao da frequˆencia . . . . . . a) Estrutura de um tiristor p-n-p-n . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . a) Representa¸ca˜o simb´olica de um SCR em circuitos el´etricos. b) Representa¸ca˜o real de um SCR . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . Curva caracter´ıstica I-V de um tiristor SCR . . . . . . . . . . . . . . . . . Representa¸ca˜o da curva caracter´ıstica I-V de um DIAC . . . . . . . . . . . Representa¸ca˜o simb´olica de um DIAC em circuitos el´etricos . . . . . . . . . a) Representa¸c˜ao simb´olica de um TRIAC em circuitos el´etricos. b) Representa¸c˜ao real de um TRIAC . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . Curva caracter´ıstica I-V de um TRIAC . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .. v. 5 6 6 7 8 9 10 12 15 16 17 18 19 24 24 25 26 26 27 28.

(11) LISTA DE FIGURAS 3.1 3.2 3.3 3.4 3.5 3.6 3.7 3.8 3.9 3.10 3.11 3.12 3.13 3.14 3.15 3.16 3.17 3.18 3.19 3.20 3.21 3.22 3.23 3.24 4.1 4.2 4.3 4.4. Representa¸c˜ao esquem´atica dos tipos de colis˜oes. a) Impacto direto ou de cabe¸ca. b) Impacto obl´ıquo. c) Impacto por v´arias bolas . . . . . . . . . . (a) SPEX 8000 Mixer/mill. (b) Recipiente de carboneto de tugstˆenio junto com as esfereas, junta de veda¸ca˜o e a tampa do recipiente . . . . . . . . . . Modelo de um moinhos de bolas vibrat´orio . . . . . . . . . . . . . . . . . . a) Modelo 1-S de um moinhos de bolas por atrito. b) Arranjo esquem´atico de um moinho de bolas por atrito . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . a) Representa¸c˜ao esquem´atica das rota¸co˜es no moinho. b) Moinho planet´ario Fritsch Pulverisette 7 premium line do LNMS do DFTE da UFRN Movimento esquem´atico das esferas dentro do cadinho . . . . . . . . . . . . Representa¸c˜ao da reflex˜ao de Bragg em dois planos paralelos separados por uma distˆancia d . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . Imagem do difratˆometro de raios X do LNMS da UFRN, esse foi o equipamento no qual foi utilizado para realizar os DRX das amostras . . . . . . . Forno para tratamento t´ermico . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . Forno que foi utilizado para fazer o tratamento t´ermico depois da prensagem uniaxial . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . Etapas da prensagem uniaxial . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . Prensa universal do laborat´orio de materiais de constru¸c˜ao da UFRN . . . Etapas da sinteriza¸c˜ao . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . Esquema do MEV . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . Representa¸ca˜o dos sinais originados do feixe de el´etrons incidente na amostra Microsc´opio eletrˆonico de varredura do DEMAT-UFRN . . . . . . . . . . . Representa¸ca˜o da radia¸c˜ao incidente e raios emitidos de um a´tomo . . . . . Representa¸ca˜o de um sitema de fluorescˆencia de raios X . . . . . . . . . . . Espectrˆometro de FRX por energia dispersiva do DEMAT-UFRN . . . . . Diagrama de blocos do sistema de medidas de transporte el´etrico . . . . . . Etapas do processo para medidas diel´etricas . . . . . . . . . . . . . . . . . Equipamento para realizar medidas diel´etricas e seus acess´orios . . . . . . . Representa¸ca˜o do equipamento teste 16453A. . . . . . . . . . . . . . . . . . Analisador de propriedades diel´etricas do LNMS-UFRN. . . . . . . . . . . Difra¸ca˜o de raios X das amostras de FeNbO4 para diferentes per´ıodos de moagem e tratadas termicamente a 1300◦ C. . . . . . . . . . . . . . . . . . Varia¸ca˜o dos parˆametros de rede a, b e c para as diferentes amostras com simetria monocl´ınica e grupo espacial P2/c:b3. . . . . . . . . . . . . . . . . Representa¸c˜ao do tamanho de gr˜ao para os diferentes per´ıodos de moagem. Microscopia eletrˆonica de varredura das amostras depois de mo´ıdas em 24, 48 e 72 horas. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .. vi. 31 33 33 34 35 36 37 37 42 43 43 44 46 46 47 47 48 49 49 49 51 52 52 53. 55 57 57 59.

(12) LISTA DE FIGURAS 4.5 4.6 4.7 4.8 4.9 4.10. 4.11 4.12 4.13 4.14 4.15 4.16. Microscopia das amostras depois do processo de moagem e calcinadas a 1300◦ C por 4 horas. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . Micrografias das amostras estudadas no formato de pastilha, sinterizadas por 24 horas a 1000◦ C. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . Comportamento resistivo da amostra M24h 1300◦ C4h S1000C24h. . . . . Comportamento resistivo da amostra M48h 1300◦ C4h S1000C24h. . . . . Comportamento resistivo da amostra M72h 1300◦ C4h S1000C24h. . . . . Comportamento resistivo da amostra M24h 1300◦ C4h S1000C24h, obtida atrav´es da rota que consiste da mistura e calcina¸c˜ao dos p´os de Fe2 O3 e Nb2 O5 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . Constante diel´etrica para moagem diferentes e v´arias tens˜oes. . . . . . . . Fator de dissipa¸ca˜o para moagem diferentes e v´arias tens˜oes. . . . . . . . Perda diel´etrica para moagem diferentes e v´arias tens˜oes. . . . . . . . . . Constante diel´etrica para moagem diferentes e mesma tens˜ao. . . . . . . Fator de dissipa¸ca˜o para moagem diferentes e mesma tens˜ao. . . . . . . . Perda diel´etrica para moagem diferentes e com a mesma tens˜ao. . . . . .. vii. . 60 . . . .. 61 65 66 67. . . . . . . .. 68 70 71 72 73 74 75.

(13) Lista de Tabelas. 3.1. Fun¸co˜es para o perfil de reflex˜ao que s˜ao mais utilizadas. . . . . . . . . . . 41. 4.1. Parˆametros de rede obtidos pelo ajuste de Rietveld utilizando o programa MAUD. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . FRX das amostras depois do processo de moagem de alta energias. . . . . FRX das amostras mo´ıdas (24, 48h e 72h) e calcinadas a 1300◦ C por 4 horas. FRX das amostras mo´ıdas (24, 48h e 72h), calcinadas a 1300◦ C por 4 horas, prensadas, e sinterizadas a 1000◦ C por 24 horas. . . . . . . . . . . . . . . .. 4.2 4.3 4.4. viii. 56 62 63 63.

(14) Sum´ario. Agradecimentos. i. Resumo. iii. Abstract. iv. Lista de Figuras. vii. Lista de Tabelas. viii. Sum´ ario. 1. 1 Introdu¸c˜ ao. 1. 2 Revis˜ ao te´ orica 2.1 Ni´obio . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 2.2 Pent´oxido de Ni´obio - Nb2 O5 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 2.3 Ferro α-Fe . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 2.4 Niobato de ferro - FeNbO4 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 2.5 Propriedades el´etricas e diel´etricas dos materiais . . . . . . . . . . . 2.5.1 Condutividade e resistividade dos metais . . . . . . . . . . . 2.5.2 Capacitˆancia . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 2.5.3 Polariza¸ca˜o nos materiais . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 2.5.4 Ruptura diel´etrica . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 2.5.5 Dependˆencia da constante diel´etrica em rela¸c˜ao a` frequˆencia 2.5.6 Caracteriza¸ca˜o diel´etrica . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 2.6 Tiristor . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .. . . . . . . . . . . . .. . . . . . . . . . . . .. . . . . . . . . . . . .. . . . . . . . . . . . .. 3 3 4 4 5 7 9 14 15 17 18 19 22. 3 Procedimento Experimental 29 3.1 Amostras . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 29 3.1.1 Moinho de Alta Energia - MAE . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 30 ix.

(15) ´ SUMARIO. 3.2 3.3 3.4 3.5 3.6 3.7 3.8. 3.1.2 Tipos de moinho . . . . . . . . . . Difratometria de raios X - DRX . . . . . . 3.2.1 M´etodo Rietveld . . . . . . . . . . Fornos . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . Prensagem uniaxial e sinteriza¸c˜ao . . . . . Microscopia eletrˆonica de varredura - MEV Fluorescˆencia de raios X - FRX . . . . . . Sistema de medidas de transporte el´etrico Sistema de medidas diel´etricas . . . . . . .. . . . . . . . . .. . . . . . . . . .. . . . . . . . . .. . . . . . . . . .. . . . . . . . . .. . . . . . . . . .. . . . . . . . . .. . . . . . . . . .. 4 Resultados e discuss˜ oes 4.1 Difratometria de raios X . . . . . . . . . . . . . . . . . . 4.2 Microscopia eletrˆonica de varredura . . . . . . . . . . . . 4.3 Fluorescˆencia de raios X . . . . . . . . . . . . . . . . . . 4.4 Medidas de resistˆencia . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 4.4.1 Curva caracter´ıstica I-V do niobato de ferro para horas . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 4.4.2 Curva caracter´ıstica I-V do niobato de ferro para horas . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 4.4.3 Curva caracter´ıstica I-V do niobato de ferro para horas . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 4.5 Caracteriza¸c˜ao diel´etrica . . . . . . . . . . . . . . . . . . 4.5.1 An´alise diel´etrica . . . . . . . . . . . . . . . . . . 4.6 Comportamento da permissividade diel´etrica complexa .. . . . . . . . . .. . . . . . . . . .. . . . . . . . . .. . . . . . . . . .. . . . . . . . . .. . . . . . . . . .. . . . . . . . . .. . . . . . . . . .. . . . . . . . . .. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . moagem em 24 . . . . . . . . . moagem em 48 . . . . . . . . . moagem em 72 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .. . . . . . . . . .. 32 36 38 41 43 46 48 48 50. . . . .. 54 54 58 62 64. . 64 . 65 . . . .. 66 68 68 73. 5 Conclus˜ oes e perspectivas 76 5.1 Conclus˜oes . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 76 5.2 Perspectivas . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 77 Referˆ encias bibliogr´ aficas. 78. 1.

(16) Cap´ıtulo. 1. Introdu¸ca˜o O Brasil ´e o maior produtor de ni´obio do mundo, respons´avel por mais de 98% da produ¸ca˜o mundial. As maiores reservas de ni´obio est˜ao localizadas no Estado de Minas Gerais. Entretanto, as propriedades el´etricas do ni´obio e seus o´xidos foram pouco exploradas. Diante disso, este trabalho tem por objetivo estudar a substˆancia de niobato de ferro (FeNbO4 ), na literatura ele ´e principalmente obtido atrav´es da mistura de Fe2 O3 com Nb2 O5 . O niobato de ferro ´e um importante precursor para a prepara¸c˜ao do niobato de ferro chumbo (PFN). A alta condutividade el´etrica do FeNbO4 deve-se a natureza mista dos o´xidos de valˆencia (Fe2+ /Fe3+ ) nos quais os ´ıons dos metais de transi¸ca˜o est˜ao em s´ıtios idˆenticos com diferentes estados de valˆencia, portanto, adequado para aplica¸c˜oes em sensores (Chen, 2004; Gnanasekar et al., 1999). Este composto em particular tem sido investigado para aplica¸co˜es como fotodetectores, como poss´ıvel material fotoˆanodo para aplica¸co˜es em convers˜ao de energia solar e sensores a g´as (Devesa et al., 2016). O niobato de ferro pode ser obtido atrav´es de dois procedimentos experimentais. Um deles consiste na mistura e calcina¸ca˜o dos p´os de hematita e pent´oxido de ni´obio, o outro ´e denominado como m´etodo sol-gel. Neste trabalho, s˜ao analisadas as propriedades estruturais e diel´etricas em amostras do tipo pastilha de niobato de ferro, obtidas atrav´es de uma nova rota de s´ıntese. A fase cristalina de niobato de ferro foi obtida, a partir da moagem (24h, 48h e 72h) dos p´os-precursores de pent´oxido de ni´obio [Nb2 O5 ] e α-Fe [Fe3+ ] e a´gua destilada [H2 O]. Os produtos da moagem foram tratados termicamente. As curvas que representam o comportamento resistivo, mostraram total semelhan¸ca com dispositivos semicondutores, com aplica¸ca˜o em dispositivos eletrˆonicos do tipo tiristor. O tiristor ´e a jun¸ca˜o de dois transistores antiparalelo, formado por camadas alternadas o tipo P-N (Blicher, 1976). Este trabalho est´a organizado da seguinte forma: no cap´ıtulo 2, ´e apresentado uma revis˜ao te´orica sobre o ni´obio e p´os precursores utilizados na obten¸c˜ao do niobato de ferro. Al´em disso, s˜ao descritos temas relevantes ao entendimento do trabalho, tais como: 1.

(17) ˜ CAP´ITULO 1. INTRODUC ¸ AO propriedades el´etricas, diel´etricas e dispositivos para aplica¸ca˜o. No cap´ıtulo 3, ser´a descrito o procedimento experimental. Neste, s˜ao apresentadas as amostras investigadas no trabalho e os procedimentos utilizados para a caracteriza¸ca˜o estrutural e diel´etrica. No cap´ıtulo 4, ser˜ao apresentados e discutidos, os resultados relacionados a caracteriza¸c˜ao estrutural e diel´etrica das amostras de niobato de ferro. No cap´ıtulo 5, finalmente ´e destinado as principais conclus˜oes e a`s perspectivas para continuidade da investiga¸c˜ao sobre FeNbO4 .. 2.

(18) Cap´ıtulo. 2. Revis˜ao te´orica. 2.1. Ni´ obio. O Ni´obio recebeu esse nome em homenagem a N´ıobe uma personagem da mitologia grega, filha de Tˆantalo e Dione. E j´a recebeu o nome de Col´ umbio quando foi descoberto, em 1801, pelo qu´ımico inglˆes Charles Hatchett, em uma amostra de min´erio enviado por John Winthrop do Estado de Massachusetts nos Estados Unidos para a Inglaterra. O Ni´obio apresenta propriedades f´ısicas e qu´ımicas semelhantes ao elemento qu´ımico Tˆantalo. Em 1809, o qu´ımico inglˆes William Hyde Wollaston chegou a uma conclus˜ao errˆonea que o Col´ umbio e o Tˆantalo eram idˆenticos. Um outro qu´ımico alem˜ao Heinrich Rose estabeleceu que no mineral de Tˆantalo havia um outro elemento, o qual foi chamado de Ni´obio, e por volta de 1864 e 1865 ficou cristalina a ideia de que o Col´ umbio e o Ni´obio eram um u ´nico elemento. O nome do Ni´obio foi oficialmente adotado pela IUPAC em 1950 (Wikipedia, ; Nowak; Ziolek, 1999). O ni´obio ´e um elemento que tem como s´ımbolo Nb, ´e um metal de transi¸c˜ao pertencente a` fam´ılia 5B da tabela peri´odica tem n´ umero atˆomico 41, a massa atˆomica ´e de 90,906 e o raio atˆomico ´e de 1,98 ˚ A. As reservas brasileiras possuem 842.460.000 toneladas distribu´ıdas nas jazidas locais (Minera¸ca˜o, 2017). A abundˆancia do elemento de Ni´obio na crosta terrestre ´e de 20 mg/kg (Lide, 2003-2004). O Ni´obio n˜ao ´e encontrado na natureza no seu estado livre e ´e sempre acompanhado de um outro elemento, na maioria das vezes ´e encontrado com o mineral Tˆantalo (Nowak; Ziolek, 1999). O Brasil continua sendo o pa´ıs com maior produ¸c˜ao de ni´obio, respons´avel por mais de 98% da produ¸ca˜o mundial seguido pelo Canad´a. Uma das maiores reservas de Ni´obio est´a localizada no estado de Minas Gerais na cidade de Arax´a (Mineral, 2014). A cidade de Arax´a ´e respons´avel pela gera¸c˜ao de 75% do ni´obio utilizado no mundo, a produ¸ca˜o anual do ni´obio ´e de 700.000 toneladas da liga de ferro-ni´obio. Em Arax´a existem reservas para serem exploradas cerca de 400 anos (Codemig, 2017). 3.

(19) ˜ TEORICA ´ CAP´ITULO 2. REVISAO Existem outros estados no Brasil que tem reservas lavr´aveis de ni´obio como Amazonas, Goi´as, Rondˆonia, Para´ıba e Rio Grande do Norte (Mineral, 2014; Angelim, 2007).. 2.2. Pent´ oxido de Ni´ obio - Nb2O5. Um dos compostos do ni´obio ´e o pent´oxido de ni´obio (Nb2 O5 ) ou tamb´em pode ser chamado de ´oxido de ni´obio. O tamanho de part´ıculas do p´o de pent´oxido de ni´obio ´e em torno de 20 mm. O estudo de propriedades eletrocrˆomicas do pent´oxido de ni´obio tem como objetivo principal a aplica¸ca˜o deste material em tecnologia opto-eletrˆonica para fabrica¸ca˜o de janelas eletrocrˆomicas1 , espelhos inteligentes, e outras mais. O Nb2 O5 tem excelente estabilidade e resistˆencia a corros˜ao tanto em meio a´cido como b´asico (Avellaneda et al., 1998). O pent´oxido de ni´obio ´e um semicondutor tipo “n” com band gap ´ um s´olido branco, est´avel ao ar e insol´ ´ consivariando de 3,1 a 4,0 eV. E uvel em ´agua. E deravelmente mais est´avel `a redu¸c˜ao do que o´xido de van´adio, que pertence `a fam´ılia (5A) (Lopes et al., 2015). A massa espec´ıfica do pent´oxido de ni´obio e o seu ponto de fus˜ao s˜ao, respectivamente, 4,95 g/cm3 e 1495 ◦ C (Souza, 2015). Brauer, em 1941, encontrou o Nb2 O5 em trˆes fases cristalogr´aficas que ocorrem em diferentes temperaturas: fase T (at´e 900 ◦ C), fase M (900 a 1100 ◦ C) e fase H (acima de 1100 ◦ C)(Lopes et al., 2015; Souza, 2015).. 2.3. Ferro α-Fe. O ferro (Fe) ´e um metal com uma colora¸ca˜o prateada, est´a localizado no grupo 8B da tabela peri´odica, possui um n´ umero atˆomico 26, a sua massa atˆomica ´e de 55,85 g/mol. O ferro n˜ao ´e encontrado na sua forma livre ou elementar, sempre est´a associado com outros elementos, a seguir mostraremos as formas que podem ser encontrada o ferro. Os o´xidos de ferro s˜ao elementos muito comum na superf´ıcie terrestre e de f´acil sintetiza¸ca˜o em laborat´orios. Eles s˜ao mais encontrados na forma de FeO - o´xido de ferro II e Fe2 O3 - o´xido de ferro III, um outro tipo que tamb´em ´e encontrado ´e o Fe3 O4 que ´e uma mistura do II e o III (Astrall, 2015; Wikipedia, 2015). A maior parte do ferro encontrado na crosta terrestre est´a presente originalmente como Fe+2 , mas a a¸c˜ao oxidante da atmosfera faz com que ele rapidamente passe a Fe+3 (Rezende, 2012). As formas minerais de ´oxido de ferro, como hematita (Fe2 O3 ), goethite (FeO(OH)) e jarosite (KFe+3 ao importantes porque s˜ao amplamente dis3 (OH)6 (SO4 )2 ), s˜ 1´. E uma propriedade caracter´ıstica que alguns materiais ou sistemas apresentam de mudar a cor (absor¸c˜ ao e/ou reflex˜ ao espectral) reversivelmente, em resposta a um potencial externo aplicado (Oliveira; Torresi, 2000).. 4.

(20) ˜ TEORICA ´ CAP´ITULO 2. REVISAO tribu´ıdas na superf´ıcie da Terra e porque s˜ao usadas como indicadores para explora¸ca˜o mineral (Noda; Yamaguchi, 2017).. 2.4. Niobato de ferro - FeNbO4. O FeNbO4 ´e um composto bem conhecido da fam´ılia dos ortoniobatos ANbO4 , que apesar de ser investigado desde de 1979, poucas publica¸co˜es foram realizadas sobre esse material. A maioria das investiga¸co˜es realizadas sobre o FeNbO4 foi feita com objetivo de determinar as propriedades polimorfas, el´etricas e magn´eticas (Alvarez et al., 2007; Peixoto, 2015). O niobato de ferro ´e uma fase que normalmente ´e obtida atrav´es da mistura e calcina¸ca˜o dos p´os de Fe2 O3 (hematita) e do Nb2 O5 (pent´oxido de ni´obio) (Chen, 2004; Ananta et al., 1999; Schmidbauer; Schneider, 1997; Li et al., 2014; Ehrenberg et al., 2000; Gnanasekar et al., 1999). Uma outra maneira de produzir o FeNbO4 ´e atrav´es do m´etodo sol-gel, utilizando o cloreto de ni´obio (NbCl5 ), nitrato de ferro (Fe(NO3 )3 9H2 O), a´cido c´ıtrico e o etilenoglicol (Devesa et al., 2016). O composto de FeNbO4 apresenta polimorfismo com as seguintes estruturas: Monocl´ınica, ortorrˆombica e Tetragonal. A estrutura monocl´ınica, com grupo espacial P 2/c, ´e est´avel no intervalo que compreende a temperatura ambiente at´e 1080◦ C. Na figura (2.1) temos a representa¸c˜ao dessa estrutura.. Figura 2.1: Estrutura Monocl´ınica do FeNbO4 baseada em um empilhamento em ziguezague de octaedros de FeO6 e NbO6 . Figura retirada de (Schmidbauer; Schneider, 1997). A estrutura ortorrˆombica, com grupo espacial P bcn, ´e est´avel entre 1080◦ C e cerca de 1380◦ C. Na figura (2.2) temos a representa¸ca˜o esquem´atica da estrutura ortorrˆombica. A estrutura rutilo tetragonal representada na figura (2.3), com grupo espacial P 42 /mnm, para temperaturas acima de 1380◦ C at´e em torno de 1450◦ C (Schmidbauer; Schneider, 1997). Esta estrutura ´e caracterizada por cadeias octa´edricas e que partilham a aresta do 5.

(21) ˜ TEORICA ´ CAP´ITULO 2. REVISAO. Figura 2.2: Estrutura ortorrˆombica do FeNbO4 baseada em uma cadeia em zigue-zague de uma sequˆencia empilhada de octaedros de FeO6 e NbO6 . Figura retirada e adaptada de (Cho et al., 2008). octa´edrico ao longo do eixo c, as outras estruturas apresentam um zigue-zague ao longo desse eixo.. Figura 2.3: Estrutura tetragonal do FeNbO4 : (a) ´e a proje¸ca˜o ao longo de [100] e (b) ´e a proje¸c˜ao ao longo de [001]. Figura retirada e adaptada de (Pan et al., 2014). Na figura (2.3), as esferas azuis representam os ´atomos de oxigˆenio, os ´atomos que est˜ao dispostos no centro do octaedro se intercalam entre ferro ou ni´obio. A linha vermelha na figura (2.3(a)) representa a dire¸c˜ao que os octaedros partilham as arestas. O m´erito dos niobatos met´alicos como fotocatalisadores ´e devido a sua sensibilidade a luz vis´ıvel, proveniente das distor¸co˜es octa´edricas na unidade NbO6 , juntamente com o alto n´ıvel de energia do orbital 4d do Nb. Pesquisas recentes sobre as propriedades catal´ıticas do niobato de ferro demonstram que as imperfei¸co˜es na rede cristalina s˜ao induzidas pelas impurezas, morfologia de gr˜aos e metais (Babu et al., 2014). O niobato de ferro ´e um precursor importante para a produ¸ca˜o de cerˆamicas perovskitas complexas baseadas 6.

(22) ˜ TEORICA ´ CAP´ITULO 2. REVISAO em niobato de ferro e chumbo (Chen, 2004). As propriedades el´etricas do FeNbO4 tˆem sido investigada devido a possibilidade como uso de material fotoˆanodo para convers˜ao de energia solar (Schmidbauer; Schneider, 1997). A alta condutividade el´etrica da fase monocl´ınica do FeNbO4 ´e associada a mistura de valˆencia dos ´ıons (Fe2+ /Fe3+ ) de ferro (Alvarez et al., 2007). A condutividade el´etrica σ do policristalino FeNbO4 na estrutura monocl´ınica foi encontrada para a temperatura ambiente que σ = 2, 5 × 10−5 Ω−1 cm−1 (Schmidbauer; Schneider, 1997). A Temperatura de N´eel ´e a temperatura acima da qual desaparece o efeito antiferromagn´etico dos materiais, a partir da´ı os materiais se comportam como paramegn´etico. A Temperatura de N´eel do FeNbO4 ´e de TN = 38, 5K (Ehrenberg et al., 2000).. 2.5. Propriedades el´ etricas e diel´ etricas dos materiais. As principais caracter´ısticas dos materiais met´alicos ´e a sua facilidade em conduzir a corrente el´etrica. Os materiais s˜ao classificados de acordo com as suas propriedades, eles s˜ao classificados como: condutores, semicondutores e n˜ao-condutores (isolantes ou diel´etricos) (Hummel, 2004). Os materiais diel´etricos possuem um n´ umero importante de propriedades que s˜ao usadas na ind´ ustria de eletrˆonicos, como: condutividade el´etrica, permissividade e impedˆancia. (Hummel, 2004). A condutividade el´etrica ´e representada pelo s´ımbolo σ, a figura (2.4) mostra a condutividade de v´arios materiais a temperatura ambiente. SiO2 Porcelana. Borracha Meca NaCl. Quartzo. 10. -22. 10. -20. 10. Fe. Si dopado. Madeira seca. -18. 10. -16. 10. Vidro. -14. 10. -12. GaAs. 10. -10. Si. 10. -8. Isolantes. Ge. 10. -6. 10. -4. Ag Cu. Mn. 10. -2. Semicondutores. 10. 0. 10. 2. 10. 4. s. 1 [W.m ]. Metais. Figura 2.4: Tabela com as ordens de grandeza da condutividade de v´arios materiais. Figura retirada e adaptada de (Hummel, 2004). O inverso da condutividade ´e chamado de resistividade (ρ), 1 . (2.1) σ A resistˆencia el´etrica do material condutor ´e proporcional a resistividade, ao comprimento do material L e ´e inversamente proporcional a ´area de sec¸c˜ao transversal, A: ρ=. 7.

(23) ˜ TEORICA ´ CAP´ITULO 2. REVISAO. ρ·L . (2.2) A A resistˆencia el´etrica ´e facilmente medida com a seguinte configura¸c˜ao representada na figura (2.5), a unidade utilizada ´e o Ω ou Ohm. A corrente el´etrica ´e aplicada no material, e obtˆem-se as medidas de diferen¸ca de potencial para cada valor de corrente el´etrica submetido ao material. R=. Figura 2.5: Representa¸c˜ao esquem´atica para medir a resistˆencia el´etrica de um condutor. A resistˆencia el´etrica R, tamb´em pode ser calculada utilizando a lei de Ohm, V = R · I,. (2.3). onde, V ´e a diferen¸ca de potencial medida em V (Volt), I ´e a corrente el´etrica que atravessa o material, dada em A (Amp`eres). A equa¸ca˜o (2.3) foi obtida empiricamente por um f´ısico alem˜ao, Georg Simon Ohm, em 1826, depois de ter realizado v´arias observa¸co˜es experimentais (Hummel, 2004). Uma outra forma da lei de Ohm, pode ser obtida substituindo a equa¸c˜ao (2.2) na equa¸c˜ao (2.3), V =. L·ρ V 1 I · I =⇒ · = , A L ρ A. e sabendo que a densidade de corrente e que o campo el´etrico s˜ao respectivamente: j=. I , A. (2.4). E=. V , L. (2.5). e. 8.

(24) ˜ TEORICA ´ CAP´ITULO 2. REVISAO utilizando tamb´em a equa¸ca˜o (2.1), teremos uma outra forma de apresenta¸ca˜o da lei de Ohm, j = σ · E. (2.6) A unidade utilizada para j ´e A/cm2 , para o E ´e o V /cm e σ ´e o 1/Ω.cm.. 2.5.1. Condutividade e resistividade dos metais. A resistividade dos metais apresentam uma rela¸c˜ao diretamente proporcional a temperatura, ou seja, a resistividade aumenta linearmente com o aumento da temperatura, de acordo com a equa¸ca˜o (2.7) obtida empiricamente: ρ = ρ0 [1 + α(T2 − T1 )],. (2.7). onde o α ´e o coeficiente de temperatura linear da resistividade, as temperaturas T1 e T2 s˜ao distintas e juntas representam uma varia¸c˜ao de temperatura. Na figura (2.6) podemos observar o comportamento da resistividade, verifica-se tamb´em que os materiais possuem uma resistˆencia residual (ρres ), ou seja, eles possuem uma ρres intr´ınseca essencialmente independente da temperatura. Esta resistividade residual pode est´a relacionada com as imperfei¸co˜es do cristal (impurezas, vacˆancias ou deslocamentos). Com o aumento da temperatura, ocorre um aumento da oscila¸ca˜o dos a´tomos da rede em torno da posi¸c˜ao de equil´ıbrio, devido a absor¸ca˜o da energia t´ermica, ou seja, aumenta a probabilidade de colis˜oes dos el´etrons com os a´tomos da rede. Consequentemente, a resistˆencia el´etrica no material aumenta com o aumento da temperatura (Hummel, 2004).. Figura 2.6: Comportamento linear da resistividade com a temperatura do cobre e de algumas ligas met´alicas de cobre-n´ıquel. ρres ´e a resistividade residual. Figura retirada de (Hummel, 2004). De acordo com a ideia proposta Matthiessen, a resistividade depende de elementos independentes, juntos, esses elementos descrevem a resistividade total do material, de. 9.

(25) ˜ TEORICA ´ CAP´ITULO 2. REVISAO acordo com a equa¸ca˜o (2.8), ρ = ρt´ermica + ρimpurezas + ρdeforma¸ca˜o ,. (2.8). a ρimpurezas e ρdeforma¸ca˜o s˜ao grandezas independentes da temperatura, ou seja, mesmo que n˜ao haja uma varia¸c˜ao de temperatura elas duas continuar˜ao constante. S˜ao caracter´ısticas intr´ınsecas do material ou liga met´alica. Elas originam a ρres , logo a equa¸c˜ao (2.8) se tornar´a, ρ = ρt´ermica + ρres ,. (2.9). a ρt´ermica ´e a grandeza relacionada a varia¸ca˜o de temperatura. As impurezas, os n´ umeros de vacˆancias, as bordas dos gr˜aos podem ser alteradas facilmente com o tratamento t´ermico. Com isso ocorre uma altera¸c˜ao na medida da resistividade. A resistividade foi uma das propriedades dos materiais amplamente estuda, devido a sua facilidade de medi¸ca˜o (Hummel, 2004; Rossiter, 1987). A resistividade de um metal puro com rela¸ca˜o a esse mesmo metal misturado com outra liga, ser´a sempre maior, porque a liga met´alica que foi adicionada ao metal puro, tem o mesmo efeito de impurezas acrescentadas ao material, conforme mostra a figura (2.7). Caso os ´atomos da liga formem uma nova estrutura cristalina, a pertuba¸ca˜o na onda de el´etrons diminui e consequentemente a resistividade diminuir´a (Tilley, 2004).. Figura 2.7: Comportamento da resistividade de um material puro e de outras ligas com concentra¸c˜ao de elementos distintos na sua constitui¸c˜ao. Figura retirada e adaptada de (Tilley, 2004). As colis˜oes dos el´etrons no interior do material est´a associada a transferˆencia de energia, os el´etrons que se movem no material transferem energia para a estrutura. Isso ´e chamado de energia t´ermica e explica o fato da corrente el´etrica gerar calor. A este efeito dar-se o nome de aquecimento Joule, que ocorre ao longo do fio condutor (Tilley, 2004).. 10.

(26) ˜ TEORICA ´ CAP´ITULO 2. REVISAO Para quantificar o calor gerado utiliza-se a equa¸c˜ao (2.10), P = I 2 · R,. (2.10). no qual P ´e a potˆencia el´etrica calculada em Watts (W). O aquecimento Joule ´e um grande problema para circuitos compactos, para estes funcionarem bem ´e preciso colocar algo para refriger´a-los (Tilley, 2004). Efeito do campo el´ etrico nos metais A equa¸ca˜o (2.6) ´e a lei de Ohm em termos da densidade de corrente, da condutividade e do campo el´etrico aplicado. Para determinar o efeito do campo el´etrico aplicado, vamos considerar inicialmente um g´ as cl´ assico de el´ etrons livres. Suponha que existe n el´etrons por unidade de volume. Imagine que os el´etrons se movem aleatoriamente com uma distribui¸ca˜o de velocidade determinada pela temperatura do material. Na ausˆencia do campo el´etrico aplicado, temos que a velocidade m´edia ´e dada por, Vm =. 1X Vi = 0, n i. (2.11). Vm = 0, porque os el´etrons se movem tanto em uma dire¸ca˜o como na outra, resultando em uma velocidade m´edia nula. Considere um el´etron na presen¸ca do campo el´etrico aplicado. A for¸ca que o el´etron experimenta ´e a for¸ca el´etrica, Fe = e · E.. (2.12). Utilizando a segunda lei de Newton, temos que a equa¸ca˜o do movimento para um portador m´edio da carga el´etrica ser´a, dVm = e · E. (2.13) m dt Integrando a equa¸ca˜o (2.13), Z Z e·E dVm = dt (2.14) m e·E t + constante. (2.15) m O campo el´etrico ´e aplicado em t = 0, portanto, Vm = 0 quando t = 0, logo temos que a constante ´e nula da equa¸c˜ao (2.15), Vm =. Vm =. e·E t, m. (2.16). observa-se que a velocidade m´edia aumenta linearmente com o tempo. Se o n´ umero de el´etrons por unidade de volume, n˜ao interagem e n˜ao colidem uns com os outros, a 11.

(27) ˜ TEORICA ´ CAP´ITULO 2. REVISAO densidade de corrente pode ser dada por, j = neVm =. ne2 · E t, m. (2.17). no qual n ´e o n´ umero de cargas por unidade de volume. Analisando a equa¸ca˜o (2.17), com o campo el´etrico aplicado, a corrente el´etrica aumenta linearmente com o tempo, violando o princ´ıpio b´asico da lei de Ohm. Essa viola¸ca˜o ´e devido ao fato de n˜ao ter considerado a colis˜ao dos el´etrons(Jain, 1817). ´ postulado que os el´etrons livres s˜ao acelerados dentro do metal, devido a influˆencia E do campo el´etrico a qual ´e submetido e mantido, de acordo com a equa¸c˜ao (2.5). Durante a acelera¸ca˜o dos el´etrons, resulta na for¸ca de Lorentz que tem apenas a contribui¸c˜ao da for¸ca el´etrica, Fe = e · E.. (2.18). Os el´etrons livres migram em zigue-zague atrav´es do condutor colidindo com a´tomos da rede, saindo do c´atodo para o ˆanodo, conforme mostra a figura (2.8)(Hummel, 2004; Tilley, 2004). Nessas colis˜oes os el´etrons perdem uma parte do momento e da energia. O tempo m´edio entre duas colis˜oes ´e conhecido como tempo de relaxa¸ca˜o, τ . Portanto, os el´etrons sofrem a a¸ca˜o de uma for¸ca, na qual podemos expressar como sendo (Jain, 1817): Vm . τ Para esse caso, ocorre uma altera¸c˜ao na equa¸ca˜o de movimento do el´etron, F =m. m. dVm mVm + = e · E. dt τ. (2.19). (2.20). Figura 2.8: Representa¸c˜ao esquem´atica do el´etron atravessando um condutor. Figura retirada de (Hummel, 2004). Resolvendo a equa¸ca˜o (2.20), dVm e · E Vm = − dt m τ 12. (2.21).

(28) ˜ TEORICA ´ CAP´ITULO 2. REVISAO dVm = dt − Vτm Z Z dVm   = dt, e·E Vm − τ m e·E m.  fazendo um substitui¸c˜ao, u =. e·E m. Vm τ. − Z. Vm − τ. . (2.23).  , du = − dVτm. du = u. Z −. dt , τ. (2.24). t ln(u) = − + constante τ     e · E Vm t − = Kexp − m τ τ . (2.22).   t e·E = Kexp − − τ m.   eτ t Vm = E − K1 exp − , m τ. (2.25) (2.26). (2.27). (2.28). vamos aplicar as condi¸co˜es de contorno para encontrar o valor de K1 , t = 0 a Vm = 0, logo temos que, eτ (2.29) K1 = E, m substituindo o valor de K1 na equa¸ca˜o (2.28),      eτ t t eτ eτ Vm = E − E · exp − = E 1 − exp − , m m τ m τ. (2.30). agora vamos analisar a equa¸ca˜o (2.30) quando t −→ ∞, Vmt−→∞ =. eτ E, m. (2.31). Vmt−→∞ ´e a velocidade m´edia final, tamb´em chamada de velocidade de deriva do el´etron, logo, eτ Vd = E, (2.32) m substituindo a equa¸c˜ao (2.32) na (2.30), . . t Vm = Vd 1 − exp − τ. 13.  ,. (2.33).

(29) ˜ TEORICA ´ CAP´ITULO 2. REVISAO a densidade de corrente j ´e dada por,    t ne2 Eτ 1 − exp − . j = neVm = m τ. (2.34). A densidade de corrente aumenta exponencialmente com o tempo. A densidade de corrente atinge o seu estado est´avel quando t −→ ∞, sendo assim temos que, j=. ne2 τ E, m. (2.35). comparando a equa¸c˜ao (2.35) com a lei de Ohm, σ·E =. ne2 τ E, m. (2.36). ne2 τ . (2.37) m A condutividade el´etrica ´e calculada atrav´es do n´ umero de el´etrons por unidade de volume, da carga do el´etron, da massa e do tempo de relaxa¸c˜ao. A mobilidade (µ) ´e definida no seu estado est´avel, como sendo a Vd por unidade de campo el´etrico. eτ E eτ Vd = = , (2.38) µ= E mE m substituindo a equa¸c˜ao (2.38) na equa¸c˜ao (2.37), temos que, σ=. σ = neµ.. (2.39). A mobilidade ´e utilizada para trabalhar com materiais semicondutores(Jain, 1817).. 2.5.2. Capacitˆ ancia. Quando uma voltagem ´e aplicada a duas placas met´alicas paralelas separadas por uma distˆancia L, uma placa se torna positivamente carregada e a outra carregada negativamente. O campo el´etrico correspondente ´e direcionado da placa positiva para a placa negativa (Hummel, 2004; Callister, 2000), de acordo com a figura (2.9). A capacitˆ ancia, C, ´e a propriedade que est´a relacionada a quantidade de cargas armazenada em cada uma das placas, Q, por unidade de diferen¸ca de potencial. A capacitˆancia pode ser expressa atrav´es da seguinte rela¸ca˜o, Q C= , (2.40) V as unidades para capacitˆancia s˜ao o Coulomb por Volt, ou Faraday (F). Considerando que no capacitor de placas paralelas com v´acuo no espa¸co entre as placas,. 14.

(30) ˜ TEORICA ´ CAP´ITULO 2. REVISAO. Figura 2.9: Representa¸c˜ao de um capacitor de placas paralelas. Figura retirada e adaptada de (Callister, 2000). figura (2.9). A capacitˆancia pode ser calculada atrav´es da seguinte rela¸c˜ao, A C = ε0 , L. (2.41). onde A ´e a a´rea das placas, L ´e a distˆancia que separa as placas. O ε0 ´e a permissividade do v´acuo, o valor dessa contante ´e de 8, 85 × 10−12 F/m. Para o caso em que um material diel´etrico ´e colocado, entre as placas paralelas. A capacitˆancia ´e dada por, A C=ε , (2.42) L no qual ε ´e a permissividade do meio diel´etrico, a qual pode ser escrita como um numero complexo, ε0 ´e a parte real e ε00 a parte imagin´aria. A permissividade ε sempre ter´a um m´odulo maior que ε0 . A raz˜ao entre ε e o ε0 ´e a permissividade relativa, εr , ou comumente chamada de constante diel´etrica: ε (2.43) εr = , ε0 o εr ´e uma grandeza adimensional que representa um aumento na capacidade de armazenamento de cargas no capacitor (Hummel, 2004). A permissividade do meio diel´etrico ´e muito investigada nas ind´ ustrias, para a escolha de um capacitor que se adeque a diferentes necessidades.. 2.5.3. Polariza¸ c˜ ao nos materiais. Para cada dipolo el´etrico existe uma separa¸ca˜o, d, entre a carga negativa e a carga positiva. O momento de dipolo ´e direcionado da carga negativa para a carga positiva, como mostra a figura (2.10). O momento de dipolo el´etrico p est´a associado com cada dipolo da seguinte forma,. 15.

(31) ˜ TEORICA ´ CAP´ITULO 2. REVISAO. p = qd.. (2.44). Figura 2.10: Representa¸c˜ao de um dipolo el´etrico com duas cargas de intensidade q. Os materiais isolantes (diel´etricos) possuem ´ıons ou mol´eculas que quando s˜ao colocados na presen¸ca de um campo el´etrico produzem uma corrente el´etrica desprez´ıvel e esses ´ıons se reorientam ou se organizam, essa orienta¸ca˜o ´e chamada de polariza¸c˜ ao, P (Hummel, 2004; Callister, 2000; Gentilini, 2012). A polariza¸c˜ao em um material diel´etrico pode ser entendida como sendo o momento de dipolo total por unidade de volume do material diel´etrico, observe a express˜ao da polariza¸ca˜o, N X pi , ∆V →0 ∆V i. P = lim. (2.45). as unidades de P s˜ao C/m2 , as mesmas da densidade superficial de carga (Callister, 2000; Gentilini, 2012). Em um capacitor de placas paralelas, o deslocamento diel´ etrico D tamb´em ´e chamado de densidade superficial de carga, dado por: D = εE,. (2.46). ε ´e a constante de proporcionalidade. Para o caso em que o diel´etrico ´e inserido entre as placas do capacitor, o deslocamento diel´etrico ´e dado pela soma de dois termos: D = ε0 E + P.. (2.47). Quando o diel´etrico ´e inserido entre as placas do capacitor na presen¸ca de um campo el´etrico, ocorre o efeito de polariza¸ca˜o no diel´etrico, observe a figura (2.11). Nas proximidades da placa que est´a carregada positivamente, ocorre um ac´ umulo de carga l´ıquida na superf´ıcie do diel´etrico, −Q0 . Nas proximidades da que est´a carregada negativamente, ocorre um ac´ umulo de carga positiva +Q0 na superf´ıcie do diel´etrico. Na regi˜ao interna distantes das placas do capacitor, o efeito de polariza¸c˜ao n˜ao ´e importante. Como a voltagem a qual as placas do capacitor est´a sujeita, permanece a mesma do capacitor que s´o havia v´acuo, surge uma carga +Q0 na placa positiva e uma carga −Q0 na placa negativa. Dessa forma, ocorre um aumento da carga acumulada nas placas do capacitor, 16.

(32) ˜ TEORICA ´ CAP´ITULO 2. REVISAO consequentemente aumenta a capacitˆancia ou tamb´em pode ser considerado um aumento da constante diel´etrica (Callister, 2000).. Figura 2.11: Representa¸c˜ao de um capacitor de placas paralelas com um diel´etrico. Figura retirada e adaptada de (Callister, 2000). A forma de polariza¸ca˜o descrita na figura (2.11), ´e conhecida como polariza¸ c˜ ao eletrˆ onica. Esse tipo de polariza¸ca˜o s´o ocorre em materiais diel´etricos e na presen¸ca de um campo el´etrico (Callister, 2000; Hummel, 2004). A polariza¸c˜ ao iˆ onica s´o ocorre em materiais iˆonicos, tais como haletos alcalinos. O campo aplicado atua de forma a deslocar os c´ations em uma dire¸c˜ao e os ˆanions na dire¸ca˜o oposta. Resultando em um momento de dipolo l´ıquido. Conforme mostra a figura (2.12(a))(Callister, 2000; Hummel, 2004). A polariza¸c˜ ao de orienta¸c˜ ao ocorre somente em substˆancias que j´a possuem um momento de dipolo permanente, tais como: ´agua, ´oleos, l´ıquidos orgˆanicos, ceras, pol´ımeros amorfos, cloreto de polivinilo (PVC) e cerˆamicas como titanato de b´ario (BaT iO3 ). A polariza¸ca˜o resulta no alinhamento dos dipolos permanentes na dire¸c˜ao do campo aplicado, conforme mostra a figura (2.12(b))(Callister, 2000; Hummel, 2004). A polariza¸ca˜o total P de uma substˆancia ´e dada pela soma das polariza¸co˜es eletrˆonica, iˆonica e de orienta¸ca˜o que s˜ao respectivamente Pe , Pi e Po . Podemos escrever a equa¸ca˜o da polariza¸c˜ao total da seguinte forma, P = P e + Pi + Po .. 2.5.4. (2.48). Ruptura diel´ etrica. Em materiais diel´etricos a mobilidade dos el´etrons ´e menor do que em materiais condutores, dizemos que os el´etrons no isolante est´a mais fortemente ligado ao n´ ucleo do a´tomo. 17.

(33) ˜ TEORICA ´ CAP´ITULO 2. REVISAO. -. +. -. +. -. -. +. -. +. -. +. +. -. +. -. +. -. -. +. -. +. -. +. +. -. +. -. -. +. -. +. -. +. -. +. +. -. +. -. +. (a). (b). Figura 2.12: (a) Representa¸c˜ao de uma polariza¸ca˜o iˆonica. (b) Representa¸c˜ao de dipolos el´etricos permanentes. Figura retirada e adaptada de (Callister, 2000). Quando esses materiais s˜ao inseridos em uma regi˜ao de campo el´etrico muito intenso, ocorre uma orienta¸ca˜o repentina nos el´etrons do diel´etrico, gerando uma corrente el´etrica alt´ıssima no material. Levando o material a ser condutor, em alguns casos pode ocorrer a fus˜ao, queima ou vaporiza¸ca˜o localizada, esses tipos de processos levam a uma degrada¸ca˜o irrevers´ıvel ou at´e mesmo uma falha permanente do material (Callister, 2000). Esse tipo de fenˆomeno tamb´em ´e chamado de ruptura da rigidez diel´ etrica e pode ser facilmente observado com o aumento da parte referente a permissividade diel´etrica imagin´aria, ε00 . Um caso muito comum que ocorre a ruptura da rigidez diel´etrica ´e no ar atmosf´erico, com o aparecimento de fa´ıscas e relˆampagos. Isso ocorre para campos el´etricos da ordem de 106 V /m. A rigidez diel´etrica depende de diversos fatores como: temperatura, tempo de aplica¸ca˜o da diferen¸ca de potencial, taxa de crescimento da tens˜ao e para um g´as, a press˜ao ´e um fator importante. A tens˜ao de ruptura em um capacitor pode ser calculado da seguinte forma: V = D · d,. (2.49). V ´e a tens˜ao de ruptura em volts, D ´e a rigidez diel´etrica em V /m do material usado como diel´etrico no capacitor e d ´e distˆancia que separa as duas placas ou a espessura do diel´etrico em m.. 2.5.5. Dependˆ encia da constante diel´ etrica em rela¸c˜ ao ` a frequˆ encia. Considere um material diel´etrico que esteja sujeito a polariza¸c˜ao por um campo el´etrico aplicado, que muda de dire¸ca˜o ao longo do tempo. Para cada mudan¸ca de dire¸c˜ao, os dipolo el´etricos demoram um certo para se realinharem com novo campo, esse tempo 18.

(34) ˜ TEORICA ´ CAP´ITULO 2. REVISAO. Constante dielétrica, er. para se realinharem depende da facilidade que os dipolos possuem em se reorientarem. O inverso desse tempo m´ınimo para reorientarem ´e chamado de frequˆ encia de relaxa¸ c˜ ao. Quando o campo el´etrico excede a frequˆencia de relaxa¸c˜ao do dipolo, ele n˜ao conseguir´a se manter na orienta¸c˜ao anterior. A rela¸c˜ao entre a constante diel´etrica εr e a frequˆencia do campo aplicado, est´a representada na figura (2.13). No gr´afico da figura (2.13) est´a representado tamb´em todos os tipos de polariza¸c˜ao. Analisando o gr´afico nota-se que a frequˆencia ´e apresentada em escala logar´ıtmica. Na transi¸ca˜o de um tipo de polariza¸c˜ao para outro ocorre uma queda abrupta da constante diel´etrica (Callister, 2000). Em determinadas frequˆencias ocorre uma perda substancial de energia de excita¸ca˜o, que ´e convertida em calor. Este processo ´e chamado de perda diel´etrica. Para aplica¸c˜ao dos materiais ´e obrigat´orio saber qual o intervalo de frequˆencias que causam perda diel´etrica (Hummel, 2004).. Orientação. Iônico. Eletrônico. 104. 108. 1012. 1016. Frequência (Hz). Figura 2.13: Comportamento da constante diel´etrica em fun¸ca˜o da frequˆencia. Figura retirada e adaptada de (Callister, 2000).. 2.5.6. Caracteriza¸ c˜ ao diel´ etrica. Propriedades diel´etricas tˆem grande importˆancia na aplica¸c˜ao de circuitos eletrˆonicos. Nos circuitos, a constante diel´etrica dos materiais e a perda diel´etrica s˜ao condi¸c˜oes especiais na opera¸ca˜o. Os dois parˆametros que definem a propaga¸c˜ao do campo eletromagn´etico no espa¸co s˜ao a permissividade el´etrica e a permeabilidade magn´etica. A permissividade el´etrica no espa¸co ´e altamente afetada quando ocupado por algum material (Gruyter, 2017). A permissividade el´etrica s˜ao medidas tipicamente realizadas em fun¸ca˜o da frequˆencia e da temperatura. As equa¸c˜oes de Maxwell permitem entender e explorar as propriedades diel´etricas dos materiais. Escrevendo as equa¸c˜oes de Maxwell, ~ ~ = − ∂B ∇×E ∂t 19. (2.50).

(35) ˜ TEORICA ´ CAP´ITULO 2. REVISAO. ~ ~ = J~ + ∂ D ∇×H ∂t. (2.51). ~ =ρ ∇·D. (2.52). ~ =0 ∇·B. (2.53). ~ ´e o deslocamento el´etrico, E ~ ´e o campo el´etrico, B ~ densidade de fluxo Onde D ~ ´e o campo magn´etico, ρ ´e a densidade de carga e J~ ´e densidade de corrente. magn´etico, H Vamos analisar as equa¸c˜oes de Maxwell em termos das propriedades diel´etricas. A lei de Amp´ere, equa¸c˜ao (2.51), pode ser escrita da seguinte forma: ~ = µJ~ + µ ∇×B. ~ ~ ∂D ∂E = µJ~ + µε . ∂t ∂t. (2.54). ~ pode ser escrito como o rotacional de um potencial vetor: O campo magn´etico B ~ = ∇ × A, ~ B. (2.55). substituindo a equa¸c˜ao (2.55) na equa¸c˜ao (2.54) temos que, ~ ~ = µJ~ + µε ∂ E . ∇ × (∇ × A) ∂t. (2.56). O campo el´etrico pode ser escrito em termos dos potenciais escalar e vetor, ~ ~ = −∇V − ∂ A , E ∂t. (2.57). substituindo a equa¸c˜ao (2.57) na equa¸c˜ao (2.56) temos que, ~ = µJ~ + µε ∂ ∇ × (∇ × A) ∂t. . ~ −∇ A ~ = µJ~ + µε ∂ ∇(∇ · A) ∂t 2. ~ ∂A − ∇V − ∂t. . . ~ ∂A − ∇V − ∂t. (2.58).  (2.59).   ~ ∂V ∂ 2A 2~ ~ ~ − µε 2 ∇(∇ · A) − ∇ A = µJ − ∇ µε ∂t ∂t. (2.60).   2~ ∂V ~ + µε ~ = µJ~ − µε ∂ A , ∇ ∇·A − ∇2 A ∂t ∂t2. (2.61). 20.

(36) ˜ TEORICA ´ CAP´ITULO 2. REVISAO a chamada condi¸ca˜o de Lorentz diz que, ∂V = 0, ∂t. (2.62). ~ ∂ 2A ~ = −µJ. ∂t2. (2.63). ~ + µε ∇·A utilizando na equa¸c˜ao (2.61) temos que, ~ − µε ∇2 A. A lei de Gauss, equa¸c˜ao (2.52), podemos escrever da seguinte forma: ~ = ρ, ∇·E ε. (2.64). substituindo a (2.57) na equa¸ca˜o (2.64) temos que,  ∇·. ~ ∂A − ∇V − ∂t. . ρ = , ε. (2.65). ∂ ~ = −ρ, (∇ · A) (2.66) ∂t ε utilizando a condi¸ca˜o de Lorentz, equa¸ca˜o (2.62), e substituindo na equa¸ca˜o (2.66) temos que,   ∂ ∂V ρ 2 ∇V + − µε =− , (2.67) ∂t ∂t ε ∇2 V +. ρ ∂ 2V =− . 2 ∂t ε A equa¸c˜ao da permissividade complexa pode ser derivada de, ∇2 V − µε. ~ = J~ + ε ∇×H. ~ ~ iωt ∂E ~ + ε ∂ E0 e , = σE ∂t ∂t. (2.68). (2.69). ~ ~ = J~ + ε ∂ E = σ E ~ + iωεE, ~ ∇×H ∂t. (2.70).   σ ~ ~ ~ ∇ × H = iω ε + E = iωε∗ E, iω. (2.71). logo, temos que a permissividade complexa que no presente caso estamos nos referindo a constante diel´etrica, pode ser escrita como: ε∗ = ε0 (ω) + iε00 (ω),. (2.72). da equa¸ca˜o (2.72), ε0 ´e a parte real da permissividade diel´etrica e a parte imagin´aria, ε00 .. 21.

(37) ˜ TEORICA ´ CAP´ITULO 2. REVISAO O ε00 ´e chamado de dissipa¸c˜ ao do campo el´ etrico dentro do diel´etrico, tan(δ) = ε00 /ε0 ,. (2.73). tan(δ) ´e chamado de fator de perdas diel´ etricas. O fenˆomeno de perda diel´etrica ´e um processo a qual a energia eletromagn´etica armazenada dentro do material ´e convertida em energia vibracional. Em termos cl´assicos, um campo el´etrico vari´avel no tempo se acopla a vibra¸co˜es polarizadas opticamente ativas dentro do diel´etrico. Essas vibra¸c˜oes de rede polarizadas se parecem com outros modos vibrat´orios atrav´es da anharmonicity e transferem irreversivelmente energia para eles. O efeito macrosc´opico observ´avel ´e um aumento da temperatura do material e consequentemente, uma diminui¸ca˜o da energia armazenada no meio diel´etrico (Breeze, 2016). De acordo com Frohlich (Frohlich, 1949), a permissividade complexa ´e: ε − ε∞ , (2.74) 1 − iωτ no qual ε ´e a constante diel´etrica para baixas frequˆencias, ε∞ constante diel´etrica em altas frequˆencias, ω ´e a frequˆencia angular e τ ´e o tempo de relaxa¸ca˜o. A parte real e a parte imagin´aria da constante diel´etrica s˜ao dadas por, ε∗ = ε∞ +. ε − ε∞ , 1 + ω2τ 2   ε − ε∞ 00 ε = ωτ. 1 + ω2τ 2 ε0 = ε∞ +. (2.75) (2.76). Fazendo uma an´alise das equa¸c˜oes (2.75) e (2.76) para baixas (ω −→ 0) e altas frequˆencias (ω −→ ∞). Quando ω −→ 0,. ε0 −→ ε. ε00 −→ 0.. e. Para o caso em que, ω −→ ∞,. 2.6. ε0 −→ ε∞. e. ε00 −→ 0.. Tiristor. Inicialmente iremos definir alguns conceitos que ajudar˜ao no entendimento do comportamento resistivo dos tiristores.. 22.

(38) ˜ TEORICA ´ CAP´ITULO 2. REVISAO Estado de condu¸c˜ao (on-Stage): condi¸ca˜o em que o tiristor encontra-se `a baixa resistˆencia. Estado desligado (off-Stage): condi¸c˜ao em que o tiristor encontra-se `a alta resistˆencia. Tens˜ao de ruptura (breakover voltage): tens˜ao de ponto de ruptura. Corrente de manuten¸c˜ao - IH (holding current): corrente m´ınima para manter o tiristor no estado de condu¸ca˜o. Corrente de bloqueio (latching current): corrente m´ınima necess´aria no estado de condu¸ca˜o imediatamente depois de passar do estado desligado para o estado de condu¸c˜ao, o sinal de disparo ter sido removido. Estado de ruptura reversa (reverse-blocking state): condi¸c˜ao em que a ruptura reversa do tiristor corresponde a uma por¸ca˜o da curva caracter´ıstica ˆanodo-c´atodo para correntes reversas de magnitude mais baixa do a`quela de bloqueio reverso. Tens˜ao reversa (reverse voltage): Tens˜ao negativa no sentido aˆnodo-c´atodo. Corrente reversa (reverse current): Corrente relacionada a tens˜ao negativa no sentido aˆnodo-c´atodo quando o tiristor se encontra no estado de ruptura reversa. Corrente de porta - Ig (gate-current): corrente que atravessa a porta. Corrente direta - IF (forward current): Quando o tiristor se encontra no estado de bloqueio reverso, ´e a corrente correspondente a tens˜ao positiva no sentido ˆanodo-c´atodo. A partir de agora vamos fazer uma apresenta¸ca˜o mais detalhada dos tipos de tiristores e seus respectivos comportamentos resistivos. O tiristor engloba uma fam´ılia de dispositivos semicondutores com multicamadas e tem como principal fun¸ca˜o ligar e desligar circuitos com grandes cargas, motores, aquecedores e outros mais. O funcionamento b´asico dos tiristores ´e o corte e a condu¸ca˜o de corrente ´ constitu´ıdo basicamente por 4 camadas de semicondutor p-n alternadas e el´etrica. E possui 3 eletrodos (ˆanodo, c´atodo, comando ou gate) (Eletr´onica, 2017), observe a figura (2.14). Existem v´arios tipos de tiristores, entre os quais temos: SCR (Retificador controlado de sil´ıcio), DIAC (Diode AC) e TRIAC (triode AC). Em seguida, discutiremos com mais detalhes esses tipos de tiristores. 23.

(39) ˜ TEORICA ´ CAP´ITULO 2. REVISAO. Figura 2.14: a) Estrutura de um tiristor p-n-p-n. SCR O SCR ´e utilizado como elemento retificador, o seu funcionamento inicia em sincronismo com a forma da onda AC que est´a sendo retificada. Para a atua¸ca˜o do SCR ´e preciso uma corrente el´etrica min´ıma (corrente de manuten¸c˜ao), depois que a corrente el´etrica ´e desligada ele ainda continua em atua¸c˜ao at´e que sua corrente el´etrica se torne menor que a corrente de manuten¸c˜ao. Na figura (2.15) temos a representa¸c˜ao de um SCR.. Figura 2.15: a) Representa¸ca˜o simb´olica de um SCR em circuitos el´etricos. b) Representa¸ca˜o real de um SCR. Figura retirada e adaptada de (Eletr´onica, 2017). Na figura (2.16), temos a curva caracter´ıstica I-V de um SCR. Para o caso de polariza¸c˜ao direta em que o aˆnodo ´e positivo com rela¸ca˜o ao c´atodo. Para valores de tens˜ao reduzida, o SCR apresenta uma alta impedˆancia e assim bloqueando o fluxo da corrente el´etrica, mas mesmo assim ainda existem as correntes de fuga. Com o aumento da tens˜ao at´e o ponto em que a corrente direta cresce rapidamente, este ponto ´e chamado de tens˜ ao de ruptura. Depois de atingir a tens˜ao de ruptura passa-se para o estado de condu¸ca˜o, a corrente el´etrica ´e limitada pela a impedˆancia externa. Para se manter no estado de condu¸ca˜o, a corrente direta resultante tem que ser maior que a corrente de bloqueio, caso contr´ario o dispositivo ir´a para o estado de bloqueio. Para o caso em quer o c´atodo ´e positivo com rela¸ca˜o ao aˆnodo, polariza¸c˜ao reversa, o 24.

(40) ˜ TEORICA ´ CAP´ITULO 2. REVISAO. Figura 2.16: Curva caracter´ıstica I-V de um tiristor SCR. Figura retirada e adaptada de (Blicher, 1976). dispositivo tem uma impedˆancia muito alta, a corrente el´etrica que atravessa ´e no sentido contr´ario e de baixo valor. Esta corrente se mant´em baixa at´e atingir a tens˜ao de ruptura reversa. Este ponto apresenta um fenˆomeno idˆentico ao efeito Zener nos diodos. Para este caso a corrente aumenta rapidamente mantendo a mesma tens˜ao, com isso ocorre uma destrui¸ca˜o do componente. DIAC O DIAC ´e um diodo para corrente alternada, pode ser dito que ´e um diodo que conduz corrente el´etrica nos dois sentidos, positivos e negativos. DIAC ´e um tipo de tir´ıstor, geralmente utilizado em circuitos el´etricos para acionar os TRIACs, o TRIAC ´e um outro tipo de tiristor que a seguir com mais detalhes. Observe a figura (2.18), nesta figura temos a curva caracter´ıstica I-V do DIAC, ou seja, o comportamento resistivo. O DIAC s´o conduz corrente el´etrica ap´os a tens˜ao de ruptura ser atingida, e para de conduzir quando a corrente cai abaixo de um valor pr´e-determinado, chamada de corrente de manuten¸c˜ao. Quando a tens˜ao de ruptura ´e atingida, ocorre uma queda abrupta na resistˆencia e com isso uma diminui¸ca˜o acentuada na tens˜ao do DIAC, consequentemente um aumento consider´avel na corrente el´etrica. Para a regi˜ao de polariza¸ca˜o inversa, o DIAC se comporta da mesma forma. Existe um valor de tens˜ao de ruptura inversa a qual tem que ser atingida para que inicie a condu¸c˜ao de corrente el´etrica. Para se manter no estado de condu¸c˜ao a corrente el´etrica tem que ser maior que a corrente de manuten¸c˜ao. O DIAC possui apenas dois terminais: MT1 e MT2. Terminal principal 1 (MT1) ou 25.

(41) ˜ TEORICA ´ CAP´ITULO 2. REVISAO. Figura 2.17: Representa¸c˜ao da curva caracter´ıstica I-V de um DIAC. Figura retirada e adaptada de (Tutorials, 2017). aˆnodo e terminal principal 2 (MT2) ou c´atodo, observe a figura (2.18).. Figura 2.18: Representa¸c˜ao simb´olica de um DIAC em circuitos el´etricos. Figura retirada e adaptada de (Notes, 2017).. 26.

(42) ˜ TEORICA ´ CAP´ITULO 2. REVISAO TRIAC O TRIAC ´e o equivalente a dois SCRs ligados em antiparalelo, ou seja, o c´atodo do primeiro SCR ´e o aˆnodo do segundo, e o ˆanodo do primeiro ´e o c´atodo do segundo. O gate de um ´e comum ao outro, eles s˜ao ligados um ao outro. A figura (2.19) tem a representa¸c˜ao de um TRIAC. Ele possui trˆes terminais: MT1, MT2 e gate. O terminal principal 1 (MT1), terminal principal 2 (MT2) e o gatilho ou comando (gate), estes s˜ao os nomes dos terminais do TRIAC.. Figura 2.19: a) Representa¸c˜ao simb´olica de um TRIAC em circuitos el´etricos. b) Representa¸c˜ao real de um TRIAC. Figura retirada e adaptada de (Eletr´onica, 2017). O TRIAC ´e um dispositivo eletrˆonico semicondutor que ´e amplamente utilizado, para controle do fluxo de corrente el´etrica em circuitos de corrente alternada, uma caracter´ıstica important´ıssima do TRIAC ´e que ele tem a capacidade de conduzir a corrente el´etrica nos dois sentidos, positivo e negativo. Para conduzir a corrente el´etrica em qualquer um dos dois sentidos ´e necess´ario a aplica¸ca˜o de um sinal el´etrico no gate do TRIAC. Este sinal el´etrico deve ser no m´ınimo igual a corrente de manuten¸c˜ao, a partir da´ı o dispositivo entra em modo de condu¸c˜ao, para se manter em modo de condu¸c˜ao, a corrente el´etrica aplicada sempre ter´a que ser maior que a corrente de manuten¸c˜ao. Caso a corrente seja menor, o TRIAC para de conduzir. A figura (2.20), mostra o comportamento da curva I-V de um TRIAC. Nesta figura est´a especificado todos os pontos relevantes para an´alise do gr´afico. A curva para o TRIAC apresenta o mesmo comportamento na regi˜ao de polariza¸c˜ao direta e inversa. O ponto entre a tens˜ao de ruptura direta ou inversa at´e o ponto da corrente de manuten¸c˜ ao, mostra uma regi˜ao de resistˆencia negativa.. 27.

(43) ˜ TEORICA ´ CAP´ITULO 2. REVISAO. Figura 2.20: Curva caracter´ıstica I-V de um TRIAC. Figura retirada e adaptada de (Blicher, 1976).. 28.

(44) Cap´ıtulo. 3. Procedimento Experimental As amostras de F eN bO4 estudadas nesse trabalho obedecem a seguinte nota¸ca˜o: M24h 1300C4h S1000C24h, M48h 1300C4h S1000C24h e M72h 1300C4h S1000C24h. O primeiro “M”da nota¸ca˜o significa moagem e o tempo que foram mo´ıdas, o segundo termo ´e a temperatura de calcina¸ca˜o seguida do tempo da mesma e por u ´ltimo, “S”´e a sinteriza¸c˜ao seguida da temperatura e do tempo. A mistura dos p´os precursores foi feita em moinho planet´ario, os p´os colocados em um cadinho de a¸co-endurecido e mo´ıdos em atmosfera livre (ar). As amostras est˜ao em formato de pastilhas. Em particular, foram realizadas medidas de difra¸ca˜o de raios-X (DRX), Fluorescˆencia de raios X, microscopia eletrˆonica de varredura (MEV), fluorescˆencia de raios - X (FRX), curvas I×V e permissividade diel´etrica (ε). Todas as amostras foram produzidas e caracterizadas no Laborat´orio de Nanoestruturas Magn´eticas e Semicondutoras (LNMS) da Universidade Federal do Rio Grande do Norte (UFRN). Inicialmente, foram adquiridos comercialmente os precursores para obten¸ca˜o do niobato de ferro. Esses precursores foram misturados com ´agua e colocados em um cadinho, obedecendo a estequiometria adequada.. 3.1. Amostras. Para se obter a fase desejado do FeNbO4 os p´os precursores foram misturados com a´gua destilada de acordo com a estequiometria da equa¸c˜ao (3.1). N b2 O5 + 2F e + 3H2 O −→ 2F eN bO4 + 3H2 ,. (3.1). O p´o de niobato de ferro foi preparado com ferro-Fe (99,5% de pureza), pent´oxido de ni´obio-Nb2 O5 (99,9% de pureza) e ´agua destilada-H2 O, o ferro foi adquirido pela Merck,. 29.

Referências

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