Sputtering reativo
Estudo das propriedades ópticas e vibracionais de filmes de GaN dopados com Mn elaborados por RF Magnetron Sputtering Reativo
... O nitreto de Gálio (GaN) têm recebido grande atenção nos últimos anos devido a sua possível aplicação em semicondutor magnético diluído (DMS) pela incorporação de íons como o Manganês (Mn). No entanto, a preparação ...
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Filmes finos de óxidos de vanádio depositados por sputtering reativo
... Alguns aspectos importantes do processo de deposição por “sputtering” reativo dos óxidos de vanádio emergem de uma análise visual do aspecto das amostras. Estas, quando retiradas da câmara, apresentaram uma ...
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Propriedades estruturais e mecânicas do carbeto de vanádio obtido por magnetron sputtering reativo
... Como os carbetos possuem uma maior dureza em relação aos nitretos, o revestimento de carbeto de vanádio mostra algumas propriedades distintas na aplicação em ferramentas de corte. Por exemplo, o V 2 O 5 é um lubrificante ...
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Deposição e caracterização de filmes finos de TiOx formados por DC Magnetron Sputtering reativo : estudo de transição estrutural
... Magnetron Sputtering reativo é possível com alguns ajustes de parâmetros de deposição, controlar o índice de refração dos filmes através da formação de uma determinada estrutura cristalina ou até mesmo ...
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Efeito da pressão em filmes finos de ZnO:Al por RF Magnetron sputtering reativo
... Filme finos de AZO foram sintetizados sobre substratos de vidro utilizando um alvo de Zn-Al (5% at Al) com 99,999% de pureza através da técnica RF magnetron sputtering reativo a temperatura ambiente. As ...
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FABRICAÇÃO E CARACTERIZAÇÃO DE NITRETO DE ALUMÍNIO OBTIDO POR SPUTTERING REATIVO VISANDO SUA APLICAÇÃO EM MEMS_RUBENS MARTINS CUNHA JUNIOR
... Neste trabalho é apresentado um estudo sobre a fabricação e caracterização do nitreto de alumínio obtido por Magnetron Sputtering reativo. Visto que o AlN é um material pizoelétrico, o objetivo principal ...
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Análise da deposição de filmes finos semicondutores de GaN e GaN e Ga1-xMnxN preparados por sputtering reativo
... de sputtering é uma rota alternativa e mais simples para a produção destes ...de sputtering reativo e aplicamos aprimoramentos, como uma caixa ...
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Crescimento de filmes finos de NbN por magnetron sputtering reativo
... Filmes finos foram produzidos pela técnica de magnetron sputtering reativo utilizando o equipamento disponível no LMMM. Foram variados os parâmetros de deposição: pressão parcial de nitrogênio, temperatura ...
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Avaliação da resistência à corrosão em meio salino dos recobrimentos de ZrN e ZrSiN depositados em aço inoxidável 304L por magnetron sputtering reativo
... magnetron sputtering reativo, dos filmes de ZrN e ZrSiN contendo diferentes concentrações de silício, obtidas pela relação Si/(Zr+Si) %, caracterizar os materiais e analisar a resistência à corrosão em meio ...
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Efeitos estruturais e ópticos da incorporação de Mn em filmes nanocristalinos de 'GA IND.1-x'MN IND.XN' preparados por sputtering reativo
... por sputtering na faixa de energia mencionada indica a presença de uma maior desordem estrutural e eletrônica neste material quando comparada com o filme monocristalino de ...
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Deposição e caracterização de filmes de óxido de cobalto por sputtering reativo
... Porém a simulação mostrou que ocorrem colisões mais energéticas dos íons de oxigênio no substrato quando a potência de deposição é dobrada, esse aumento da energia cinética dos íons de[r] ...
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Deposição de nano-camadas de VO2 por Magnetron Sputtering
... “magnetron sputtering” reativo, visando determinar os parâmetros de deposição, em especial a temperatura do substrato (T s ) e pressão parcial de Oxigênio (P O2 ), adequadas para a obtenção da fase VO 2 ...
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Efeitos de tratamentos térmicos em filmes nanocristalinos de TIO2 preparados por sputtering
... pela técnica de sputtering reativo foram investigados. Foram realizadas duas deposições, variando somente a temperatura de substrato, com aquecimento de 450°C e sem aquecimento e foram obtidos filmes com ...
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ESTUDO DAS PROPRIEDADES DOS FILMES DE FOSFATO DE CÁLCIO PRODUZIDOS PELA TÉCNICA DE SPUTTERING
... Os filmes finos de fosfato de cálcio foram preparados utilizando o sistema de sputtering da marca Leybold Heraeus modelo Z 400 com eletrodos coplanares, incluindo a fonte. O sistema está ilustrado na figura 3.1 o ...
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Estudo de defeitos em filmes finos de ZnO depositados por Rf-sputtering
... No capítulo 3 desta dissertação efetuou-se uma descrição generalista do papel dos defeitos nas propriedades óticas do ZnO, tendo-se subdividido a luminescência do material em duas regiões distintas, a observada nas ...
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Monitorização e Otimização da Deposição de Filmes de Óxidos Mistos por RF-Sputtering
... O trabalho desenvolvido e apresentado nesta tese consistiu no estudo da deposição, pela técnica de pulverização catódica RF assistida por magnetrão, de filmes de óxidos mistos [r] ...
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Estudo estrutural e ótico de filmes de ZnO/MgO por RF-sputtering
... iónica. Sputtering (S), consiste na taxa de remoção de átomos da superfície de um alvo devido ao bom- bardeamento de iões, sendo de nido como o número médio de átomos removidos (a) por ião incidente (i inc ): ...
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Aplicação de um sistema magnetron Sputtering para obtenção de filmes anti-corrosivos
... O diagrama é dividido «n (piatro zonas. A prcmimciada estrutiaa da zona 1 ocorre devido a rugosidades no sid>strato, alta pressão de aigdnio, e c(mq)onaites oblíquas do fluxo de deposição. A zona de transição, zona T, ...
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Dissertação de Mestrado “Emissão óptica de plasma e desenvolvimento de a-Si:H por sputtering”
... 9 também conhecidas como “dangling bonds”, na estrutura dos filmes. Em processos de deposição física na fase de vapor PVD, para pressões de base maiores que 10 -8 Torr as superfícies dos substratos terão camadas atômicas ...
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Deposição de A/N por sputtering não reativo
... Neste trabalho depositamos via magnetron sputtering de rádio-frequência não reativo nano- filmes de nitreto de alumínio (AlN). Os nanofilmes de nitreto de alumínio são materiais semi- condutores com alta ...
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