fundlda concorda com ClirQua el al l19]. No anl.anto, a. medidas da relardayio para os filmes de 5i02 desle lrabalho for am da ordem de lnm a ser comparada COlT.15nm do lrabalho de CerQUa el al U9]. Alem disso, calculou-sa a lensio e realizou-s& a arn.lise do efeilo Que0 sub.lralo lem na medida.
O. resullados pareC8m indicar urn aumento da lansoio com 0 lrata-
menlo lermico. Hil urna di.lribuiyio da lensoees ao 10ngo do filme para 600·C rllla- cionada, possivelmanlR. ia evapora9~0 de agua e produlos org~nic05. 0 filme apre- sentou, em geral, pi co. de ll!nsees. A analise ao microscOpio oUco mo.trou Que 0
filme apresenta muilos defeilos Que podem justifioar a eXist.encla dest.es picos.
o
procedimenlo experimental para a analise de defl!ilos pede ser considerado correto. As medidas para 0 defeito no substrato liveram lna boa esta-bihdade mecanica. Porem. esla nao e satisfal6ria para defellos de oeQV'!na exlen- soao como foi observado para 0 filme de ITO. Nao ocorreram mudanyas do eEtado compressivo para tensil. A analise por EDX nao mediu variayao da concentra~aQ de indio e Eslanho fora e dentro do defeilo. Nao ha lambem a presenya de um elemen- to e~~c1fico dent.ro do defeilo 0 Que possiblit.a de~cartar a hi06lese de uma rea-
~ao Q·Jimica. Desta forma.
e
mais provavel Que e~te~ defeitos sejam cristais.Deve se finalizar 8ste trabalho com suge&tees para futuros aprimo- ramenlos e pesauisas. Primeiramente, 0 elipsorroelro pode ser melhorado com a digi-
talizarao dos valores de Reo USiO d. urn lioflware ad&Quado. A utilizay~o dR urn
molor de paS50 no goniomelro pos5ibililara urna calibra9ao do eQuipamenlo com rMl- lhor resolu~ao Dara 0 angulo de eXlinyao 0 laser de He-Ne deveria ser toracado
por uma fonle mais estavel. A luz poderia s.r conduzida a06s 0 anali.ador pOr urna
fibra otica
a
fotomulliplioadora.A escolha do silicio como subst.rato foi adeQuada. Neo se pede afir- mar 0 mesmo com.rl!layio ao tratamenlo Lermico. 0 procedimento correto .aria 0 u- 50 de urna atmosfera redutora para evilar 0 crescimenlo da cameda de silica Lermi-
ca. Alem dililiO,0 t.ralamento t8rmlco de curla durayio a 1000·C nao levou em conla
ralur~6 como 5iáfir~ ou uma composiçi;o de camada. TiO:/SiO:. sobre um 5ubst.rato de ~ilicio O especlro ne~le no\'~ ~·..Jt>slralopermitirá medir nã~ apena~ o irdlce de refr~çio para camadas densificadas como lambQmum~ melhor análi5e dos .h.itos da sllica lérmica abaixo do filme
O eli05ômelro QUCI medQ o porfil de lenaõe5 oode delerminar a bir- refri9êncle de dlverEos malerlais trar'\sparente!5. Est.e tipo de medida é consldera- d~ de grande imPOrlSnci~ alualmenle ~ lamtllámum oro;'to em andamenlo no ~r;lido de BJu!!:tarQ ehpsômelro para medida de t.ens0es em vidros fluoradC's. O objet.!vo
é
a análíse da evoluçio t.emporal das t.ensõe6 no malerial auando &5t.iVQr sUJelto a temperaturas abaixo de 300·C. De5ta forma. pode-se estudar o comportamento t.emoo- r~l do rel~x~mento de tensões dur~nle o t.ratamento térmico de racozimenlo. A princlPal dificuldade nQ5la medid~ é o ~ju.te de um peQueno forno dentro da caix~ oreta para Que aE oscil~çoes lármicas não comprometam o funclonamento dos com- ponente» ótlCOS.
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